ニッケル マンガン ガリウム

ニッケル・マンガン・ガリウム（NiMnGa）スパッタリングターゲット概要

ニッケル・マンガン・ガリウム
スパッタリングターゲットは、多成分ニッケル基合金ターゲットであり、主に機能性合金薄膜および磁気構造結合関連材料の成膜・調製に使用されます。

当社は、精密な組成比と緻密な構造を備えたNiMnGaスパッタリングターゲットを提供可能で、様々なサイズとプロセス要件に対応します。技術情報についてはお問い合わせください。

製品の特徴

安定した多成分組成制御
均一な合金微細構造
優れた薄膜組成再現性
マグネトロンスパッタリングプロセスへの適合性
高ターゲット密度
カスタマイズ可能なボンディング
・バックプレーン
カスタム加工対応

ニッケルマンガンガリウムスパッタリングターゲットの用途

機能性合金薄膜作製：特殊な磁気特性や構造応答特性を持つ合金薄膜の作製に適し、機能性材料の研究・応用ニーズに対応。
スマート材料・応答材料研究：スマート材料及び関連応答メカニズム研究において、多元素相乗効果薄膜構造の構築に使用。
微細構造・デバイス開発：薄膜組成の一貫性と構造安定性が要求される用途において、微細構造デバイス用機能層成膜に使用可能。
科学研究・新素材探索：研究機関における多元素合金系、薄膜構造制御、性能進化の実験研究に広く活用。

よくある

質問Q1: NiMnGaスパッタリングターゲットはどのスパッタリングプロセスに適していますか？
A1: 従来のマグネトロンスパッタリングプロセスで使用可能です。具体的なプロセスパラメータは装置条件に応じて最適化が必要です。

Q2: ターゲットの三元成分比は調整可能ですか？
A2: はい、薄膜性能目標に応じて異なる成分比のカスタマイズソリューションを提供可能です。

Q3: 多元素ターゲットは成膜中に安定していますか？
A3: 適切な電力・雰囲気条件下では、良好な成膜安定性を維持できます。

Q4: 研究・実験用途に適していますか？
A4: はい。研究開発・検証段階向けに小型サイズや非標準仕様も提供可能です。

報告書

各バッチに付属：
分析証明書（COA）
技術データシート（TDS）
物質安全データシート（MSDS）
寸法検査報告書
第三者試験報告書はご要望に応じて提供可能

なぜ当社を選ぶのか？

当社は多成分合金スパッタリングターゲットの調製・加工において豊富な経験を有し、組成精度・構造均一性・プロセス適合性を重視しており、機能性薄膜や新素材の研究に信頼性の高いサポートを提供できます。