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ターゲット・ボンディング

ターゲットボンディングは、熱的・機械的に安定したボンディング層を用いてスパッタリングターゲットをバックプレーンに取り付ける工程である。これは、スパッタリングターゲット、特に高出力または高温蒸着システムで使用されるターゲットの準備において重要な工程である。

ボンディングは、薄膜蒸着中の最適な熱伝導性、機械的支持、操作の安全性を保証する。

なぜターゲット・ボンディングが不可欠なのか?

高純度で壊れやすいターゲット(セラミックや一部の金属など)の多くは、熱応力や機械的衝撃で割れたり剥離したりしやすい。ターゲットの接合は以下のような利点がある:

スパッタリング中の熱放散の促進

壊れやすいターゲットの機械的安定性の向上

アーク放電、クラック、早期破損のリスクの低減

ターゲット寿命の延長とプロセスの一貫性の向上

均一な成膜と安定したプラズマ性能の確保

ITOターゲット接合 - VIMATERIAL

バッキング・プレートの選択

材料要件

一般的なバッキングプレートの材質は、無酸素銅(OFC)、ステンレス鋼、モリブデンなど。一般的な厚さは2~3mmです。

優れた電気伝導性

無酸素銅は、標準的な銅に比べて熱伝導性と電気伝導性に優れているため、広く使用されています。

十分な強度

バッキングプレートが薄すぎると、変形しやすく、適切な真空シールができません。

構造オプション

バッキングプレートは、用途に応じて、ソリッド構造または内部冷却チャンネル付き構造のいずれかを選択できます。

最適な厚さ

厚すぎると磁場強度が低下し、薄すぎると反りのリスクが高まります。

我々が提供するターゲット・ボンディング・メソッドとは?

1.クランピング(機械的プレス)

この方法はプレッシャーバーを使用し、接触を改善するためにグラファイト箔、鉛(Pb)、インジウム(In)箔などの材料を使用することが多い。しかし、この方法は信頼性が低く、市場に受け入れられにくいため、現在ではほとんど使用されていません。

2.はんだ付け(ろう付け)

ソフトはんだ付けは、特にインジウム、スズ、またはIn-Sn合金を用いた最も一般的な方法である。熱伝導性がよく、スパッタリング電力が20W/cm²以下の場合に一般的に使用される。特にセラミックターゲットの熱放散を改善するのに有効である。

3.導電性銀エポキシ

より高いスパッタリングパワーが必要で、従来のインジウムはんだは融点が低いため熱に耐えられない場合に使用されます。銀エポキシは高温に耐えることができ、非常に薄い層(0.02~0.05mm)で塗布される。一般的には、より高い耐熱性が必要とされる特殊な工程で使用されます。

当社の強み

✅ 包括的な互換性

金属、セラミックス、複合材料用の平面ターゲット、回転(チューブラー)ターゲット、複雑な形状をサポートします。

✅ クリーンルームでのターゲット接合環境

汚染を防ぎ、接合の完全性を確保するため、当社の接合作業は管理されたクリーンルーム条件下で行われます。

✅ 精密マッチング

ターゲットとバックプレート間の熱膨張を正確に一致させ、使用中の反りや剥離を防ぎます。

✅ 自社加工と検査

トレーサビリティと再現性を確保するため、シートの準備から最終的な品質管理まで、すべての工程を厳格な品質管理のもとで社内で行っています。

✅ ボンディング+アンボンディング・サービス

バックプレートの再利用やターゲットの交換を希望されるお客様には、アンボンディングおよびリボンディングサービスも提供しています。

✅ グローバルサポートと迅速な納品

短いリードタイムと迅速な技術アドバイスで、国際的なボンディングサービスを提供します。

なぜバッキング・プレート・セパレーションなのか?

過度のスパッタリング温度

高温は無酸素銅を酸化させ、歪ませる。セラミックターゲットは熱応力によりクラックが発生し、剥離につながる可能性がある。

過度の電流

高電流は急激な温度上昇を引き起こします。はんだの溶融が不均一になると、接合不良や最終的な剥離につながる可能性があります。

不十分な冷却

循環冷却水の出口温度が35℃を超えると、放熱効率が悪くなり、剥離のリスクが高まります。

代表的なアプリケーション

半導体とマイクロエレクトロニクス

ディスプレイ技術(OLED、LCD、LED)

光学および装飾コーティング

太陽電池

データストレージ(HDD、ブルーレイ)

ボンディングが必要なターゲットをお持ちですか?性能と信頼性を最大化するために、適切なバックプレートとボンディング方法を選択するお手伝いをいたします。

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