フッ素ドープ酸化スズ（FTO）

フッ素ドープ酸化錫スパッタリングターゲット 概要

フッ素ドープ酸化スズスパッタリングターゲットは、導電性透明薄膜成膜プロセス用に特別に設計された高性能材料で、様々な光電子デバイスの製造に適しています。精密に制御された組成と高純度により、優れた密度、導電性、透明性を実現し、均一な膜形成、良好な密着性、優れたオプトエレクトロニクス性能を可能にします。

弊社では、丸型や長方形など様々な形状やサイズのフッ素ドープ酸化錫スパッタリングターゲットを提供しており、お客様の特定のニーズに合わせてカスタマイズすることも可能です。また、専門的な技術サポートおよび包括的な アフターサービスを提供しています。

製品ハイライト

純度：99.99
優れた導電性と光透過性
高密度、均一成膜、良好な密着性
サイズ、ドーピング濃度、形状のカスタマイズが可能
ターゲット接着 使用可能
低温または高温スパッタリングシステムに適合

フッ素ドープ酸化錫スパッタリングターゲットの用途

太陽電池色素増感太陽電池やペロブスカイト太陽電池の透明導電電極として使用される。
フラットパネルディスプレイLCDやOLEDなどのディスプレイパネルの透明電極として使用されます。オプトエレクトロニクスデバイス受光素子、光電センサー、スマートウィンドウなどの透明導電性薄膜デバイスに使用される。
タッチパネルITOに代わるタッチパネルの透明電極層として使用される。

レポート

弊社では 分析証明書（COA）製品安全データシート（MSDS）、および関連技術レポートをFTOスパッタリングターゲットの各バッチに添付しています。材料の品質が業界基準を満たしていることを確認するため、ご要望に応じて第三者機関による試験報告書をご提供いたします。