インジウム-ガリウム-亜鉛酸化物（IGZO）

インジウム-ガリウム-酸化亜鉛顆粒の概要

インジウム-ガリウム-酸化亜鉛(In2O3-Ga2O3-ZnO）顆粒は、透明エレクトロニクス、薄膜トランジスタ（TFT）、フラットパネルディスプレイに広く使用されている高純度酸化物半導体材料です。優れた電子移動度、光学的透明性、安定した組成を持つIGZO顆粒は、スパッタリングターゲット、薄膜コーティング、研究用途に理想的な原料です。当社のIGZO顆粒は、純度99.99% (4N)、緻密な形態、均一な粒子分布で製造されており、工業用および実験室用の両方で安定した性能を保証します。

弊社は高品質のインジウム-ガリウム-亜鉛酸化物（IGZO）顆粒をカスタマイズされたサイズ範囲で提供し、様々な薄膜蒸着技術をサポートします。

IGZO顆粒の製品ハイライト

高純度：99.99% (4N)の純度により、半導体およびディスプレイ用途で優れた性能を発揮します。
安定した組成均一なIn:Ga:Zn:O比により、薄膜特性の再現性を保証します。
優れた電気的性能：高度なTFT用途に適した高い電子移動度。
柔軟な粒子サイズ：スパッタリングターゲットや研究用に、さまざまな粒径をご用意しています。
幅広い用途フラットパネルディスプレイから透明オプトエレクトロニクスまで。

In2O3-Ga2O3-ZnO顆粒の用途

スパッタリングターゲット製造IGZOスパッタリングターゲットの原料。
薄膜トランジスタ（TFT）：OLEDおよびLCDディスプレイのアクティブマトリクスバックプレーンに使用される。
透明エレクトロニクスフレキシブルで透明な導電層に最適。
オプトエレクトロニクス デバイス：光検出器、センサー、ディスプレイのバックプレーンに使用される。
科学研究：半導体や酸化物薄膜の研究に使用される。

当社を選ぶ理由?

専門知識：酸化物半導体材料の専門家
カスタマイズされたソリューション：柔軟な顆粒サイズと組成制御。
信頼できる品質：厳密なICP-MS制御による低不純物レベル。
グローバル配送：安全な梱包で迅速にお届けします。
技術サポート：COA、TDS、MSDS、不純物レポートがご利用いただけます。

よくある質問

F1.In2O3-Ga2O3-ZnO顆粒の純度を教えてください。
A1.標準純度は99.99% (4N)で、先端TFTおよびディスプレイ技術に適しています。

F2.顆粒のサイズはカスタマイズできますか？
A2.1～6mmが標準ですが、カスタマイズも可能です。

F3.IGZO粒子は主に何に使用されますか？
A3.主にスパッタリングターゲット、薄膜トランジスタ、透明電子デバイスに使用されます。

F4.インジウム-ガリウム-亜鉛酸化物顆粒はどのように包装されていますか？
A4.汚染を防ぐため、真空密封された帯電防止容器に梱包されています。

F5.注文ごとに技術資料を提供してもらえますか？
A5.はい、COA、TDS、MSDS、ICP-MSによる不純物分析レポートを提供します。

レポート

各バッチには以下が添付されています：
分析証明書 (COA)
技術データシート（TDS）
製品安全データシート（MSDS）
第三者機関による試験報告書は、ご要望に応じて入手可能です。