炭化ハフニウム顆粒は、薄膜蒸着プロセスおよび高温用途向けに特別に設計された高性能材料です。卓越した硬度、高温耐性、化学的安定性を備え、過酷な環境での使用に適しています。その優れた物理的特性により、高温真空環境、高性能薄膜、セラミックコーティングに広く使用されている。
当社では、様々な粒径の炭化ハフニウム顆粒を提供しており、お客様の特定の要件に合わせてカスタマイズすることも可能です。また、包括的なアフターサービスも提供しています。ご連絡ください。 お気軽にお問い合わせください。
純度：99.9
高密度により安定した薄膜形成が可能
カスタマイズ可能な仕様とパッケージ
用途 半導体半導体、光学コーティング、高温真空環境に最適
高温用途：HfC顆粒は融点が非常に高く、コーティング、薄膜、高温環境でのコーティングに適しています。
セラミックコーティング耐摩耗性と耐食性を高める高温セラミックコーティングに使用される。
光学用コーティング高反射率光学コーティングの形成に使用され、ミラーコーティングや光学部品に広く使用されている。
高性能薄膜高導電性で安定した薄膜の成膜に適している。
弊社では 分析証明書（COA）製品安全データシート(MSDS)などの関連報告書を各出荷品に添付しています。また、品質保証を強化するため、第三者機関による試験もサポートしています。
分子式HfC
分子量：190.0 g/mol
外観滑らかな表面の黒色顆粒
密度約12.7 g/cm³（理論密度に近い）
融点約3,900°C
結晶構造六方最密充填 (hcp)
包装：真空シールされた袋と、汚染や湿気を防ぐための箱詰め。
外箱梱包：サイズと重量に応じて選択されたカートンまたは木枠。
