酸化ハフニウム 顆粒は、高性能の薄膜蒸着および機能性材料の調製用に設計された高純度セラミック粉末です。その卓越した純度、均一な粒子径、優れた熱安定性、および化学的不活性は、半導体、光学、および先端セラミック用途の厳しい要件を満たしています。
当社は、様々な粒子径の酸化ハフニウム顆粒を提供しており、お客様のニーズに合わせてカスタマイズすることも可能です。また、包括的な技術サポートおよび アフターサービスを提供しています。
純度：99.99
薄膜やセラミック作製に適した均一な粒子径
優れた熱安定性と化学的不活性
カスタマイズ可能な粒子径とパッケージングオプション
半導体、光学、セラミック、触媒用途に最適
半導体産業デバイスの性能と安定性を向上させるため、高κ誘電体薄膜の調製に使用されます。
光学コーティング高屈折率で耐摩耗性の光学フィルムの製造に使用される。
セラミック材料高温耐摩耗性セラミックスや機能性セラミックスの調製に使用されます。
触媒担体化学的に安定しているため、触媒担体材料として適している。
詳細な 分析証明書（COA）HfO₂ペレットの各バッチについて、詳細な分析証明書（COA）、製品安全データシート（MSDS）、およびその他の関連試験報告書を提供します。また、製品の品質が国際規格およびお客様の要件を満たしていることを確認するために、第三者機関による試験もサポートしています。
分子式HfO₂
分子量： 210.49 g/mol
外観白色顆粒
密度約9.68g/cm³（理論密度に近い）
融点約2,758 °C
結晶構造単斜晶系が主で、熱処理により正方晶系と立方晶系に変化する。
包装：バキュームシールされた袋に入れられ、汚染や湿気を防ぐために箱詰めされている。
外箱梱包：サイズと重量に応じて選択されたカートンまたは木枠。
