アルミニウムイットリウムイッテリビウム酸化物スパッタリングターゲットは、優れた熱安定性、機械的強度、強化された光学的または磁気的特性を必要とする高度な薄膜蒸着用途向けに設計された高品質のセラミック複合ターゲットです。酸化イッテルビウム 酸化イッテルビウム (Yb₂O₃)を アルミナ-イットリアマトリックスに組み込むことにより、ユニークな発光特性と機能特性が付与され、フォトニクス、オプトエレクトロニクス、保護コーティング技術に理想的なターゲットとなっている。
制御された焼結およびホットプレスプロセスを通じて超高純度原料粉末から製造される当社のAl₂O₃-Y₂O₃-Yb₂O₃ターゲットは、優れた密度、均一な微細構造、および一貫したスパッタリング性能を提供します。また、包括的なアフターサービスも提供しています。 お問い合わせお問い合わせください。
調整されたAl₂O₃、Y₂O₃、Yb₂O₃比の高純度アルミニウム・イットリウム・イッテルビウム酸化物セラミック複合体（≥99.5%）。
高密度・低気孔率により均一なターゲット侵食を実現
Yb₂O₃ドーピングによる発光特性と磁気特性の向上
特定の要件を満たすためにカスタマイズ可能なサイズ、形状、組成
オプトエレクトロニクス＆フォトニクス光学特性を強化した薄膜発光コーティングおよびデバイス
保護コーティング：工業用工具および部品用の硬質耐摩耗フィルム
磁性膜センサーおよび先端電子デバイス用機能層
MEMSとセンサー高性能センシングアプリケーション用特殊薄膜
分析証明書（COA）
製品安全データシート（MSDS）
密度および純度試験結果
ご要望に応じて、オプションで第三者機関による試験および認証も承ります。
当社は、信頼性の高い酸化アルミニウムイットリウムイッテルビウムスパッタリングターゲットサプライヤーとして、優れた膜質、優れた密着性、安定した成膜性能のために設計された高純度、高密度のターゲットを提供しています。当社の製品は、低不純物、精密な化学量論、カスタマイズ可能なサイズと組成を特徴としており、光学コーティング、先端エレクトロニクス、およびフォトニクス用途の要求を満たします。厳格な品質管理、技術的専門知識、およびグローバルでコンプライアンスに準拠したデリバリーにより、お客様の重要なプロジェクトに一貫した信頼できる供給をお約束します。
化学式：Al₂O₃-Y₂O₃-Yb₂O₃
外観研磨された滑らかな表面を持つ高密度の白いセラミックターゲット
密度通常3.6-4.0 g/cm³（組成による）
融点： 2000 °C
結晶構造：コランダム（Al₂O₃）、立方晶蛍石（Y₂O₃およびYb₂O₃）相
熱伝導率：中程度の熱伝導率で、スパッタリング中のターゲット温度を安定させる。
化学的安定性：優れた耐酸化性と耐食性
危険物として分類されていない
包装：コンタミネーションや湿気から保護するため、真空パックされている。
外箱サイズと重量に応じて、カートンまたは木箱。
壊れやすい対象物：安全な輸送を確保するため、特別な保護梱包を使用します。
