サマリウム金属

サマリウムスパッタリングターゲット概要

サマリウムスパッタリングターゲットは、ハイエンド薄膜蒸着プロセス用に特別に開発された希土類金属ターゲットで、優れた純度と密度を有しています。磁性材料、光学コーティング、電子デバイス、機能性フィルムの作製、特に精密なドーピングや磁気特性の制御が必要な分野で、幅広い適用性と安定性を示します。

当社は、円形、長方形、環状など様々な仕様の高純度サマリウムスパッタリングターゲットを提供することができ、個別のサイズカスタマイズやボンディングバックプレーン（銅バックプレーンなど）に対応しています。また、弊社は専門的な技術サポートチームを備えており、お客様の使用プロセスにおけるすべてのリンクが保証されていることを保証します。ご遠慮なく お問い合わせ.

製品ハイライト

純度：99.95%、不純物が少ない。
高密度で、フィルム組成物の一貫性と接着性を確保
サイズ、形状、表面処理のカスタマイズが可能（優れた平坦性）
焼結ターゲットや鋳造ターゲットなど、さまざまなプロセスタイプが可能
ターゲットのボンディングサービスが可能

サマリウムスパッタリングターゲットの用途

磁性材料: SmCo永久磁石材料の成膜に使用し、成膜層の磁気異方性を高める。
光学コーティング：近赤外領域での反射性能の向上、または機能性反射層の設計に使用
電子デバイス: 半導体構造のドーピングや界面制御に使用される。
エネルギー材料：燃料電池膜、熱電材料などの複合成膜に使用できる。

レポート

サマリウム金属スパッタリングターゲットの各バッチについて、分析証明書（COA）、製品安全データシート（MSDS）およびその他の試験報告書を提供します。製品性能がお客様のプロセス要件に適合していることを確認するため、第三者による試験および検証をサポートします。