ULPMAT

光学材料

純度。精度。性能。

ULPMATでは、光学に関する深い専門知識、厳格な品質管理、卓越したカスタマイズ能力を活用し、フォトニクス、レーザーシステム、イメージング技術などの要求の厳しい用途に合わせた高純度、高性能の光学材料を提供しています。

カルコゲナイドガラス材料

カルコゲナイドガラスは、硫黄(S)、セレン(Se)、テルル(Te)などの元素から構成され、優れた赤外透過率と望ましいガラス形成特性を有しています。高性能の赤外光学材料として、近赤外、中赤外、遠赤外スペクトルを良好に透過し、様々な光学部品に広く使用されている。

ゲルマニウム単結晶は、もう一つの重要な赤外光学材料であり、民生・軍事両分野の赤外線サーマルイメージングシステムに広く使用されている。

カルコゲナイドガラスは、ゲルマニウムと比較して、同程度の赤外透過性能を約35%のコストで提供し、熱光学係数が低いため、受動的な非加熱光学システムの設計が可能です。また、動作温度範囲が広い(-40℃~70℃)という特徴もあり、幅広い用途に適しています。

しかし、高熱膨張や低軟化点などの課題により、コーティングや表面処理がより厳しくなる可能性があります。

代表的な赤外線光学材料

  • ZnS
  • ZnSe
  • Ge
  • Si
  • GaAs

カルコゲナイドガラスの特徴と利点

組成の柔軟性:

S、Se、Teを主成分とし、As、Ge、P、Sb、Al、Siと組み合わせて安定したガラス母材を形成することができる。ハロゲン元素を導入してカルコハライドガラスを作ることもできる。

高い透過率:

1-3μm、3-5μm、8-12μmの帯域で優れた透過率を示し、中・長波長赤外光学部品の主要な大気窓をカバーする。

優れた加工性:

溶融急冷法により製造されるため、高効率かつ低コストでの製造が可能。複雑な形状の光学部品の大量生産に適しており、加工効率はダイヤモンド切削加工の10倍以上です。

熱安定性:

熱光学係数が低いため、サーマルイメージングシステムにおける焦点と色収差の抑制に貢献します。

低分散:

アクロマートや非熱光学設計に対応し、システム構成を簡素化し、重量とコストを削減します。

DFMグレードフッ素材料

フッ化物は、優れた紫外、可視、赤外透過率、低屈折率、最小分散を持つ光学材料であり、精密光学部品に理想的です。

代表的なフッ化物材料:

CaF₂ (フッ化カルシウム)
MgF₂ (フッ化マグネシウム)
BaF₂ (フッ化バリウム)
SrF₂ (フッ化ストロンチウム)
AlF₃ (フッ化アルミニウム)
LiF (フッ化リチウム)
希土類フッ化物:
YF₃ (フッ化イットリウム)
YbF₃ (フッ化イッテルビウム)
DyF₃ (フッ化ジスプロシウム)
CeF₃ (フッ化セリウム)
LaF₃ (フッ化ランタン)
NdF₃ (フッ化ネオジム)
GdF₃ (フッ化ガドリニウム)
ErF₃ (フッ化エルビウム)

DFM Grade Fluoride 2 W 1920px DFM Grade Fluoride 1 W 1920px ZnSe granules W 1920px DFM Grade Fluoride 3 W 1920px

これらのフッ化物は、高い光学透明度、低屈折率、低分散を提供し、紫外および赤外光学システムに最適です。

応用例

1.DUV光学部品 – 半導体リソグラフィー、UVレーザーウィンドウ
2.赤外光学システム – IRウィンドウとレンズ
3.放射線検出および線量測定 – 熱ルミネッセンス線量計(TLD)
4. 多層光学コーティング – 反射防止および反射コーティング

酸化物結晶

Aluminum Oxide (Al₂O₃)
Silicon Dioxide (SiO₂)
Magnesium Oxide (MgO)
Titanium Dioxide (TiO₂)

Optics materials

これらの酸化物材料は、その優れた熱安定性、機械的強度、様々な波長にわたる光学的透明性により、光学、電子、レーザー用途に広く使用されています。

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