{"id":57709,"date":"2026-01-20T13:46:07","date_gmt":"2026-01-20T05:46:07","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/silicio-2\/"},"modified":"2026-01-20T13:46:07","modified_gmt":"2026-01-20T05:46:07","slug":"silicio-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/silicio-2\/","title":{"rendered":"Silicio"},"content":{"rendered":"

Silicio <\/a><\/span>I bersagli rotanti sono materiali di sputtering cilindrici progettati per i sistemi di sputtering a magnetrone e per la deposizione di film sottili su grandi superfici. Rispetto ai tradizionali bersagli planari in silicio, i bersagli rotanti garantiscono un maggiore sfruttamento del materiale, un funzionamento continuo pi\u00f9 stabile e sono adatti ad applicazioni industriali di rivestimento, tra cui rivestimenti ottici, tecnologie fotovoltaiche, ricerca sui semiconduttori e applicazioni avanzate con film sottili.<\/p>\n

Siamo in grado di fornire bersagli rotanti in silicio con diverse strutture e dimensioni in base alle esigenze delle apparecchiature, garantendo la comunicazione di processo e l\u2019integrazione tecnica. Vi invitiamo a contattateci<\/a><\/span> per soluzioni su misura.<\/p>\n

Panoramica sui bersagli rotanti in silicio<\/span><\/h2>\n

I<\/a><\/span> (Si) sono bersagli di sputtering cilindrici ad alta purezza utilizzati nei sistemi di sputtering a magnetrone per i processi di deposizione fisica da vapore (PVD). Il silicio \u00e8 un semiconduttore e un materiale funzionale ampiamente utilizzato grazie alle sue eccellenti propriet\u00e0 elettriche, caratteristiche ottiche e stabilit\u00e0 chimica. Nelle applicazioni di sputtering, i bersagli in silicio sono comunemente utilizzati per depositare film sottili a base di silicio destinati a dispositivi elettronici, rivestimenti ottici, tecnologie per l\u2019energia solare e applicazioni di ricerca.<\/p>\n

Rispetto ai tradizionali bersagli planari in silicio, i bersagli rotanti offrono un migliore utilizzo del bersaglio e cicli operativi pi\u00f9 lunghi, rendendoli adatti a processi di rivestimento ad alta produttivit\u00e0. ULPMAT fornisce bersagli rotanti in silicio ad alta purezza con specifiche personalizzate, tra cui livello di purezza, dimensioni, requisiti di incollaggio e opzioni di imballaggio.<\/p>\n

Specifiche chiave del bersaglio rotante in silicio<\/span><\/h2>\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n
Parametro<\/strong><\/td>\nSpecifiche<\/strong><\/td>\n<\/tr>\n
Materiale<\/td>\nSilicio (Si)<\/td>\n<\/tr>\n
Formula chimica<\/td>\nSi<\/td>\n<\/tr>\n
Numero CAS<\/td>\n7440-21-3<\/td>\n<\/tr>\n
Purezza<\/td>\n99,999% \/ 99,95% (La purezza \u00e8 determinata dal processo.)<\/td>\n<\/tr>\n
Tipo di bersaglio<\/td>\nRotativo<\/td>\n<\/tr>\n
Forma<\/td>\nCilindrica<\/td>\n<\/tr>\n
Processo<\/td>\nDeposizione per sputtering con magnetron<\/td>\n<\/tr>\n
Incollaggio<\/td>\nDisponibile su richiesta<\/td>\n<\/tr>\n
Dimensioni personalizzate<\/td>\nDisponibili<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n
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Vantaggi dei target rotanti in silicio<\/span><\/h2>\n

Elevato sfruttamento del materiale:<\/strong> I bersagli rotanti offrono generalmente un’efficienza di utilizzo superiore rispetto ai bersagli planari, poich\u00e9 l’erosione avviene in modo continuo lungo la superficie cilindrica. Ci\u00f2 contribuisce a ridurre la frequenza di sostituzione del bersaglio e migliora l’efficienza produttiva nei processi di sputtering di lunga durata.<\/p>\n

Deposizione stabile di film sottili:<\/strong> La geometria cilindrica dei bersagli rotanti consente una distribuzione stabile del plasma e un comportamento di erosione costante, contribuendo a mantenere una qualit\u00e0 uniforme del film sottile durante le operazioni di rivestimento in continuo.<\/p>\n

Adatti al rivestimento di grandi superfici:<\/strong> I bersagli rotanti in silicio sono particolarmente adatti ai sistemi di rivestimento di grandi superfici in cui sono richiesti una deposizione uniforme e un funzionamento prolungato.<\/p>\n<\/div>\n<\/div>\n

Applicazioni dei bersagli rotanti in silicio<\/span><\/h2>\n

Deposizione di film sottili su grandi superfici:<\/strong> Adatti ai processi di deposizione di film sottili su substrati di grandi dimensioni, contribuiscono a migliorare l\u2019uniformit\u00e0 del film e la stabilit\u00e0 del processo.
\nProcessi di rivestimento per display e fotovoltaico:<\/strong><\/a><\/span> Nella produzione di pannelli per display e di celle fotovoltaiche a film sottile, la struttura del bersaglio rotante \u00e8 in grado di soddisfare i requisiti di produzione continua in termini di uniformit\u00e0 di deposizione.
\nPreparazione di rivestimenti funzionali:<\/strong> Adatti alla preparazione di rivestimenti elettrici, ottici<\/a><\/span>o protettivi, soddisfacendo i requisiti prestazionali di diversi scenari applicativi.
\nRicerca e sviluppo e convalida dei processi:<\/strong> Ampiamente utilizzati per ottimizzare i nuovi parametri di processo e studiare il comportamento dei materiali, garantendo test stabili in condizioni di sputtering rotante.<\/p>\n

Target rotante in silicio vs target planare in silicio<\/span><\/h2>\n\n\n\n\n\n\n\n\n
Caratteristiche<\/strong><\/td>\nTarget rotante in silicio<\/strong><\/td>\nTarget in silicio planare<\/strong><\/td>\n<\/tr>\n
Utilizzo del bersaglio<\/td>\nSuperiore<\/td>\nInferiore<\/td>\n<\/tr>\n
Funzionamento continuo<\/td>\nEccellente<\/td>\nLimitato<\/td>\n<\/tr>\n
Rivestimento di grandi superfici<\/td>\nAdatto<\/td>\nAdatto<\/td>\n<\/tr>\n
Frequenza di sostituzione del bersaglio<\/td>\nInferiore<\/td>\nPi\u00f9 elevata<\/td>\n<\/tr>\n
Deposizione su scala industriale<\/td>\nPreferibile<\/td>\nLimitata<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n

Personalizzazione disponibile<\/span><\/h2>\n

ULPMAT fornisce bersagli rotanti in silicio con specifiche personalizzate in base alle esigenze del cliente.<\/p>\n

Le opzioni disponibili includono:<\/p>\n