{"id":55580,"date":"2025-12-12T13:26:12","date_gmt":"2025-12-12T05:26:12","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/solfuro-di-zinco\/"},"modified":"2025-12-12T13:26:12","modified_gmt":"2025-12-12T05:26:12","slug":"solfuro-di-zinco","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/solfuro-di-zinco\/","title":{"rendered":"Solfuro di zinco"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Che cos&#8217;\u00e8 il target di sputtering al solfuro di zinco (ZnS)?<\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=name&#038;keyword=Zinc+sulfide\">Il target di solfuro di zinco <\/a><\/span>\u00e8 un materiale ceramico composto composto da zinco e zolfo in un rapporto stechiometrico quasi 1:1. \u00c8 ampiamente utilizzato nei processi di deposizione fisica del vapore (PVD) per la produzione di film sottili ottici e infrarossi. Lo ZnS \u00e8 classificato come semiconduttore composto II-VI con un ampio bandgap di circa: 3,5 &#8211; 3,7 eV\u3002Questo ampio bandgap ne consente l&#8217;uso nei rivestimenti ottici che richiedono un&#8217;elevata trasparenza dalle lunghezze d&#8217;onda del visibile all&#8217;infrarosso.<\/p>\n<p data-start=\"707\" data-end=\"899\">ULPMAT fornisce target di sputtering ZnS ad alta densit\u00e0 con microstruttura controllata, bassi livelli di impurit\u00e0 e comportamento di deposizione stabile per applicazioni PVD sia su scala industriale che di ricerca.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Propriet\u00e0 del materiale del target di sputtering al solfuro di zinco<\/span><\/h2>\n<p>Lo ZnS presenta caratteristiche sia di semiconduttore che di ceramica ottica, a seconda delle condizioni di deposizione.<\/p>\n<ul>\n<li>Propriet\u00e0 fisiche fondamentali:<\/li>\n<li>Formula chimica: ZnS<\/li>\n<li>Struttura cristallina: Blenda di zinco (cubica) \/ Wurtzite (esagonale)<\/li>\n<li>Densit\u00e0 teorica: ~4,09 g\/cm\u00b3<\/li>\n<li>Comportamento alla fusione\/decomposizione: ~1.185\u00b0C (decomposizione parziale in condizioni di vuoto)<\/li>\n<li>Energia di bandgap: 3,5 &#8211; 3,7 eV<\/li>\n<li>Intervallo di trasmissione: ~0,4 \u00b5m &#8211; 12 \u00b5m (dipende dalla densit\u00e0 e dalla struttura del film)<\/li>\n<li>Indice di rifrazione (n): ~2,2 &#8211; 2,5 a 550 nm<\/li>\n<li>L&#8217;assorbimento ottico aumenta significativamente con:<\/li>\n<li>contaminazione da ossigeno &gt; ~100 ppm<\/li>\n<li>carenza di zolfo nella crescita del film<\/li>\n<\/ul>\n<h2 data-section-id=\"1wdnsgi\" data-start=\"1441\" data-end=\"1466\"><span style=\"font-size: 14pt;\">Prestazioni del target di sputtering ZnS nella <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/en.wikipedia.org\/wiki\/Thin_film\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">Deposizione di film sottili<\/a><\/span><\/span><\/h2>\n<p>I target ZnS sono tipicamente utilizzati nei sistemi di sputtering magnetronico RF grazie alla loro natura composta.<\/p>\n<p>Finestra tipica del processo di sputtering:<br \/>\nDensit\u00e0 di potenza RF: 1 &#8211; 5 W\/cm\u00b2<br \/>\nPressione di lavoro: 2 &#8211; 10 mTorr (atmosfera Ar)<br \/>\nTemperatura del substrato: &lt; 200\u00b0C raccomandata<br \/>\nGas di deposizione: Argon (Ar), talvolta con O\u2082 controllato &lt; 1-3%<br \/>\nConsiderazioni sul comportamento del processo:<br \/>\nBassa pressione (&lt;2 mTorr): maggiore densit\u00e0 del film ma maggiore rischio di stress<br \/>\nElevata potenza (&gt;5 W\/cm\u00b2): aumento del rischio di rievaporazione dello zolfo<br \/>\nTemperatura elevata (&gt;250\u00b0C): pu\u00f2 verificarsi una deviazione stechiometrica<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Perch\u00e9 la densit\u00e0 del target \u00e8 importante per lo sputtering di ZnS\uff1f<\/span><\/h2>\n<p>La densit\u00e0 del target influenza direttamente la stabilit\u00e0 del plasma e la qualit\u00e0 del film.<\/p>\n<p><strong>I target ad alta densit\u00e0 (\u226595% di densit\u00e0 teorica) forniscono:<\/strong><\/p>\n<ul>\n<li>migliore uniformit\u00e0 di sputtering<\/li>\n<li>una ridotta generazione di particelle<\/li>\n<li>un migliore controllo stechiometrico<\/li>\n<\/ul>\n<p><strong>I target a bassa densit\u00e0 possono introdurre:<\/strong><\/p>\n<ul>\n<li>archi elettrici legati a microvuoti<\/li>\n<li>tasso di deposizione instabile<\/li>\n<li>crescita non uniforme del film sottile<\/li>\n<\/ul>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Controllo della stechiometria e qualit\u00e0 del film<\/span><\/h2>\n<p data-start=\"2802\" data-end=\"2878\">Le prestazioni dei film sottili di ZnS dipendono in larga misura dal controllo del rapporto Zn:S.<\/p>\n<ul data-start=\"2880\" data-end=\"3076\">\n<li data-section-id=\"1iqm94z\" data-start=\"2880\" data-end=\"2917\">Stechiometria ideale: <strong data-start=\"2903\" data-end=\"2917\">Zn:S \u2248 1:1<\/strong><\/li>\n<li data-section-id=\"12qwoez\" data-start=\"2918\" data-end=\"3076\">La carenza di zolfo porta a:\n<ul data-start=\"2950\" data-end=\"3076\">\n<li data-section-id=\"tojoqb\" data-start=\"2950\" data-end=\"2997\">aumento dell&#8217;assorbimento ottico nell&#8217;intervallo visibile<\/li>\n<li data-section-id=\"hw69pr\" data-start=\"3000\" data-end=\"3032\">trasmissione degradata nell&#8217;infrarosso<\/li>\n<li data-section-id=\"1fgzq5c\" data-start=\"3035\" data-end=\"3076\">maggiore densit\u00e0 di difetti nella struttura del film<\/li>\n<\/ul>\n<\/li>\n<\/ul>\n<div class=\"qMYqUG_convSearchResultHighlightRoot\">\n<div class=\"\" data-turn-id-container=\"request-6a06f851-d8c8-83eb-9f8f-0c6983367fc1-22\" data-is-intersecting=\"true\">\n<section class=\"text-token-text-primary w-full focus:outline-none has-data-writing-block:pointer-events-none [&amp;:has([data-writing-block])&gt;*]:pointer-events-auto R6Vx5W_threadScrollVars scroll-mb-[calc(var(--scroll-root-safe-area-inset-bottom,0px)+var(--thread-response-height))] scroll-mt-[calc(var(--header-height)+min(200px,max(70px,20svh)))]\" dir=\"auto\" data-turn-id=\"request-6a06f851-d8c8-83eb-9f8f-0c6983367fc1-22\" data-turn-id-container=\"request-6a06f851-d8c8-83eb-9f8f-0c6983367fc1-22\" data-testid=\"conversation-turn-26\" data-scroll-anchor=\"false\" data-turn=\"assistant\">\n<div class=\"text-base my-auto mx-auto pb-10 [--thread-content-margin:var(--thread-content-margin-xs,calc(var(--spacing)*4))] @w-sm\/main:[--thread-content-margin:var(--thread-content-margin-sm,calc(var(--spacing)*6))] @w-lg\/main:[--thread-content-margin:var(--thread-content-margin-lg,calc(var(--spacing)*16))] px-(--thread-content-margin)\">\n<div class=\"[--thread-content-max-width:40rem] @w-lg\/main:[--thread-content-max-width:48rem] mx-auto max-w-(--thread-content-max-width) flex-1 group\/turn-messages focus-visible:outline-hidden relative flex w-full min-w-0 flex-col agent-turn\">\n<div class=\"flex max-w-full flex-col gap-4 grow\">\n<div class=\"min-h-8 text-message relative flex w-full flex-col items-end gap-2 text-start break-words whitespace-normal outline-none keyboard-focused:focus-ring [.text-message+&amp;]:mt-1\" dir=\"auto\" tabindex=\"0\" data-message-author-role=\"assistant\" data-message-id=\"f04484bc-15b0-4585-ae7b-e8d260c4b94b\" data-message-model-slug=\"gpt-5-3-mini\" data-turn-start-message=\"true\">\n<div class=\"flex w-full flex-col gap-1 empty:hidden\">\n<div class=\"markdown prose dark:prose-invert wrap-break-word w-full light markdown-new-styling\">\n<p data-start=\"0\" data-end=\"160\" data-is-last-node=\"\" data-is-only-node=\"\">La contaminazione da ossigeno superiore a ~100 ppm pu\u00f2 aumentare in modo misurabile la perdita ottica, mentre livelli intorno a ~500 ppm possono portare a una significativa degradazione della trasparenza del film.<\/p>\n<h2 data-start=\"0\" data-end=\"160\"><span style=\"font-size: 14pt;\">Processo di produzione dei target di sputtering al solfuro di zinco<\/span><\/h2>\n<p data-start=\"3290\" data-end=\"3373\">I target ULPMAT ZnS sono prodotti in condizioni controllate di lavorazione della ceramica:<\/p>\n<ul data-start=\"3375\" data-end=\"3704\">\n<li data-section-id=\"1i5b3dq\" data-start=\"3375\" data-end=\"3431\">Materia prima ZnS di elevata purezza <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/solfuro-di-zinco-2\/\">Materia prima ZnS di elevata purezza<\/a><\/span>selezione (99,99%)<\/li>\n<li data-section-id=\"bkguzc\" data-start=\"3432\" data-end=\"3491\">Controllo delle dimensioni delle particelle (D50 tipicamente nell&#8217;intervallo dei micrometri)<\/li>\n<li data-section-id=\"8ng2ms\" data-start=\"3492\" data-end=\"3531\">Stampaggio a freddo o a caldo<\/li>\n<li data-section-id=\"xo7o48\" data-start=\"3532\" data-end=\"3581\">Sinterizzazione ad alta temperatura o densificazione HIP<\/li>\n<li data-section-id=\"5occww\" data-start=\"3582\" data-end=\"3640\">Lavorazione di precisione per la planarit\u00e0 e il controllo dimensionale<\/li>\n<li data-section-id=\"3hxtni\" data-start=\"3641\" data-end=\"3704\">Ispezione finale (densit\u00e0, microstruttura, integrit\u00e0 superficiale)<\/li>\n<\/ul>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazione del target di sputtering al solfuro di Z<\/span><span style=\"font-size: 14pt;\">inc Sulfide Sputtering Target<\/span><\/h2>\n<p data-start=\"126\" data-end=\"341\"><strong data-start=\"126\" data-end=\"147\"><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/applicazione\/materiali-ottici\/\">Rivestimenti ottici<\/a><\/span>:<\/strong> Rivestimenti antiriflesso (AR), sistemi di filtri ottici multistrato e rivestimenti di finestre ad alta trasmissione sono applicazioni chiave dei target di sputtering al solfuro di zinco per la deposizione di film sottili ottici.<\/p>\n<p data-start=\"343\" data-end=\"554\"><strong data-start=\"343\" data-end=\"369\">Applicazioni nell&#8217;infrarosso:<\/strong> Le finestre dei sensori IR (sistemi a 3-12 \u00b5m), i componenti ottici per le immagini termiche e gli assemblaggi ottici aerospaziali utilizzano i target di sputtering al solfuro di zinco per le prestazioni del rivestimento ottico a infrarossi.<\/p>\n<p data-start=\"556\" data-end=\"776\"><strong data-start=\"556\" data-end=\"595\">Ricerca e materiali semiconduttori:<\/strong> Gli studi sui semiconduttori composti II-VI, lo sviluppo di film sottili di calcogenuri e la ricerca sui dispositivi fotonici si affidano ai target di sputtering ZnS nelle applicazioni di ingegneria dei materiali avanzati.<\/p>\n<\/div>\n<\/div>\n<\/div>\n<\/div>\n<h2 class=\"z-0 flex min-h-[46px] justify-start\"><span style=\"font-size: 14pt;\">ZnS rispetto ad altri materiali per lo sputtering ottico<\/span><\/h2>\n<table style=\"border-collapse: collapse; width: 77.7207%; height: 96px;\">\n<tbody>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 19.9472%; height: 24px; border-style: solid; border-color: #000000; text-align: center;\"><strong>Materiale<\/strong><\/td>\n<td style=\"width: 19.9472%; text-align: center; height: 24px; border-style: solid; border-color: #000000;\"><strong>Bandgap<\/strong><\/td>\n<td style=\"width: 19.9472%; text-align: center; height: 24px; border-style: solid; border-color: #000000;\"><strong>Trasmissione IR<\/strong><\/td>\n<td style=\"width: 19.9472%; text-align: center; height: 24px; border-style: solid; border-color: #000000;\"><strong>Stabilit\u00e0<\/strong><\/td>\n<td style=\"width: 19.9472%; text-align: center; height: 24px; border-style: solid; border-color: #000000;\"><strong>Applicazione<\/strong><\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 19.9472%; height: 24px; text-align: center; border-style: solid; border-color: #000000;\">ZnS<\/td>\n<td style=\"width: 19.9472%; height: 24px; text-align: center; border-style: solid; border-color: #000000;\">3.5-3,7 eV<\/td>\n<td style=\"width: 19.9472%; height: 24px; text-align: center; border-style: solid; border-color: #000000;\">Alta (fino a ~12 \u00b5m)<\/td>\n<td style=\"width: 19.9472%; height: 24px; text-align: center; border-style: solid; border-color: #000000;\">Medio<\/td>\n<td style=\"width: 19.9472%; height: 24px; text-align: center; border-style: solid; border-color: #000000;\">Rivestimenti ottici\/IR<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 19.9472%; height: 24px; text-align: center; border-style: solid; border-color: #000000;\"><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=name&#038;keyword=ZnSe\">ZnSe<\/a><\/span><\/td>\n<td style=\"width: 19.9472%; height: 24px; text-align: center; border-style: solid; border-color: #000000;\">~2,7 eV<\/td>\n<td style=\"width: 19.9472%; height: 24px; text-align: center; border-style: solid; border-color: #000000;\">Gamma IR pi\u00f9 elevata<\/td>\n<td style=\"width: 19.9472%; height: 24px; text-align: center; border-style: solid; border-color: #000000;\">Media<\/td>\n<td style=\"width: 19.9472%; height: 24px; text-align: center; border-style: solid; border-color: #000000;\">Ottica IR<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 19.9472%; height: 24px; text-align: center; border-style: solid; border-color: #000000;\"><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=name&#038;keyword=CdS\">CdS<\/a><\/span><\/td>\n<td style=\"width: 19.9472%; height: 24px; text-align: center; border-style: solid; border-color: #000000;\">~2,4 eV<\/td>\n<td style=\"width: 19.9472%; height: 24px; text-align: center; border-style: solid; border-color: #000000;\">IR limitato<\/td>\n<td style=\"width: 19.9472%; height: 24px; text-align: center; border-style: solid; border-color: #000000;\">Inferiore<\/td>\n<td style=\"width: 19.9472%; height: 24px; text-align: center; border-style: solid; border-color: #000000;\">Fotoconduttori<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<div class=\"mt-3 w-full empty:hidden\">\n<h2 class=\"text-center\"><span style=\"font-size: 14pt;\">Specifiche tecniche<\/span><\/h2>\n<table style=\"height: 168px; width: 51.7454%; border-collapse: collapse; border-color: #0d0c0c; border-style: solid;\">\n<tbody>\n<tr style=\"border-color: #0d0505;\">\n<td style=\"width: 37.9722%; height: 24px; text-align: center; border-color: #050404; border-style: solid;\"><strong>Parametro<\/strong><\/td>\n<td style=\"width: 62.0278%; height: 24px; text-align: center; border-color: #050404; border-style: solid;\"><strong>Valore<\/strong><\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"border-color: #0d0505;\">\n<td style=\"width: 37.9722%; height: 24px; text-align: center; border-color: #050404; border-style: solid;\">Materiale<\/td>\n<td style=\"width: 62.0278%; height: 24px; text-align: center; border-color: #050404; border-style: solid;\"><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/solfuro-di-zinco\/\">Solfuro di zinco (ZnS)<\/a><\/span><\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"border-color: #0d0505;\">\n<td style=\"width: 37.9722%; height: 24px; text-align: center; border-color: #050404; border-style: solid;\">Purezza<\/td>\n<td style=\"width: 62.0278%; height: 24px; text-align: center; border-color: #050404; border-style: solid;\">99.99%<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"border-color: #0d0505;\">\n<td style=\"width: 37.9722%; height: 24px; text-align: center; border-color: #050404; border-style: solid;\">Densit\u00e0<\/td>\n<td style=\"width: 62.0278%; height: 24px; text-align: center; border-color: #050404; border-style: solid;\">\u226595% teorica<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"border-color: #0d0505;\">\n<td style=\"width: 37.9722%; height: 24px; text-align: center; border-color: #050404; border-style: solid;\">Forma<\/td>\n<td style=\"width: 62.0278%; height: 24px; text-align: center; border-color: #050404; border-style: solid;\">Disco \/ Rotante \/ Personalizzato<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"border-color: #0d0505;\">\n<td style=\"width: 37.9722%; height: 24px; text-align: center; border-color: #050404; border-style: solid;\">Modalit\u00e0 di sputtering<\/td>\n<td style=\"width: 62.0278%; height: 24px; text-align: center; border-color: #050404; border-style: solid;\">RF \/ Magnetron<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"border-color: #0d0505;\">\n<td style=\"width: 37.9722%; height: 24px; text-align: center; border-color: #050404; border-style: solid;\">Applicazione<\/td>\n<td style=\"width: 62.0278%; height: 24px; text-align: center; border-color: #050404; border-style: solid;\">Film sottili ottici e IR<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\n<\/div>\n<\/section>\n<\/div>\n<\/div>\n<h2><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/azienda\/domande-frequenti\/\"><span style=\"font-size: 14pt;\">Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n<p>Q1: Perch\u00e9 lo ZnS \u00e8 utilizzato principalmente nello sputtering RF?<br \/>\nA1: Perch\u00e9 lo ZnS \u00e8 un materiale semiconduttore composto che richiede un plasma RF per un controllo stabile dello sputtering.<\/p>\n<p>Q2: Cosa influisce maggiormente sulla qualit\u00e0 ottica del film sottile di ZnS?<br \/>\nA2: Il controllo della stechiometria e la contaminazione da ossigeno sono i fattori pi\u00f9 critici.<\/p>\n<p>D3: Qual \u00e8 la temperatura tipica del substrato per la deposizione di ZnS?<br \/>\nA3: Di solito \u00e8 inferiore a 200\u00b0C per evitare la perdita di zolfo e la deviazione della composizione.<\/p>\n<p>D4: Perch\u00e9 \u00e8 importante un target ZnS ad alta densit\u00e0?<br \/>\nA4: Una maggiore densit\u00e0 migliora la stabilit\u00e0 del plasma e riduce la formazione di particelle.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Relazione<\/span><\/h2>\n<p>Ogni lotto viene fornito con:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/certificato-di-analisi\/\"><u>Certificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/scheda-tecnica\/\"><u>Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/scheda-di-sicurezza\/\"><u>Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Perch\u00e9 <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/azienda\/informazioni-su-ulpmat\/\">ULPMAT<\/a> <\/span>Bersaglio di sputtering ZnS\uff1f<\/span><\/h2>\n<p data-start=\"5569\" data-end=\"5649\">ULPMAT fornisce target ZnS progettati per la deposizione stabile di film sottili:<\/p>\n<ul data-start=\"5651\" data-end=\"5791\">\n<li data-section-id=\"88hese\" data-start=\"5651\" data-end=\"5692\">Densit\u00e0 e microstruttura controllate<\/li>\n<li data-section-id=\"18rk77g\" data-start=\"5693\" data-end=\"5726\">Prestazioni di sputtering stabili<\/li>\n<li data-section-id=\"1v5rrzz\" data-start=\"5727\" data-end=\"5753\">Basso rischio di contaminazione<\/li>\n<li data-section-id=\"1hmawla\" data-start=\"5754\" data-end=\"5791\">Qualit\u00e0 costante da lotto a lotto<\/li>\n<\/ul>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Che cos&#8217;\u00e8 il target di sputtering al solfuro di zinco (ZnS)? Il target di solfuro di zinco \u00e8 un materiale ceramico composto composto da zinco e zolfo in un rapporto stechiometrico quasi 1:1. \u00c8 ampiamente utilizzato nei processi di deposizione fisica del vapore (PVD) per la produzione di film sottili ottici e infrarossi. 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