{"id":51733,"date":"2026-01-06T11:35:39","date_gmt":"2026-01-06T03:35:39","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/cromo-carburo-di-alluminio\/"},"modified":"2026-01-06T11:35:39","modified_gmt":"2026-01-06T03:35:39","slug":"cromo-carburo-di-alluminio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/cromo-carburo-di-alluminio\/","title":{"rendered":"Cromo Carburo di alluminio"},"content":{"rendered":"

Target di sputtering in carburo di cromo e alluminio Panoramica<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin carburo di cromo e alluminio<\/a><\/span>
\nsono materiali ad alte prestazioni con eccellente stabilit\u00e0 termica e resistenza all’ossidazione, adatti ad ambienti ad alta temperatura e altamente corrosivi. Sono comunemente utilizzati nella deposizione di film sottili e nelle tecnologie di rivestimento avanzate e trovano ampia applicazione nell’elettronica, nell’aerospaziale e nella scienza dei materiali.<\/p>\n

Offriamo target di sputtering Cr2AlC ad alta purezza, che garantiscono un funzionamento stabile in processi di deposizione complessi. Non esitate a contattarci<\/a><\/span>
\nper qualsiasi richiesta specifica sul prodotto o domanda tecnica.<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Elevata stabilit\u00e0 termica
\nEccellente resistenza all’ossidazione
\nDimensioni e forma precise del target
\nBuona conduttivit\u00e0 elettrica
\nLega<\/a><\/span>
\ne piastra di supporto personalizzabili
\nAdatto per rivestimenti avanzati e deposizione di film sottili
\nForti capacit\u00e0 di personalizzazione<\/a><\/span><\/p>\n

Applicazioni dei target di sputtering in carburo di cromo e alluminio<\/span><\/h2>\n

Deposizione di film sottili:<\/strong>
\nutilizzati per la deposizione di film sottili ad alte prestazioni, in particolare nella produzione di dispositivi ottici e semiconduttori, migliorano la durata e la funzionalit\u00e0 dei prodotti.
\nRivestimenti anticorrosivi:<\/strong>
\nampiamente utilizzati nell’industria aerospaziale come rivestimenti anticorrosivi, rimangono stabili in condizioni estreme di alta temperatura e in ambienti difficili, proteggendo le attrezzature dalla corrosione.
\nRivestimenti duri:<\/strong>
\nl’elevata durezza del Cr2AlC lo rende adatto per rivestimenti duri su utensili e macchinari, migliorandone la resistenza all’usura.
\nDispositivi elettronici:<\/strong>
\nnell’industria elettronica, viene utilizzato come rivestimento e materiale strutturale per componenti di fascia alta, migliorando la stabilit\u00e0 e la durata dei dispositivi.<\/p>\n

Domande<\/span><\/h2>\n

frequenti
\nD1: Qual \u00e8 la temperatura massima di esercizio del bersaglio di sputtering in carburo di cromo e alluminio?
\nR1: I bersagli di sputtering Cr2AlC<\/a><\/span>
\nhanno eccellenti prestazioni alle alte temperature, in grado di funzionare in modo stabile a temperature fino a 1000 \u00b0C, rendendoli adatti per applicazioni in ambienti ad alta temperatura.<\/p>\n

D2: Per quali metodi di deposizione di film sottili \u00e8 adatto questo prodotto?
\nA2: Adatto a vari metodi di deposizione di film sottili come la polverizzazione magnetronica e la polverizzazione ionica, ampiamente utilizzati nella produzione di dispositivi elettronici di fascia alta e film sottili ottici<\/a><\/span>
\n.<\/p>\n

D3: Il bersaglio di polverizzazione in carburo di cromo e alluminio \u00e8 resistente all’ossidazione?
\nA3: S\u00ec, ha un’eccellente resistenza all’ossidazione e pu\u00f2 essere utilizzato in modo stabile per lunghi periodi in ambienti ad alta temperatura e corrosivi.<\/p>\n

D4: Qual \u00e8 la conduttivit\u00e0 elettrica del bersaglio in carburo di cromo e alluminio?
\nA4: Eccellente conduttivit\u00e0 elettrica, adatta a varie applicazioni elettroniche ed elettriche, che garantisce prestazioni elettriche stabili.<\/p>\n

Rapporti<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporto di controllo delle dimensioni
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Siamo specializzati nella ricerca e sviluppo e nella produzione di target di sputtering ad alte prestazioni, con anni di esperienza nel settore e un accumulo tecnologico. Scegliendo noi otterrete target di sputtering Cr2AlC di alta qualit\u00e0, servizi di personalizzazione<\/a><\/span>
\nefficienti e un supporto tecnico<\/a><\/span>
\ncompleto,<\/a><\/span>
\nche vi aiuteranno ad avere successo nelle vostre applicazioni.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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