{"id":50513,"date":"2026-01-08T14:45:11","date_gmt":"2026-01-08T06:45:11","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/carburo-di-vanadio\/"},"modified":"2026-01-08T14:45:11","modified_gmt":"2026-01-08T06:45:11","slug":"carburo-di-vanadio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/carburo-di-vanadio\/","title":{"rendered":"Carburo di vanadio"},"content":{"rendered":"

Target di sputtering in carburo di vanadio Panoramica<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin carburo di vanadio<\/a><\/span>
\nsono target funzionali che combinano elevata durezza ed elevata stabilit\u00e0 chimica, adatti a vari processi di deposizione fisica da vapore. I film sottili preparati con essi mostrano prestazioni eccezionali in termini di resistenza all’usura, stabilit\u00e0 termica e densit\u00e0 strutturale.<\/p>\n

Offriamo target di sputtering in carburo di vanadio in varie specifiche e con diversi schemi di controllo della composizione. Contattateci<\/a><\/span>
\nper la personalizzazione<\/a><\/span>
\ne l’assistenza tecnica.<\/a><\/span><\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Sistema target ad alta durezza
\nProcesso di sputtering stabile
\nBuona densit\u00e0 del film
\nEccellente resistenza all’usura
\nElevata stabilit\u00e0 chimica
\nSpecifiche e strutture personalizzabili<\/p>\n

Applicazioni dei target di sputtering in carburo di vanadio<\/span><\/h2>\n

Preparazione di film funzionali resistenti all’usura:<\/strong>
\nadatti per la preparazione di film resistenti all’usura ad alta durezza, migliorano significativamente la durata e la resistenza all’usura delle superfici dei substrati.
\nRivestimenti protettivi ad alta temperatura:<\/strong>
\ngrazie alla sua eccellente stabilit\u00e0 termica, \u00e8 possibile depositare rivestimenti protettivi per l’uso in ambienti ad alta temperatura, mantenendo la stabilit\u00e0 strutturale e prestazionale.
\nModifica della superficie di utensili e stampi:<\/strong>
\nla formazione di film di carburo di vanadio sulle superfici di utensili o stampi tramite sputtering aiuta a ridurre il coefficiente di attrito e a migliorare la durata complessiva.
\nMateriali funzionali e ricerca scientifica sui film sottili:<\/strong>
\nquesto bersaglio di sputtering \u00e8 comunemente utilizzato nella ricerca sui film sottili funzionali e sulle nuove strutture di rivestimento, adatto per applicazioni in laboratorio e su scala pilota.<\/p>\n

Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

D1: A quale metodo di deposizione \u00e8 adatto il bersaglio di sputtering al carburo di vanadio?
\nR1: Questo bersaglio \u00e8 utilizzato principalmente nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD). Il processo di sputtering \u00e8 stabile e l’uniformit\u00e0 del film \u00e8 buona.<\/p>\n

D2: Il target \u00e8 soggetto a crepe durante l’uso?
\nR2: Con parametri di processo ragionevoli, la struttura del target \u00e8 stabile e non \u00e8 soggetta a crepe o distacchi anomali.<\/p>\n

D3: In che modo il target influisce sulle prestazioni del film?
\nR3: La densit\u00e0 e l’uniformit\u00e0 compositiva del target influiscono direttamente sulla durezza, l’adesione e la resistenza all’usura del film.<\/p>\n

D4: Pu\u00f2 essere utilizzato per la polverizzazione continua o a lungo termine?
\nR4: S\u00ec, \u00e8 adatto. In condizioni di raffreddamento e controllo di processo adeguati, pu\u00f2 soddisfare i requisiti della polverizzazione continua.<\/p>\n

Rapporto<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporto di ispezione delle dimensioni
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Abbiamo una vasta esperienza nella preparazione di bersagli funzionali per sputtering e nel supporto applicativo, che ci consente di fornire in modo affidabile bersagli per sputtering in carburo di vanadio con parametri controllabili. Forniamo inoltre consulenza tecnica personalizzata in base ai requisiti di processo dei clienti, contribuendo a migliorare la qualit\u00e0 del film e la stabilit\u00e0 del processo.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Target di sputtering in carburo di vanadio Panoramica I target di sputtering in carburo di vanadio sono target funzionali che combinano elevata durezza ed elevata stabilit\u00e0 chimica, adatti a vari processi di deposizione fisica da vapore. I film sottili preparati con essi mostrano prestazioni eccezionali in termini di resistenza all’usura, stabilit\u00e0 termica e densit\u00e0 strutturale. […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":50514,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[453],"product_tag":[7558],"class_list":["post-50513","product","type-product","status-publish","has-post-thumbnail","product_brand-ulpmat","product_cat-target-di-sputtering-in-ceramica","product_tag-target-di-sputtering-in-carburo-di-vanadio","first","instock","shipping-taxable","product-type-variable"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/50513","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/50514"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=50513"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=50513"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=50513"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=50513"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}