{"id":49300,"date":"2026-01-12T14:47:33","date_gmt":"2026-01-12T06:47:33","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/titanato-di-calcio-ossido-di-calcio-e-titanio\/"},"modified":"2026-01-12T14:47:33","modified_gmt":"2026-01-12T06:47:33","slug":"titanato-di-calcio-ossido-di-calcio-e-titanio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/titanato-di-calcio-ossido-di-calcio-e-titanio\/","title":{"rendered":"Titanato di calcio (ossido di calcio e titanio)"},"content":{"rendered":"

Panoramica sui target di sputtering in titanato di calcio<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin titanato di calcio<\/a><\/span>
\nsono materiali ceramici funzionali caratterizzati da una struttura cristallina perovskite standard, progettati specificamente per i processi di deposizione fisica da vapore (PVD). Attraverso lo sputtering, formano film di titanato di calcio uniformi e di alta qualit\u00e0 sui substrati. Questi film svolgono un ruolo fondamentale nei componenti elettronici avanzati e nelle applicazioni di rivestimento ottico grazie alle loro eccezionali propriet\u00e0 dielettriche, ferroelettriche e ottiche<\/a><\/span>
\n.<\/p>\n

Produciamo e forniamo in modo professionale target di sputtering in ceramica di titanato di calcio di alta qualit\u00e0 in varie purezze, dimensioni e orientamenti cristallini. Sono disponibili servizi di incollaggio<\/a><\/span>
\ndi piastre di supporto personalizzate in base alle vostre esigenze. Contattateci<\/a><\/span>
\nper soluzioni personalizzate.<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Elevata purezza di fase
\nDensit\u00e0 eccezionale
\nOrientamento selezionabile
\nElevata stabilit\u00e0 chimica
\nQualit\u00e0 superiore del film<\/p>\n

Applicazioni dei target di sputtering in titanato di calcio<\/span><\/h2>\n

Condensatori e dispositivi di memoria ad alte prestazioni:<\/strong>
\nutilizzati per il deposito di film ad alta costante dielettrica (high-k) come strati dielettrici centrali in DRAM o condensatori integrati di nuova generazione, fungono da materiale chiave per ottenere la miniaturizzazione dei dispositivi e prestazioni elevate.<\/p>\n

Rivestimenti ottici<\/a><\/span> e dispositivi fotonici:<\/strong>
\nsfruttando il suo elevato indice di rifrazione e la trasparenza nello spettro dall’ultravioletto all’infrarosso, consente la fabbricazione di complessi filtri di interferenza ottica, rivestimenti antiriflesso e strati di guida d’onda in circuiti fotonici integrati.<\/p>\n

Optoelettronica e sensori:<\/strong>
\nin quanto materiali ferroelettrici e multiferroici tipici, i loro film fungono da strati funzionali in memorie non volatili, sensori piezoelettrici, fotorilevatori e nuove celle solari, offrendo una risposta rapida e un’elevata sensibilit\u00e0.<\/p>\n

Ricerca fondamentale sui superconduttori e sui materiali quantistici:<\/strong>
\nin quanto materiali di substrato fondamentali per la crescita epitassiale di film superconduttori ad alta temperatura o altri materiali quantistici ossidici complessi, costituiscono piattaforme essenziali per la ricerca all’avanguardia nel campo della fisica della materia condensata e della scienza dei materiali.<\/p>\n

Domande frequenti<\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Quali precauzioni speciali devono essere prese per la conservazione e l’uso dei target di titanato di calcio?
\nA1: Sebbene i target ceramici siano pi\u00f9 stabili delle polveri, si consiglia comunque di conservarli sigillati in un ambiente asciutto. Prima dell’uso, per ottenere prestazioni ottimali del film, \u00e8 generalmente consigliabile eseguire una pulizia pre-sputtering della superficie del target per rimuovere eventuali ossidi o contaminanti superficiali.<\/p>\n

D2: \u00c8 necessario utilizzare la modalit\u00e0 RF o DC per lo sputtering con questo target?
\nA2: Il titanato di calcio \u00e8 un tipico materiale dielettrico che richiede la modalit\u00e0 di sputtering RF. La modalit\u00e0 DC non \u00e8 in grado di sostenere una scarica luminescente stabile ed \u00e8 inefficace per lo sputtering di tali target isolanti.<\/p>\n

Q3: Come \u00e8 possibile controllare la qualit\u00e0 cristallina del film depositato?
\nA3: La qualit\u00e0 cristallina del film \u00e8 influenzata principalmente dalla temperatura del substrato, dalla pressione di sputtering e dalla potenza. In genere, un riscaldamento adeguato del substrato facilita la formazione di film ben cristallizzati. La selezione di un target con un orientamento cristallino specifico favorisce anche la crescita orientata del film.<\/p>\n

D4: Qual \u00e8 la costante dielettrica approssimativa dei film di titanato di calcio? Come viene misurata?
\nR4: La costante dielettrica di questi film varia in modo significativo a seconda delle condizioni di processo, tipicamente compresa tra 150 e 300. Pu\u00f2 essere misurata e calcolata depositando il film su un wafer di silicio, fabbricando una struttura di condensatori metallo-isolante-metallo e utilizzando un analizzatore di impedenza.<\/p>\n

Report<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporto di ispezione delle dimensioni
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Siamo specializzati nella ricerca e sviluppo e nella produzione di bersagli di sputtering ceramici ad alte prestazioni, con una profonda esperienza nella relazione tra la preparazione precisa dei materiali di ossido di perovskite e i processi a film sottile. Dalla selezione di materie prime di elevata purezza e tecniche avanzate di formatura\/sinterizzazione alla lavorazione di precisione finale e ai test non distruttivi, implementiamo controlli rigorosi in ogni fase per garantire che i bersagli presentino una microstruttura eccezionale e prestazioni costanti.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Panoramica sui target di sputtering in titanato di calcio I target di sputtering in titanato di calcio sono materiali ceramici funzionali caratterizzati da una struttura cristallina perovskite standard, progettati specificamente per i processi di deposizione fisica da vapore (PVD). Attraverso lo sputtering, formano film di titanato di calcio uniformi e di alta qualit\u00e0 sui substrati. […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":49301,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[453],"product_tag":[7263],"class_list":["post-49300","product","type-product","status-publish","has-post-thumbnail","product_brand-ulpmat","product_cat-target-di-sputtering-in-ceramica","product_tag-bersaglio-di-sputtering-in-titanato-di-calcio-ossido-di-calcio-e-titanio","first","instock","shipping-taxable","product-type-variable"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/49300","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/49301"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=49300"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=49300"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=49300"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=49300"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}