{"id":49012,"date":"2026-01-13T09:49:52","date_gmt":"2026-01-13T01:49:52","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/tantalato-di-potassio-ossido-di-potassio-e-tantalio\/"},"modified":"2026-01-13T09:49:52","modified_gmt":"2026-01-13T01:49:52","slug":"tantalato-di-potassio-ossido-di-potassio-e-tantalio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/tantalato-di-potassio-ossido-di-potassio-e-tantalio\/","title":{"rendered":"Tantalato di potassio (ossido di potassio e tantalio)"},"content":{"rendered":"

Target di sputtering in ossido di tantalio e potassio Panoramica<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin ossido di tantalio e potassio<\/a><\/span>
\nsono target ceramici funzionali basati su ossidi con struttura perovskite, caratterizzati da composizione uniforme e stabilit\u00e0 strutturale. Questi target sono utilizzati principalmente per la preparazione di film sottili di ossido, applicati nei campi dei materiali elettronici e della ricerca sui film sottili funzionali.<\/p>\n

Offriamo target di sputtering KTaO3 in varie dimensioni, spessori e metodi di montaggio, supportando la lavorazione personalizzata. Contattateci<\/a><\/span>
\nper soluzioni adeguate.<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Target ceramico ad alta densit\u00e0
\nProcesso di sputtering stabile e affidabile
\nBuona ripetibilit\u00e0 della composizione del film sottile
\nSupporta processi di sputtering RF
\nDisponibile incollaggio del backplane
\nAdatto per la ricerca e la produzione su scala pilota<\/p>\n

Applicazioni dei target di sputtering in ossido di tantalio e potassio<\/span><\/h2>\n

Preparazione di film sottili funzionali in ossido: comunemente utilizzato per preparare film sottili in ossido con struttura perovskite, aiutando a ottenere strati funzionali con composizione stabile e spessore controllabile.
\nRicerca su film sottili elettronici e dielettrici: nella ricerca sui materiali elettronici, questo target pu\u00f2 essere utilizzato per la deposizione di film sottili dielettrici o funzionali per valutare le prestazioni dei dispositivi.
\nSviluppo di film sottili multistrato e strutture eterogenee: adatto alla preparazione di film sottili multistrato o eterogiunzione, fornisce un prezioso riferimento per il controllo della qualit\u00e0 dell’interfaccia.
\nOttimizzazione dei parametri di processo e delle condizioni di deposizione: questo target \u00e8 comunemente utilizzato nella fase di sviluppo del processo di sputtering per studiare gli effetti della potenza, dell’atmosfera e della temperatura sulle prestazioni dei film sottili.<\/p>\n

Domande frequenti<\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Il target di sputtering in ossido di tantalio e potassio \u00e8 adatto allo sputtering DC o RF?
\nR1: Essendo un target ceramico, \u00e8 generalmente pi\u00f9 adatto ai processi di sputtering RF.<\/p>\n

D2: Il target \u00e8 soggetto a crepe durante lo sputtering?
\nR2: In condizioni di processo adeguate, la struttura del target \u00e8 stabile e le crepe non rappresentano un problema.<\/p>\n

D3: \u00c8 possibile fornire target incollati a un backplane?
\nA3: S\u00ec, supportiamo servizi di incollaggio con rame o altri backplane comunemente utilizzati.<\/p>\n

D4: Il target richiede un trattamento speciale prima dell’uso?
\nA4: In genere non \u00e8 richiesto alcun trattamento speciale; sono sufficienti le procedure standard di utilizzo dei target di sputtering.<\/p>\n

Report<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nReport di ispezione delle dimensioni
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Abbiamo una vasta esperienza nei target di sputtering in ceramica di ossido, che ci consente di fornire un supporto affidabile in termini di uniformit\u00e0 dei materiali, precisione di lavorazione e corrispondenza delle applicazioni, aiutando i nostri clienti a progredire costantemente nella ricerca e sviluppo di film sottili e nella convalida dei processi.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Target di sputtering in ossido di tantalio e potassio Panoramica I target di sputtering in ossido di tantalio e potassio sono target ceramici funzionali basati su ossidi con struttura perovskite, caratterizzati da composizione uniforme e stabilit\u00e0 strutturale. Questi target sono utilizzati principalmente per la preparazione di film sottili di ossido, applicati nei campi dei materiali […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":49013,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[453],"product_tag":[7180],"class_list":["post-49012","product","type-product","status-publish","has-post-thumbnail","product_brand-ulpmat","product_cat-target-di-sputtering-in-ceramica","product_tag-target-di-sputtering-in-tantalato-di-potassio-ossido-di-potassio-e-tantalio","first","instock","shipping-taxable","product-type-variable"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/49012","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/49013"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=49012"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=49012"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=49012"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=49012"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}