{"id":48968,"date":"2026-01-13T10:39:27","date_gmt":"2026-01-13T02:39:27","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/ossido-di-boro\/"},"modified":"2026-01-13T10:39:27","modified_gmt":"2026-01-13T02:39:27","slug":"ossido-di-boro","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ossido-di-boro\/","title":{"rendered":"Ossido di boro"},"content":{"rendered":"

Target di sputtering in ossido di boro Panoramica<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin ossido di boro<\/a><\/span>
\nsono target ceramici funzionali con ossido di boro come componente principale, adatti alla preparazione di film sottili di ossido non metallico. Questi target sono comunemente utilizzati nella ricerca sulla deposizione di film sottili in ambito elettronico, ottico e dei rivestimenti funzionali.<\/p>\n

Siamo in grado di fornire target di sputtering in ossido di boro adeguati al tipo di attrezzatura e alle condizioni di processo, supportando specifiche personalizzate. Contattateci<\/a><\/span>
\ndirettamente per confermare soluzioni e prezzi.<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Struttura ceramica stabile
\nDistribuzione uniforme della composizione
\nProcesso di sputtering controllabile
\nAdatto per sputtering RF
\nSupporta il bonding del backplane
\nFacile da utilizzare nella ricerca e sviluppo<\/p>\n

Applicazioni dei target per sputtering di ossido di boro<\/span><\/h2>\n

Deposizione di film sottili funzionali di ossido: pu\u00f2 essere utilizzato per preparare film sottili contenenti ossido di boro, adatti per applicazioni con requisiti relativi alla composizione e alla struttura del film.
\nRicerca su film sottili elettronici e isolanti: nel campo dei materiali elettronici, questo target pu\u00f2 essere utilizzato per la deposizione e la valutazione delle prestazioni di film sottili isolanti o funzionali. Esplorazione di rivestimenti
\nottici<\/a><\/span>
\ne protettivi: i film sottili di ossido di boro hanno un valore di ricerca nell’ottica e nella protezione delle superfici e il target \u00e8 adatto per esperimenti di rivestimento correlati.
\nProcesso di sputtering e convalida dei parametri: questo target \u00e8 comunemente utilizzato per il test delle finestre di processo in condizioni di sputtering RF, come l’ottimizzazione della potenza, dell’atmosfera e della velocit\u00e0 di deposizione.<\/p>\n

Domande frequenti<\/a><\/span><\/h2>\n

D1: \u00c8 adatto allo sputtering RF?
\nR1: S\u00ec, l’ossido di boro \u00e8 un materiale ceramico e viene tipicamente sputterizzato utilizzando lo sputtering RF.<\/p>\n

D2: Il target pu\u00f2 essere incollato a una piastra posteriore?
\nR2: S\u00ec, \u00e8 possibile incollarlo a comuni piastre posteriori in metallo per migliorarne la stabilit\u00e0.<\/p>\n

D3: Sono disponibili dimensioni personalizzate non standard?
\nR3: S\u00ec, pu\u00f2 essere lavorato in base alle dimensioni dell’apparecchiatura di sputtering e ai requisiti di utilizzo.<\/p>\n

D4: \u00c8 possibile acquistare piccoli lotti o campioni?
\nA4: S\u00ec, adatto alle fasi di ricerca e sviluppo del processo.<\/p>\n

Rapporti<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporto di ispezione delle dimensioni
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Abbiamo una vasta esperienza nella lavorazione e nella fornitura di bersagli di sputtering in ceramica di ossido, che ci consente di comprendere rapidamente i requisiti di processo dei nostri clienti e di fornire un supporto efficiente in termini di conferma delle specifiche, tempi di consegna e stabilit\u00e0 dei materiali, aiutandovi ad abbreviare il ciclo di ricerca e sviluppo e a ridurre i costi di prova ed errore.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Target di sputtering in ossido di boro Panoramica I target di sputtering in ossido di boro sono target ceramici funzionali con ossido di boro come componente principale, adatti alla preparazione di film sottili di ossido non metallico. Questi target sono comunemente utilizzati nella ricerca sulla deposizione di film sottili in ambito elettronico, ottico e dei […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":48969,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[453],"product_tag":[7168],"class_list":["post-48968","product","type-product","status-publish","has-post-thumbnail","product_brand-ulpmat","product_cat-target-di-sputtering-in-ceramica","product_tag-target-di-sputtering-allossido-di-boro","first","instock","shipping-taxable","product-type-variable"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/48968","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/48969"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=48968"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=48968"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=48968"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=48968"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}