{"id":48542,"date":"2026-01-15T13:55:04","date_gmt":"2026-01-15T05:55:04","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/siliciuro-di-magnesio\/"},"modified":"2026-01-15T13:55:04","modified_gmt":"2026-01-15T05:55:04","slug":"siliciuro-di-magnesio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/siliciuro-di-magnesio\/","title":{"rendered":"Siliciuro di magnesio"},"content":{"rendered":"

Target di sputtering in siliciuro di magnesio Panoramica<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin siliciuro di magnesio<\/a><\/span>
\nsono target composti da magnesio e silicio, adatti per processi di deposizione di film sottili che richiedono rapporti di composizione precisi e uniformit\u00e0 del film. Sono utilizzati principalmente nella preparazione di film sottili funzionali, nell’ingegneria delle superfici dei materiali e nella ricerca sui dispositivi correlati.<\/p>\n

Siamo in grado di lavorare target di sputtering in siliciuro di magnesio di varie dimensioni, spessori e strutture in base alle esigenze delle apparecchiature, supportando la personalizzazione<\/a><\/span>
\ne la fornitura stabile. Contattateci<\/a><\/span>
\ndirettamente per qualsiasi richiesta.<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Target di sputtering composto
\nRapporto di composizione stabile
\nStruttura densa, sputtering uniforme
\nBuona ripetibilit\u00e0 del film
\nContenuto di impurit\u00e0 controllabile
\nSupporta la personalizzazione di varie specifiche<\/p>\n

Applicazioni dei target di sputtering in siliciuro di magnesio<\/span><\/h2>\n

Deposizione di film sottili funzionali: pu\u00f2 essere utilizzato per preparare film sottili a base di silicio-magnesio con composizione uniforme, soddisfacendo i requisiti di stabilit\u00e0 del film.
\nSviluppo di processi di deposizione sotto vuoto: nei processi sotto vuoto come la sputtering magnetronica, questo target \u00e8 adatto per la regolazione dei parametri e la verifica dei processi.
\nIngegneria delle superfici e ricerca sugli strati strutturali: mediante la sputtering di target in siliciuro di magnesio, \u00e8 possibile controllare la struttura superficiale e le propriet\u00e0 dei materiali.
\nRicerca e applicazioni di laboratorio: ampiamente utilizzato nella ricerca sui materiali a film sottile e nell’esplorazione di nuovi sistemi nelle universit\u00e0 e negli istituti di ricerca.<\/p>\n

Domande frequenti<\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Per quale processo di sputtering \u00e8 adatto il target di sputtering al siliciuro di magnesio?
\nR1: Comunemente utilizzato nei metodi di deposizione sotto vuoto come lo sputtering magnetronico. L’applicazione specifica dipende dalla configurazione dell’apparecchiatura.<\/p>\n

D2: Il target al siliciuro di magnesio \u00e8 soggetto a decomposizione durante lo sputtering?
\nA2: In condizioni di potenza e vuoto adeguate, pu\u00f2 mantenere uno stato di sputtering stabile.<\/p>\n

D3: I target di sputtering in siliciuro di magnesio possono essere personalizzati in dimensioni non standard?
\nA3: S\u00ec, supportiamo la lavorazione personalizzata in base alle dimensioni del target e ai requisiti di utilizzo.<\/p>\n

D4: Questo target richiede una piastra di supporto?
\nA4: La necessit\u00e0 di una piastra di supporto dipende dalle dimensioni e dai requisiti dell’attrezzatura. Siamo in grado di fornire suggerimenti adeguati.<\/p>\n

Rapporto<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporto di ispezione delle dimensioni
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Abbiamo esperienza nella formulazione, sinterizzazione e lavorazione di target di sputtering composti, garantendo la coerenza della composizione e la stabilit\u00e0 operativa, aiutando i clienti a ridurre i tempi di messa in servizio dello sputtering.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Target di sputtering in siliciuro di magnesio Panoramica I target di sputtering in siliciuro di magnesio sono target composti da magnesio e silicio, adatti per processi di deposizione di film sottili che richiedono rapporti di composizione precisi e uniformit\u00e0 del film. Sono utilizzati principalmente nella preparazione di film sottili funzionali, nell’ingegneria delle superfici dei materiali […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":48543,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[453],"product_tag":[7048],"class_list":{"0":"post-48542","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_brand-ulpmat","7":"product_cat-target-di-sputtering-in-ceramica","8":"product_tag-obiettivo-di-sputtering-al-siliciuro-di-magnesio","10":"first","11":"instock","12":"shipping-taxable","13":"product-type-variable"},"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/48542","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/48543"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=48542"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=48542"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=48542"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=48542"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}