{"id":48496,"date":"2026-01-15T13:55:05","date_gmt":"2026-01-15T05:55:05","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/ortosilicato-di-magnesio\/"},"modified":"2026-01-15T13:55:05","modified_gmt":"2026-01-15T05:55:05","slug":"ortosilicato-di-magnesio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ortosilicato-di-magnesio\/","title":{"rendered":"Ortosilicato di magnesio"},"content":{"rendered":"

Target di sputtering in ortosilicato di magnesio Panoramica<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin ortosilicato di magnesio<\/a><\/span>
\nsono target ceramici omogenei ad alta densit\u00e0 con eccellente stabilit\u00e0 termica e resistenza all’usura. Sono ampiamente utilizzati nella produzione di film sottili ottici, rivestimenti funzionali e dispositivi elettronici ad alte prestazioni.<\/p>\n

Offriamo target di sputtering Mg2SiO4 in varie dimensioni, forme e controlli di densit\u00e0 per soddisfare le esigenze delle applicazioni industriali e di ricerca. Contattateci<\/a><\/span>
\nper un preventivo.<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Alta densit\u00e0, eccellente uniformit\u00e0 di sputtering
\nBasso coefficiente di espansione termica, forte resistenza al calore
\nElevata stabilit\u00e0 chimica, non si ossida facilmente
\nDimensione delle particelle e purezza personalizzabili
\nEccellente levigatezza superficiale, adatta per la deposizione di film sottili di precisione
\nSupporta varie dimensioni e forme di target<\/p>\n

Applicazioni dei target di sputtering in ortosilicato di magnesio<\/span><\/h2>\n

Deposizione di film sottili
\nottici<\/a><\/span>
\n: pu\u00f2 essere utilizzato per preparare film sottili ottici di alta qualit\u00e0, garantendo uno spessore uniforme del film per soddisfare i requisiti dei dispositivi ottici di precisione.
\nMateriali di rivestimento funzionali: utilizzati in rivestimenti resistenti all’usura, alla corrosione e isolanti per migliorare l’adesione del film e la stabilit\u00e0 a lungo termine.
\nProduzione di dispositivi elettronici: adatto per la deposizione di componenti microelettronici e substrati ceramici, garantendo l’uniformit\u00e0 e l’affidabilit\u00e0 del film.
\nRicerca scientifica e applicazioni su scala pilota: supporta la verifica del processo di sputtering in laboratorio e su scala pilota, facilitando la ricerca e l’ottimizzazione di nuovi film sottili di materiali.<\/p>\n

Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Target di sputtering in ortosilicato di magnesio – Per quali apparecchiature di sputtering \u00e8 adatto?
\nR1: Adatto per apparecchiature di sputtering DC, RF e magnetron, in grado di soddisfare diversi requisiti di processo.<\/p>\n

D2: La densit\u00e0 del target influisce sull’uniformit\u00e0 del film?
\nA2: Una densit\u00e0 pi\u00f9 elevata comporta una minore perdita di particelle durante la sputtering e una migliore uniformit\u00e0 del film.<\/p>\n

Q3: Supportate dimensioni e forme personalizzate?
\nA3: Supporta vari target rotondi, quadrati e di forma irregolare, che possono essere lavorati secondo i disegni del cliente.<\/p>\n

Q4: La superficie del target richiede un trattamento speciale?
\nA4: I target sono pre-piallati in superficie e possono essere utilizzati direttamente nei processi di sputtering.<\/p>\n

Rapporto<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporto di controllo delle dimensioni
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Siamo specializzati nella ricerca, nello sviluppo e nella produzione di bersagli di sputtering ceramici ad alte prestazioni, fornendo qualit\u00e0 stabile e servizi personalizzati. Siamo in grado di rispondere rapidamente alle richieste dei clienti, contribuendo all’efficiente implementazione della ricerca scientifica e della produzione industriale.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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