{"id":48476,"date":"2026-01-15T13:55:06","date_gmt":"2026-01-15T05:55:06","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/magnesio-stannide\/"},"modified":"2026-01-15T13:55:06","modified_gmt":"2026-01-15T05:55:06","slug":"magnesio-stannide","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/magnesio-stannide\/","title":{"rendered":"Magnesio stannide"},"content":{"rendered":"

Target di sputtering in stannuro di magnesio Panoramica<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin stannuro di magnesio<\/a><\/span>
\nsono target in composti intermetallici ad alta purezza, che possiedono sia un’eccellente conduttivit\u00e0 elettrica che stabilit\u00e0 termica. Sono adatti per la preparazione di film sottili di metalli funzionali, materiali termoelettrici e film per dispositivi elettronici.<\/p>\n

Offriamo target di sputtering in stannuro di magnesio in varie specifiche, dimensioni e gradi di purezza per supportare la produzione industriale e gli esperimenti di ricerca scientifica. Richiedete<\/a><\/span>
\ninformazioni<\/a><\/span>
\nora.<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Composto intermetallico ad alta purezza<\/p>\n

Eccellente conduttivit\u00e0 elettrica e stabilit\u00e0 termica
\nAlta densit\u00e0, processo di sputtering stabile
\nDimensioni e forme personalizzabili
\nSuperficie liscia, adatta per la deposizione di film sottili ad alta precisione
\nSoddisfa le esigenze sia della ricerca scientifica che della produzione industriale in serie<\/p>\n

Applicazioni dei target di sputtering in stannuro di magnesio<\/span><\/h2>\n

Deposizione di film sottili metallici funzionali: pu\u00f2 essere utilizzato per preparare film sottili metallici di alta qualit\u00e0, migliorando le prestazioni dei dispositivi elettronici e l’uniformit\u00e0 dello strato di film.
\nPreparazione di materiali termoelettrici: adatto per la deposizione di film in dispositivi termoelettrici, contribuendo a migliorare l’efficienza di conversione termoelettrica dei dispositivi.
\nMicroelettronica e componenti dei sensori: pu\u00f2 essere utilizzato per la deposizione di film sottili in componenti elettronici e microsensori, garantendo la stabilit\u00e0 e l’uniformit\u00e0 dello strato di film.
\nRicerca scientifica e applicazioni su scala pilota: supporta la ricerca sui processi di sputtering su scala di laboratorio e pilota, facilitando lo sviluppo e l’ottimizzazione di film sottili di materiali innovativi.<\/p>\n

Domande frequenti<\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Per quali processi di sputtering \u00e8 adatto il target di stannuro di magnesio?
\nA1: Pu\u00f2 essere utilizzato sia per lo sputtering DC che RF ed \u00e8 compatibile con varie apparecchiature industriali e di ricerca scientifica.<\/p>\n

D2: In che modo la densit\u00e0 del target influisce sui risultati di deposizione?
\nA2: L’alta densit\u00e0 riduce la perdita di particelle del target, garantendo una superficie del film liscia e uniforme.<\/p>\n

D3: \u00c8 possibile personalizzare le dimensioni o le forme in base alle esigenze del cliente?
\nA3: Completamente supportato. \u00c8 possibile elaborare varie forme e dimensioni in base ai disegni o ai requisiti di processo.<\/p>\n

D4: Quali precauzioni devono essere prese per la conservazione e l’uso del bersaglio?
\nA4: Si consiglia di conservare il bersaglio in un contenitore asciutto e sigillato. Mantenere la superficie pulita prima dell’uso per garantire la qualit\u00e0 della deposizione.<\/p>\n

Rapporto<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporto di ispezione delle dimensioni
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Siamo specializzati nella produzione di target di sputtering in composti intermetallici ad alte prestazioni, fornendo qualit\u00e0 stabile, specifiche personalizzate e servizi di risposta rapida per garantire l’implementazione senza intoppi della ricerca e della produzione industriale dei nostri clienti.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Target di sputtering in stannuro di magnesio Panoramica I target di sputtering in stannuro di magnesio sono target in composti intermetallici ad alta purezza, che possiedono sia un’eccellente conduttivit\u00e0 elettrica che stabilit\u00e0 termica. Sono adatti per la preparazione di film sottili di metalli funzionali, materiali termoelettrici e film per dispositivi elettronici. Offriamo target di sputtering […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":48477,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[453],"product_tag":[7030],"class_list":{"0":"post-48476","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_brand-ulpmat","7":"product_cat-target-di-sputtering-in-ceramica","8":"product_tag-bersaglio-di-sputtering-al-magnesio-stannide","10":"first","11":"instock","12":"shipping-taxable","13":"product-type-variable"},"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/48476","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/48477"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=48476"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=48476"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=48476"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=48476"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}