{"id":48440,"date":"2026-01-15T13:55:06","date_gmt":"2026-01-15T05:55:06","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/magnesio-bismuto\/"},"modified":"2026-01-15T13:55:06","modified_gmt":"2026-01-15T05:55:06","slug":"magnesio-bismuto","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/magnesio-bismuto\/","title":{"rendered":"Magnesio Bismuto"},"content":{"rendered":"

Target di sputtering in magnesio-bismuto Panoramica<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin magnesio-bismuto<\/a><\/span>
\nsono target funzionali composti principalmente da composti intermetallici di magnesio-bismuto, adatti per stabilizzare i processi di deposizione di film sottili. Questi target sono utilizzati principalmente nella ricerca su film sottili funzionali, film termoelettrici e materiali elettronici.<\/p>\n

Offriamo target di sputtering in composti di magnesio-bismuto in varie dimensioni, spessori e con composizione controllata, consentendo una rapida selezione e quotazione.<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Composizione stabile del composto intermetallico
\nElevata densit\u00e0 del bersaglio, processo di sputtering regolare
\nBuona conduttivit\u00e0 elettrica, elevata efficienza di deposizione
\nElevata planarit\u00e0 superficiale, buona consistenza del film
\nSpecifiche flessibili, elaborazione personalizzata supportata
\nAdatto per la ricerca e la produzione in piccoli lotti<\/p>\n

Applicazioni dei bersagli di sputtering in magnesio-bismuto<\/span><\/h2>\n

Deposizione di film sottili funzionali: pu\u00f2 essere utilizzato per preparare film sottili funzionali, soddisfacendo applicazioni con elevati requisiti di uniformit\u00e0 compositiva e qualit\u00e0 del film.
\nRicerca sui film sottili termoelettrici: nel campo dei materiali termoelettrici, questo target \u00e8 adatto alla deposizione di film correlati, aiutando nell’ottimizzazione dei parametri sperimentali e nella ricerca sulle prestazioni.
\nSviluppo di materiali e dispositivi elettronici: pu\u00f2 essere utilizzato per la preparazione di film sottili per dispositivi elettronici e strutture correlate, migliorando la stabilit\u00e0 e la ripetibilit\u00e0 del film.
\nRicerca scientifica e convalida dei processi: adatto per universit\u00e0 e istituti di ricerca per condurre la convalida dei processi e esperimenti su scala pilota su film sottili di nuovi materiali.<\/p>\n

Domande frequenti<\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Quale tipo di apparecchiatura di sputtering \u00e8 adatta per i target di sputtering in magnesio e bismuto?
\nR1: Adattabile a sistemi di sputtering DC o RF, adatto a varie apparecchiature sperimentali e industriali.<\/p>\n

D2: La densit\u00e0 del target influisce sulla qualit\u00e0 del film?
\nA2: Una densit\u00e0 pi\u00f9 elevata si traduce in un processo di sputtering pi\u00f9 stabile, contribuendo a ottenere un film uniforme e denso.<\/p>\n

Q3: Le dimensioni dei target possono essere personalizzate in base ai requisiti delle apparecchiature?
\nA3: S\u00ec, supportiamo la lavorazione personalizzata di dimensioni rotonde, quadrate e altre dimensioni speciali.<\/p>\n

Q4: Quali precauzioni devono essere prese durante lo stoccaggio dei target?
\nA4: Si consiglia di conservarli in un ambiente asciutto e sigillato per evitare che la contaminazione della superficie ne comprometta le prestazioni.<\/p>\n

Rapporto<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporto di ispezione delle dimensioni
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Siamo specializzati nella preparazione e nel controllo qualit\u00e0 di target di sputtering di composti intermetallici, fornendo prodotti stabili e affidabili e un rapido supporto tecnico per aiutare i clienti a soddisfare in modo efficiente le loro esigenze di preparazione di film sottili.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Target di sputtering in magnesio-bismuto Panoramica I target di sputtering in magnesio-bismuto sono target funzionali composti principalmente da composti intermetallici di magnesio-bismuto, adatti per stabilizzare i processi di deposizione di film sottili. Questi target sono utilizzati principalmente nella ricerca su film sottili funzionali, film termoelettrici e materiali elettronici. Offriamo target di sputtering in composti di […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":48441,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[453],"product_tag":[7018],"class_list":{"0":"post-48440","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_brand-ulpmat","7":"product_cat-target-di-sputtering-in-ceramica","8":"product_tag-obiettivo-di-sputtering-al-magnesio-e-bismuto","10":"first","11":"instock","12":"shipping-taxable","13":"product-type-variable"},"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/48440","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/48441"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=48440"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=48440"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=48440"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=48440"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}