{"id":48026,"date":"2026-01-15T13:55:17","date_gmt":"2026-01-15T05:55:17","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/silicato-di-magnesio\/"},"modified":"2026-01-15T13:55:17","modified_gmt":"2026-01-15T05:55:17","slug":"silicato-di-magnesio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/silicato-di-magnesio\/","title":{"rendered":"Silicato di magnesio"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Panoramica sui target di sputtering in silicato di magnesio<\/span><\/h2>\n<p>I target di sputtering<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=name&#038;keyword=Magnesium+silicate\">in silicato di magnesio<\/a><\/span><br \/>\nsono target ceramici ad alta densit\u00e0 e purezza con eccellente stabilit\u00e0 termica e inerzia chimica. Sono adatti per processi di sputtering magnetronico o RF per film sottili ottici, film ceramici elettronici e rivestimenti funzionali.<\/p>\n<p>Offriamo target in silicato di magnesio in varie dimensioni, spessori e densit\u00e0 e possiamo personalizzare soluzioni di incollaggio su backplane in rame o alluminio in base alle esigenze delle apparecchiature del cliente. <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/contatto\/\">Contattateci<\/a><\/span><br \/>\nper parametri e preventivi.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n<p>Alta densit\u00e0, eccellente stabilit\u00e0 di sputtering<br \/>\nEccellente stabilit\u00e0 termica, nessuna deformazione dopo deposizione a lungo termine<br \/>\nSuperficie liscia, elevata uniformit\u00e0 del film<br \/>\nForte inerzia chimica, adattabile a vari processi<br \/>\nPu\u00f2 essere incollato con backplane in rame\/alluminio per migliorare l&#8217;efficienza di dissipazione del calore<br \/>\nSupporta varie dimensioni, spessori e specifiche personalizzate<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazioni dei target di sputtering in silicato di magnesio<\/span><\/h2>\n<p>Preparazione di film sottili<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/applicazione\/materiali-ottici\/\">ottici<\/a><\/span><br \/>\n: i target in silicato di magnesio possono depositare film densi e trasparenti nella sputtering RF o magnetron, garantendo l&#8217;uniformit\u00e0 e la ripetibilit\u00e0 del film.<br \/>\nPellicole ceramiche elettroniche: utilizzate per il rivestimento di dispositivi elettronici ad alte prestazioni, migliorano le propriet\u00e0 dielettriche e la stabilit\u00e0 dei film sottili.<br \/>\nDeposizione di rivestimenti funzionali: adatti per rivestimenti resistenti all&#8217;usura, al calore o ad alta stabilit\u00e0, soddisfano requisiti di processo specifici.<br \/>\nRicerca e convalida di processo: adatti per la convalida del processo di sputtering in laboratori e operazioni su scala pilota, facilitando l&#8217;ottimizzazione dei parametri e la valutazione dei materiali.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt; color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/azienda\/domande-frequenti\/\">Domande frequenti<\/a><\/span><\/h2>\n<p>D1: Per quali apparecchiature \u00e8 adatto il target di sputtering MgSiO\u2083?<br \/>\nR1: Pu\u00f2 essere utilizzato in apparecchiature di ricerca e industriali per la deposizione di film sottili, come lo sputtering a radiofrequenza (RF) e lo sputtering magnetronico.<\/p>\n<p>D2: La densit\u00e0 del target influisce sull&#8217;uniformit\u00e0 del film?<br \/>\nR2: I target ad alta densit\u00e0 riducono il rischio di distacco delle particelle, migliorando l&#8217;uniformit\u00e0 e la ripetibilit\u00e0 del film.<\/p>\n<p>D3: \u00c8 possibile personalizzare le dimensioni del target e il collegamento della piastra posteriore?<br \/>\nR3: S\u00ec, possiamo fornire target rotondi, quadrati e di dimensioni speciali, oltre a soluzioni di collegamento con piastra posteriore in rame o alluminio per migliorare l&#8217;efficienza di dissipazione del calore e la durata.<\/p>\n<p>D4: Quali sono le precauzioni da prendere per l&#8217;incollaggio della piastra posteriore?<br \/>\nR4: La superficie di contatto tra il bersaglio e la piastra posteriore deve essere piatta. Dopo l&#8217;incollaggio, evitare l&#8217;umidit\u00e0 o la contaminazione per garantire una buona conduzione del calore e la stabilit\u00e0 del bersaglio durante la polverizzazione.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Rapporto<\/span><\/h2>\n<p>Ogni lotto viene fornito con:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/certificato-di-analisi\/\"><u>Certificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/scheda-tecnica\/\"><u>Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/scheda-di-sicurezza\/\"><u>Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nRapporto di controllo delle dimensioni<br \/>\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n<p>Siamo specializzati nella preparazione di bersagli di sputtering MgSiO\u2083 ad alta purezza e nella tecnologia di incollaggio delle piastre posteriori, fornendo prodotti con alta densit\u00e0, controllo dimensionale e alta uniformit\u00e0 del film. Offriamo anche supporto tecnico su misura per le attrezzature e i requisiti di processo dei clienti, aiutandoli a completare in modo efficiente la deposizione di film sottili e la convalida dei processi.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Panoramica sui target di sputtering in silicato di magnesio I target di sputtering in silicato di magnesio sono target ceramici ad alta densit\u00e0 e purezza con eccellente stabilit\u00e0 termica e inerzia chimica. Sono adatti per processi di sputtering magnetronico o RF per film sottili ottici, film ceramici elettronici e rivestimenti funzionali. 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