{"id":47514,"date":"2026-01-16T16:07:15","date_gmt":"2026-01-16T08:07:15","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/ossido-di-litio\/"},"modified":"2026-01-16T16:07:15","modified_gmt":"2026-01-16T08:07:15","slug":"ossido-di-litio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ossido-di-litio\/","title":{"rendered":"Ossido di litio"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Target di sputtering all&#8217;ossido di litio Panoramica<\/span><\/h2>\n<p>I target di sputtering<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=name&#038;keyword=Lithium+oxide\">all&#8217;ossido di litio<\/a><\/span><br \/>\nsono utilizzati nei processi avanzati di deposizione di film sottili per la produzione di rivestimenti contenenti litio in batterie allo stato solido, film conduttivi trasparenti e semiconduttori di ossido. Con un&#8217;eccellente reattivit\u00e0 e un elevato contenuto di litio, i target Li\u2082O fungono da fonte di litio nei sistemi di sputtering magnetronico e PLD (deposizione laser pulsata).<\/p>\n<p>I nostri target di sputtering all&#8217;ossido di litio sono realizzati con polvere ad alta purezza con purezza tipica \u226599,9%, sinterizzata o pressata a caldo per ottenere un&#8217;elevata densit\u00e0 e uniformit\u00e0. Offriamo anche un supporto commerciale completo: non esitate a <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/contatto\/\">contattarci<\/a><\/span><br \/>\nper qualsiasi domanda.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n<p>Purezza: \u226599,9% (3N)<br \/>\nElevato contenuto di litio per un efficiente drogaggio o formazione di composti<br \/>\nDimensioni personalizzate e servizi di incollaggio disponibili<br \/>\nMicrostruttura densa e uniforme per velocit\u00e0 di sputtering stabili<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Opzioni di specifica dei target di sputtering di ossido di litio<\/span><\/h2>\n<p>Gradi di purezza: 3N (99,9%) standard; 4N e superiori disponibili su richiesta<br \/>\nForme dei target: circolari, rettangolari o geometrie personalizzate<br \/>\nDimensioni: diametri tipici 1&#8243;-8&#8243;, spessore 3-10 mm; personalizzabile<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/servizio\/legame-con-lobiettivo\/\">Incollaggio<\/a><\/span><br \/>\n: incollaggio opzionale su piastre di supporto (Cu, Mo) con indio o resina epossidica<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazioni dei target di sputtering di ossido di litio<\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/applicazione\/materiali-della-batteria\/\">Batterie<\/a><\/span><br \/>\nal litio allo stato solido: deposizione di film sottili di elettroliti solidi ricchi di litio (ad es. LLZO, tipo LISICON, LiPON)<br \/>\nDispositivi elettrocromici: per film di ossido intercalato al litio in applicazioni per finestre intelligenti<br \/>\nOssidi conduttivi trasparenti: agente di drogaggio per materiali come ZnO e ITO per modificare le propriet\u00e0 elettroniche<br \/>\nFilm sottili funzionali: impiegati nella formazione di strati di ossido contenenti litio per dispositivi elettronici avanzati<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt; color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/azienda\/domande-frequenti\/\">Domande frequenti<\/a><\/span><\/h2>\n<p>D1: Per quali tipi di film sottili vengono utilizzati principalmente i target di sputtering di ossido di litio?<br \/>\nA1: Questi target di sputtering sono utilizzati principalmente per la preparazione di film sottili funzionali di ossido di litio, comunemente utilizzati in campi di ricerca quali materiali funzionali a base di litio, elettroliti solidi e film sottili di ossido correlati.<\/p>\n<p>D2: Quali sono le caratteristiche dei materiali di ossido di litio durante la deposizione di film sottili?<br \/>\nA2: Questo materiale presenta le caratteristiche tipiche dell&#8217;ossido, che aiutano a formare film sottili funzionali con composizione uniforme e struttura stabile durante la deposizione mediante sputtering.<\/p>\n<p>D3: Quali processi di sputtering sono adatti per questo target di sputtering di ossido di litio?<br \/>\nA3: I target di sputtering di ossido di litio sono generalmente adatti per processi PVD come lo sputtering a radiofrequenza, soddisfacendo le esigenze di preparazione di film sottili nelle fasi di ricerca e su scala pilota.<\/p>\n<p>D4: Quali precauzioni devono essere prese durante l&#8217;uso e la conservazione dei target di sputtering di ossido di litio?<br \/>\nA4: Si raccomanda di installare e conservare il bersaglio in un ambiente asciutto e sigillato per ridurre al minimo il contatto con l&#8217;aria e l&#8217;umidit\u00e0, garantendo la stabilit\u00e0 del processo di sputtering e la qualit\u00e0 del film sottile.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Rapporti<\/span><\/h2>\n<p>Tutti i bersagli di sputtering Li\u2082O vengono forniti con un certificato di analisi (COA) e una scheda di sicurezza dei materiali (MSDS). Su richiesta possono essere forniti rapporti XRD, SEM ed EDX.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Target di sputtering all&#8217;ossido di litio Panoramica I target di sputtering all&#8217;ossido di litio sono utilizzati nei processi avanzati di deposizione di film sottili per la produzione di rivestimenti contenenti litio in batterie allo stato solido, film conduttivi trasparenti e semiconduttori di ossido. 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