{"id":47158,"date":"2026-01-16T16:07:28","date_gmt":"2026-01-16T08:07:28","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/ossido-di-litio-e-titanio-titanato-di-litio-lto\/"},"modified":"2026-01-16T16:07:28","modified_gmt":"2026-01-16T08:07:28","slug":"ossido-di-litio-e-titanio-titanato-di-litio-lto","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ossido-di-litio-e-titanio-titanato-di-litio-lto\/","title":{"rendered":"Ossido di litio e titanio (titanato di litio) (LTO)"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Target di sputtering in ossido di litio e titanio Panoramica<\/span><\/h2>\n<p>I target di sputtering<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=name&#038;keyword=Lithium+Titanium+oxide\">in ossido di litio e titanio<\/a><\/span><br \/>\nsono materiali ceramici ad alta purezza progettati per processi di deposizione di film sottili nella ricerca avanzata sulle batterie, nell&#8217;elettroceramica e nello sviluppo di dispositivi di accumulo di energia. Caratterizzati da un&#8217;eccellente purezza di fase, densit\u00e0 uniforme e prestazioni di sputtering stabili, questi target consentono la fabbricazione di film sottili di alta qualit\u00e0 con stechiometria precisa e cristallinit\u00e0 superiore.<\/p>\n<p>I nostri target di sputtering al titanato di litio sono prodotti utilizzando tecniche avanzate di sinterizzazione e pressatura a caldo per garantire una densit\u00e0 ottimale, difetti minimi e velocit\u00e0 di deposizione del film riproducibili. Offriamo un&#8217;assistenza post-vendita completa: non esitate a <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/contatto\/\">contattarci<\/a><\/span><br \/>\nper qualsiasi domanda.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n<p>Purezza: \u226599,9% (personalizzabile su richiesta)<br \/>\nAlta densit\u00e0 e microstruttura uniforme<br \/>\nDimensioni e forme personalizzate<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/servizio\/assistenza-tecnica\/\">Assistenza tecnica<\/a><\/span><br \/>\nper la selezione dei materiali<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazioni dei target di sputtering in titanato di litio<\/span><\/h2>\n<p>Materiali<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/applicazione\/materiali-della-batteria\/\">per batterie<\/a><\/span><br \/>\n: elettrodi a film sottile per batterie agli ioni di litio e batterie allo stato solido<br \/>\nElettroceramica: rivestimenti funzionali in dispositivi elettronici ed energetici<br \/>\nElettroliti solidi: deposizione di strati protettivi o di interfaccia in batterie allo stato solido<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt; color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/azienda\/domande-frequenti\/\">Domande frequenti<\/a><\/span><\/h2>\n<p>D1: Per quali tipi di film sottili viene utilizzato principalmente il target di sputtering in ossido di litio e titanio?<br \/>\nA1: Questo bersaglio di sputtering viene utilizzato principalmente per la preparazione di film sottili funzionali di ossido di litio e titanio, comunemente presenti nei materiali relativi alle batterie al litio, nei dispositivi di accumulo di energia e nella ricerca sugli strati funzionali elettronici.<\/p>\n<p>D2: Quali sono le caratteristiche del materiale ossido di litio e titanio nella ricerca sui film sottili?<br \/>\nA2: Questo sistema di materiali ha una buona stabilit\u00e0 strutturale, che lo rende adatto allo studio del comportamento elettrochimico, delle propriet\u00e0 interfacciali e della consistenza di deposizione a lungo termine dei film sottili.<\/p>\n<p>D3: Quali condizioni di processo di deposizione sono adatte per questo bersaglio di sputtering?<br \/>\nA3: I bersagli di sputtering in ossido di litio e titanio possono essere utilizzati nei comuni processi PVD come lo sputtering RF e sono compatibili con varie apparecchiature di sputtering sperimentali e su scala pilota.<\/p>\n<p>D4: Quali aspetti devono essere considerati quando si utilizzano bersagli di sputtering in ossido di litio e titanio?<br \/>\nA4: \u00c8 possibile ottenere risultati di deposizione stabili con parametri di processo ragionevoli. Si consiglia di ottimizzare il processo in base alle condizioni specifiche dell&#8217;apparecchiatura per garantire la ripetibilit\u00e0 e la consistenza dei film sottili. Rapporti<br \/>\nOgni lotto di Li4Ti5O12 \u00e8 fornito con un <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/certificato-di-analisi\/\">certificato di analisi (COA)<\/a><\/span><br \/>\ne <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/scheda-di-sicurezza\/\">una scheda di sicurezza dei materiali (MSDS).<\/a><\/span><br \/>\nSu richiesta \u00e8 possibile fornire analisi di terze parti.<br \/>\nSu richiesta sono disponibili rapporti XRD, SEM e di densit\u00e0 opzionali.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Target di sputtering in ossido di litio e titanio Panoramica I target di sputtering in ossido di litio e titanio sono materiali ceramici ad alta purezza progettati per processi di deposizione di film sottili nella ricerca avanzata sulle batterie, nell&#8217;elettroceramica e nello sviluppo di dispositivi di accumulo di energia. 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