{"id":46887,"date":"2026-01-16T16:07:36","date_gmt":"2026-01-16T08:07:36","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/ossido-di-litio-e-cobalto\/"},"modified":"2026-01-16T16:07:36","modified_gmt":"2026-01-16T08:07:36","slug":"ossido-di-litio-e-cobalto","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ossido-di-litio-e-cobalto\/","title":{"rendered":"Ossido di litio e cobalto"},"content":{"rendered":"

Panoramica sui target di sputtering in ossido di litio e cobalto<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin ossido di litio e cobalto<\/a><\/span>
\nsono target in ossido ceramico progettati per la deposizione di strati funzionali di LiCoO\u2082 in film sottile. Sono ampiamente utilizzati nei film sottili delle batterie, nei dispositivi microenergetici e nella ricerca elettrochimica, dove sono richiesti un controllo preciso della composizione e un comportamento di deposizione stabile.<\/p>\n

ULPMAT fornisce target di sputtering in ossido di litio e cobalto con stechiometria controllata e microstruttura densa, adatti per processi di sputtering RF e magnetron. I target sono progettati per supportare una crescita uniforme del film, velocit\u00e0 di sputtering stabili e prestazioni riproducibili del film sottile.<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Composizione stechiometrica LiCoO\u2082 per una chimica del film affidabile
\nStruttura ceramica densa che supporta un comportamento di sputtering stabile
\nMicrostruttura uniforme per uno spessore del film costante
\nAdatto per sistemi di sputtering RF e magnetron
\nBuona compatibilit\u00e0 di adesione con substrati comuni
\nProgettato per applicazioni<\/p>\n

<\/span><\/h2>\n

con film sottili per batterie ed elettrochimica<\/p>\n

Applicazioni del bersaglio di sputtering in ossido di litio e cobalto<\/span><\/h2>\n

Batterie agli ioni di litio a film sottile:<\/strong>
\ni bersagli di sputtering in ossido di litio e cobalto sono utilizzati per depositare strati catodici per dispositivi a film sottile e microbatterie.
\nMicroelettronica e MEMS:<\/strong>
\ni film sottili di LiCoO\u2082 sono applicati in componenti di micro-accumulo di energia integrati con dispositivi elettronici.
\nRicerca sui materiali elettrochimici ed energetici:<\/strong>
\ni target sono ampiamente utilizzati nella ricerca accademica e industriale per lo studio del trasporto di ioni di litio e delle prestazioni elettrochimiche in forma di film sottile.
\nFilm sottili di ossido funzionale<\/strong>
\n: i target di ossido di litio e cobalto supportano lo sviluppo di rivestimenti di ossido funzionale per applicazioni avanzate legate all’energia.<\/p>\n

Domande frequenti<\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Quali metodi di sputtering sono adatti per i target di ossido di litio e cobalto?
\nR1: I target di sputtering di ossido di litio e cobalto sono tipicamente utilizzati nei sistemi di sputtering RF o magnetron.<\/p>\n

D2: La perdita di litio \u00e8 un problema durante lo sputtering?
\nR2: Una corretta progettazione del target e parametri di sputtering ottimizzati aiutano a mantenere la composizione del film e a ridurre la volatilit\u00e0 del litio.<\/p>\n

D3: Questi target possono essere incollati alle piastre di supporto?
\nR3: S\u00ec, i target possono essere forniti con opzioni di incollaggio adeguate a seconda dei requisiti del sistema.<\/p>\n

D4: Quali substrati sono compatibili con i film sottili di LiCoO\u2082?
\nR4: I substrati comuni includono wafer di silicio, vetro, zaffiro e substrati metallici utilizzati nella ricerca sulle batterie a film sottile.<\/p>\n

Rapporto<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporto di ispezione delle dimensioni
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere ULPMAT?<\/span><\/h2>\n

ULPMAT si concentra su materiali energetici avanzati e ossidi funzionali, offrendo qualit\u00e0 controllata, supporto tecnico e fornitura affidabile per applicazioni di target di sputtering nella ricerca sulle batterie e sui film sottili.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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