{"id":45338,"date":"2026-01-20T13:47:49","date_gmt":"2026-01-20T05:47:49","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/carburo-di-silicio-3\/"},"modified":"2026-01-20T13:47:49","modified_gmt":"2026-01-20T05:47:49","slug":"carburo-di-silicio-3","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/carburo-di-silicio-3\/","title":{"rendered":"Carburo di silicio"},"content":{"rendered":"

Panoramica sui target di sputtering in carburo di silicio<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin carburo di silicio<\/a><\/span>
\nsono target ceramici adatti alla preparazione di film sottili altamente stabili, che possiedono un’eccellente resistenza alle alte temperature, all’usura e una stabilit\u00e0 chimica. Sono utilizzati principalmente per la preparazione di rivestimenti protettivi, film sottili funzionali e strutture a film sottile relative ai dispositivi elettronici.<\/p>\n

Siamo in grado di fornire target di sputtering in carburo di silicio compatibili con il processo e supportare<\/a><\/span>
\nl’integrazione tecnica<\/a><\/span>
\ntra le strutture dei target e le condizioni di deposizione. Contattateci<\/a><\/span>
\nsubito!<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Composizione stabile del film
\nForte adattabilit\u00e0 alle condizioni di alta temperatura
\nEccellente resistenza all’usura e alla corrosione
\nBuona stabilit\u00e0 del processo di sputtering
\nAdatto a vari processi di deposizione<\/p>\n

Applicazioni dei target di sputtering in carburo di silicio<\/span><\/h2>\n

Rivestimenti protettivi e resistenti all’usura:<\/strong>
\ni target in carburo di silicio sono comunemente utilizzati per preparare film sottili protettivi ad alta durezza, migliorando la resistenza all’usura superficiale e la durata.
\nFilm sottili elettronici e funzionali:<\/strong>
\nadatti per la deposizione di dispositivi elettronici e film sottili funzionali, soddisfano i requisiti delle applicazioni ad alta temperatura e ad alta potenza.
\nIngegneria ottica<\/a> <\/span>e funzionale delle superfici:<\/strong>
\nnell’ingegneria funzionale delle superfici, i film sottili in carburo di silicio forniscono propriet\u00e0 fisiche e chimiche stabili.
\nRicerca e sviluppo di processi:<\/strong>
\nampiamente utilizzati nelle fasi di ricerca e sviluppo in laboratorio e di convalida dei processi, supportano l’ottimizzazione dei parametri di processo.<\/p>\n

Domande frequenti<\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Quali processi di deposizione sono adatti per i target di sputtering in carburo di silicio?
\nR1: Comunemente utilizzati nei processi di deposizione di film sottili come lo sputtering magnetronico, soddisfano vari requisiti di processo.<\/p>\n

D2: Come si comportano i target in carburo di silicio nella deposizione ad alta temperatura?
\nR2: Mantengono una buona stabilit\u00e0 strutturale e uniformit\u00e0 di sputtering anche in condizioni di alta temperatura.<\/p>\n

D3: Quali sono i principali vantaggi dei film sottili in SiC?
\nR3: Si riflettono principalmente nell’elevata durezza, resistenza all’usura, resistenza alla corrosione e buona stabilit\u00e0 termica.<\/p>\n

D4: La struttura del bersaglio influisce sulla stabilit\u00e0 della polverizzazione?
\nR4: Una struttura del bersaglio ben progettata contribuisce a migliorare la stabilit\u00e0 del processo di polverizzazione e l’uniformit\u00e0 del film sottile.<\/p>\n

Rapporto<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporto di controllo delle dimensioni
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Possediamo capacit\u00e0 di fornitura continua e comprensione dei processi nel campo dei target di sputtering ceramici, che ci consentono di fornire target di sputtering in carburo di silicio stabili e tracciabili, supportando i clienti nel raggiungimento di risultati affidabili nella deposizione di film sottili durante le fasi di ricerca e sviluppo e applicazione.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Panoramica sui target di sputtering in carburo di silicio I target di sputtering in carburo di silicio sono target ceramici adatti alla preparazione di film sottili altamente stabili, che possiedono un’eccellente resistenza alle alte temperature, all’usura e una stabilit\u00e0 chimica. Sono utilizzati principalmente per la preparazione di rivestimenti protettivi, film sottili funzionali e strutture a […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":45339,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[453],"product_tag":[5985],"class_list":["post-45338","product","type-product","status-publish","has-post-thumbnail","product_brand-ulpmat","product_cat-target-di-sputtering-in-ceramica","product_tag-target-di-sputtering-al-carburo-di-silicio","first","instock","shipping-taxable","product-type-variable"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/45338","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/45339"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=45338"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=45338"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=45338"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=45338"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}