{"id":44600,"date":"2026-01-23T11:37:45","date_gmt":"2026-01-23T03:37:45","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/metallo-di-titanio-2\/"},"modified":"2026-01-23T11:37:45","modified_gmt":"2026-01-23T03:37:45","slug":"metallo-di-titanio-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/metallo-di-titanio-2\/","title":{"rendered":"Metallo di titanio"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Panoramica sui target di sputtering in titanio<\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=name&#038;keyword=Titanium+metal\"><\/a><\/span><br \/>\nI target di<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><\/span><br \/>\nsputtering<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=name&#038;keyword=Titanium+metal\">in titanio<\/a><\/span><br \/>\nsono target metallici ad alta purezza ampiamente utilizzati nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD) per formare film sottili funzionali in titanio o a base di titanio. Sono comunemente utilizzati nei dispositivi a semiconduttori, nei rivestimenti ottici, negli strati resistenti alla corrosione e nell&#8217;ingegneria avanzata delle superfici.<\/p>\n<p>Forniamo target di sputtering in titanio con composizione stabile e microstruttura controllata, che supportano una deposizione affidabile di film sottili per applicazioni industriali e di ricerca. <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/contatto\/\">Contattate<\/a><\/span><br \/>\nil nostro team tecnico per soluzioni personalizzate.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n<p>Materiale in titanio ad alta purezza<br \/>\nStruttura granulare uniforme<br \/>\nEccellente stabilit\u00e0 di sputtering<br \/>\nBassa generazione di particelle<br \/>\nElevata densit\u00e0 del target<br \/>\nComposizione del film uniforme<br \/>\nAdatto per sputtering DC e RF<br \/>\nCompatibile con design incollati e monoblocco<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazioni del bersaglio di sputtering in titanio metallo<\/span><\/h2>\n<p><strong>Film sottili <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/applicazione\/materiali-per-semiconduttori\/\">semiconduttori<\/a><\/span>:<\/strong><br \/>\ni bersagli di sputtering in titanio sono ampiamente utilizzati per depositare strati di Ti o a base di Ti come strati di adesione, barriere di diffusione e film conduttivi nella produzione di semiconduttori.<br \/>\n<strong>Rivestimenti <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/applicazione\/materiali-ottici\/\">ottici<\/a><\/span>:<\/strong><br \/>\ni film sottili di titanio preparati mediante sputtering sono utilizzati in rivestimenti ottici interferenziali, strati riflettenti e sistemi multistrato funzionali che richiedono un controllo preciso dello spessore.<br \/>\n<strong>Rivestimenti resistenti alla corrosione:<\/strong><br \/>\ni rivestimenti in titanio offrono un&#8217;eccellente stabilit\u00e0 chimica e resistenza alla corrosione, rendendoli adatti come strati protettivi in ambienti chimici o marini difficili.<br \/>\n<strong>Rivestimenti decorativi e funzionali:<\/strong><br \/>\ni film sputterizzati in titanio sono applicati in rivestimenti decorativi, strati resistenti all&#8217;usura e modifiche superficiali per utensili e componenti meccanici.<\/p>\n<h2><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/azienda\/domande-frequenti\/\"><span style=\"font-size: 14pt;\">Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n<p>D1: Quali metodi di sputtering sono adatti per i target in titanio metallico?<br \/>\nA1: I target di sputtering in titanio sono compatibili con i sistemi di sputtering magnetron DC e RF, a seconda della configurazione dell&#8217;apparecchiatura e dei requisiti di processo.<\/p>\n<p>D2: In che modo la densit\u00e0 del target in titanio influisce sulla qualit\u00e0 del film sottile?<br \/>\nA2: Una maggiore densit\u00e0 del target contribuisce a velocit\u00e0 di sputtering pi\u00f9 stabili, riduzione dell&#8217;arco elettrico e miglioramento dell&#8217;uniformit\u00e0 del film durante lunghi cicli di deposizione.<\/p>\n<p>D3: I target di sputtering in titanio possono essere forniti in forma incollata?<br \/>\nA3: S\u00ec, i target in titanio possono essere forniti incollati a piastre di supporto per migliorare la conduttivit\u00e0 termica e la stabilit\u00e0 meccanica durante la polverizzazione.<\/p>\n<p>Q4: Quali settori utilizzano comunemente i target di polverizzazione in titanio?<br \/>\nA4: Sono ampiamente utilizzati nella produzione di semiconduttori, nell&#8217;ottica, nell&#8217;ingegneria delle superfici, nei dispositivi energetici e nella ricerca sui materiali.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Rapporto<\/span><\/h2>\n<p>Ogni lotto viene fornito con:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/certificato-di-analisi\/\"><u>Certificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/scheda-tecnica\/\"><u>Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/scheda-di-sicurezza\/\"><u>Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nRapporto di controllo delle dimensioni<br \/>\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n<p>Con la nostra esperienza nei materiali metallici per sputtering, ci concentriamo sul controllo delle materie prime, sulla stabilit\u00e0 della lavorazione e sulla gestione costante della qualit\u00e0 per garantire target di sputtering in titanio affidabili sia per la produzione industriale che per le applicazioni di ricerca e sviluppo.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Panoramica sui target di sputtering in titanio I target di sputtering in titanio sono target metallici ad alta purezza ampiamente utilizzati nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD) per formare film sottili funzionali in titanio o a base di titanio. 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