{"id":44442,"date":"2026-01-23T11:37:48","date_gmt":"2026-01-23T03:37:48","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/ossido-di-titanio-8\/"},"modified":"2026-01-23T11:37:48","modified_gmt":"2026-01-23T03:37:48","slug":"ossido-di-titanio-8","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ossido-di-titanio-8\/","title":{"rendered":"Ossido di titanio"},"content":{"rendered":"

Target di sputtering in ossido di titanio Panoramica<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin ossido di titanio<\/a><\/span>
\nsono target in ossido di titanio a bassa valenza adatti alla preparazione di film sottili di ossido funzionale nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD). Questi target sono ampiamente utilizzati nei campi di ricerca relativi ai materiali elettronici, ai film sottili funzionali e agli ossidi di metalli di transizione.<\/p>\n

Siamo in grado di fornire target di sputtering in Ti2O3 con composizione stabile e struttura uniforme per la ricerca e la deposizione di film sottili di livello industriale. Contattateci<\/a><\/span>
\nper informazioni tecniche.<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Target di ossido di titanio a bassa valenza
\nComposizione stabile e fase cristallina
\nBuona controllabilit\u00e0 del processo di sputtering
\nElevata uniformit\u00e0 della composizione del film
\nAdatto a vari sistemi PVD
\nStabilit\u00e0 affidabile dei lotti<\/p>\n

Applicazioni dei target di sputtering in ossido di titanio<\/span><\/h2>\n

Film sottili di ossido funzionale:<\/strong>
\ncomunemente utilizzati per la deposizione di film sottili di ossido con propriet\u00e0 elettriche o strutturali specifiche, adatti alla ricerca su materiali funzionali e dispositivi.
\nRicerca sui materiali elettronici e semiconduttori<\/a><\/span>:<\/strong>
\nquesto target \u00e8 adatto alla preparazione di film sottili di ossido di metallo di transizione, utilizzati per studiare il comportamento del trasporto elettrico, la struttura a bande e le propriet\u00e0 dell’interfaccia.
\nRicerca e preparazione di film sottili in laboratorio:<\/strong>
\ngrazie alla loro composizione chimica ben definita, i film sottili di Ti2O3 sono ampiamente utilizzati negli esperimenti di deposizione di film sottili nelle universit\u00e0 e negli istituti di ricerca.
\nSviluppo di nuovi materiali funzionali:<\/strong>
\nnei nuovi sistemi di materiali ossidici, i film sottili di Ti2O3 sono spesso utilizzati come strati di base o strati funzionali per esplorare le propriet\u00e0 dei materiali.<\/p>\n

Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Per quali tipi di film sottili vengono utilizzati principalmente i target di sputtering di ossido di titanio?
\nR1: Utilizzati principalmente per il deposito di film sottili di ossido di titanio a bassa valenza o di ossidi funzionali correlati, comunemente utilizzati nella ricerca sui materiali elettronici e funzionali.<\/p>\n

D2: \u00c8 necessario il controllo dell’atmosfera quando si utilizzano bersagli di ossido di titanio per la polverizzazione?
\nR2: S\u00ec, durante la polverizzazione \u00e8 solitamente necessario controllare la pressione parziale dell’ossigeno o l’atmosfera di lavoro per garantire la stabilit\u00e0 dello stato di valenza e della composizione del titanio nel film sottile.<\/p>\n

D3: Quali metodi di polverizzazione sono adatti per i bersagli di polverizzazione di ossido di titanio?
\nA3: Generalmente adatti per i sistemi di sputtering con magnetron RF, possono essere applicati anche ad altri processi PVD a seconda delle condizioni delle apparecchiature.<\/p>\n

D4: Qual \u00e8 il valore di ricerca dei film sottili preparati utilizzando target di sputtering di ossido di titanio?
\nA4: Questo tipo di film sottile ha un significativo valore di ricerca nello studio delle propriet\u00e0 elettriche, del comportamento di transizione di fase e dei meccanismi degli ossidi di metalli di transizione.<\/p>\n

Rapporto<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporto di ispezione delle dimensioni
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Siamo specializzati nella preparazione stabile e nel controllo di qualit\u00e0 di target di sputtering di ossidi funzionali, fornendo un supporto affidabile per la deposizione di film sottili di Ti\u2082O\u2083.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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