{"id":44376,"date":"2026-01-23T11:37:49","date_gmt":"2026-01-23T03:37:49","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/carburo-di-alluminio-e-titanio-2\/"},"modified":"2026-01-23T11:37:49","modified_gmt":"2026-01-23T03:37:49","slug":"carburo-di-alluminio-e-titanio-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/carburo-di-alluminio-e-titanio-2\/","title":{"rendered":"Carburo di alluminio e titanio"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Target di sputtering in carburo di titanio e alluminio Panoramica<\/span><\/h2>\n<p>I target di sputtering<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=name&#038;keyword=Titanium+Aluminum+Carbide\">in carburo di titanio e alluminio<\/a><\/span><br \/>\nsono tipici target in materiale MAX phase, che possiedono propriet\u00e0 sia metalliche che ceramiche, adatti alla preparazione di film sottili funzionali nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD). Questi target sono ampiamente utilizzati nei rivestimenti funzionali, nei film sottili ceramici conduttivi e nella ricerca sui materiali avanzati.<\/p>\n<p>Siamo in grado di fornire target di sputtering Ti3AlC2 strutturalmente stabili e affidabili per la ricerca e la deposizione di film sottili funzionali. <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/contatto\/\">Contattateci.<\/a><\/span><\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Caratteristiche<\/span><\/h2>\n<p>principali<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">del prodotto<\/span><\/h2>\n<p>Tipico target in materiale <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/product-category\/materiali-di-prima-scelta\/precursori-mxene-materiali-a-fase-max\/\">MAX phase<\/a><\/span><br \/>\n(M\u2083AX\u2082)<br \/>\nDoppie propriet\u00e0 metalliche e ceramiche<br \/>\nBuona conduttivit\u00e0<br \/>\nProcesso di sputtering stabile<br \/>\nBuona consistenza della composizione del film<br \/>\nAdatto a vari sistemi PVD<br \/>\nStabilit\u00e0 affidabile dei lotti<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazioni dei target di sputtering in carburo di titanio e alluminio<\/span><\/h2>\n<p><strong><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/product-category\/materiali-di-prima-scelta\/precursori-mxene-materiali-a-fase-max\/\">Film sottili funzionali e materiali di rivestimento:<\/a><\/span><\/strong><br \/>\npossono essere utilizzati per depositare film sottili funzionali con conduttivit\u00e0 e stabilit\u00e0 strutturale, adatti alla ricerca avanzata sui materiali di rivestimento.<br \/>\n<strong>Film sottili ceramici conduttivi:<\/strong><br \/>\nla sua conduttivit\u00e0 metallica lo rende un potenziale candidato per la preparazione di ceramiche conduttive e relativi materiali elettronici a film sottile.<br \/>\n<strong>Ricerca <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/product-category\/materiali-di-prima-scelta\/precursori-mxene-materiali-a-fase-max\/\">sulla fase MAX<\/a><\/span> e sui materiali stratificati:<\/strong><br \/>\nquesto target \u00e8 ampiamente utilizzato nella ricerca sui film sottili in fase MAX, sulle strutture stratificate e sull&#8217;evoluzione delle loro prestazioni.<br \/>\n<strong>Ingegneria delle superfici e rivestimenti funzionali:<\/strong><br \/>\nadatto alla preparazione di rivestimenti compositi resistenti alle alte temperature, agli shock termici o funzionali per la ricerca sulla modifica delle superfici dei materiali.<\/p>\n<h2><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/azienda\/domande-frequenti\/\"><span style=\"font-size: 14pt;\">Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n<p>D1: Per quale tipo di film sottili viene utilizzato principalmente il target di sputtering in carburo di titanio e alluminio?<br \/>\nA1: Utilizzato principalmente per la deposizione di film sottili relativi alla fase MAX o film sottili funzionali del sistema Ti-Al-C per la ricerca sulla conduttivit\u00e0 e la funzionalit\u00e0 strutturale.<\/p>\n<p>D2: Il target in carburo di titanio e alluminio \u00e8 adatto per la polverizzazione magnetronica?<br \/>\nA2: S\u00ec, il Ti\u2083AlC\u2082 ha una certa conduttivit\u00e0 ed \u00e8 generalmente adatto per processi PVD come la polverizzazione magnetronica.<\/p>\n<p>Q3: La composizione del film \u00e8 stabile quando si utilizza un bersaglio di sputtering Ti\u2083AlC\u2082?<br \/>\nA3: Con parametri di processo e controllo dell&#8217;atmosfera adeguati, \u00e8 possibile ottenere film con una buona ripetibilit\u00e0 compositiva.<\/p>\n<p>Q4: Qual \u00e8 il valore della ricerca sui film sottili Ti\u2083AlC\u2082?<br \/>\nA4: Il suo valore di ricerca si riflette principalmente nei campi dei film sottili ceramici conduttivi, dei materiali a struttura stratificata e dei nuovi rivestimenti funzionali.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Rapporto<\/span><\/h2>\n<p>Ogni lotto viene fornito con:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/certificato-di-analisi\/\"><u>Certificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/scheda-tecnica\/\"><u>Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/scheda-di-sicurezza\/\"><u>Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nRapporto di controllo delle dimensioni<\/p>\n<p>Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n<p>Siamo specializzati nella preparazione stabile e nel controllo qualit\u00e0 di target di sputtering in ceramica funzionale e fase MAX, fornendo una base materiale affidabile per la deposizione di film sottili di Ti\u2083AlC\u2082.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Target di sputtering in carburo di titanio e alluminio Panoramica I target di sputtering in carburo di titanio e alluminio sono tipici target in materiale MAX phase, che possiedono propriet\u00e0 sia metalliche che ceramiche, adatti alla preparazione di film sottili funzionali nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD). 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