{"id":44294,"date":"2026-01-23T11:37:50","date_gmt":"2026-01-23T03:37:50","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/ossido-di-titanio-5\/"},"modified":"2026-01-23T11:37:50","modified_gmt":"2026-01-23T03:37:50","slug":"ossido-di-titanio-5","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ossido-di-titanio-5\/","title":{"rendered":"Ossido di titanio"},"content":{"rendered":"

Panoramica sui target di sputtering in ossido di titanio<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin ossido di titanio<\/a><\/span>
\nsono target in ossido di titanio con stati di valenza mista, adatti alla preparazione di film sottili di ossido funzionale nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD). Questi target sono ampiamente utilizzati nei campi di ricerca relativi ai materiali a cambiamento di fase, ai film sottili funzionali elettronici e agli ossidi di metalli di transizione.<\/p>\n

Siamo in grado di fornire target di sputtering Ti\u2083O\u2085 densi e compositivamente stabili per la ricerca e la deposizione di film sottili funzionali. Supportiamo backplane personalizzati e servizi di incollaggio<\/a><\/span>
\ndei backplane. Contattateci<\/a><\/span>
\nper ulteriori informazioni.<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Stato di valenza mista
\nComposizione e fase cristallina stabili
\nBuona controllabilit\u00e0 del processo di sputtering
\nElevata ripetibilit\u00e0 del film sottile
\nAdatto a vari sistemi PVD
\nAffidabile uniformit\u00e0 dei lotti<\/p>\n

Applicazioni dei target di sputtering all’ossido di titanio<\/span><\/h2>\n

Film sottili funzionali a cambiamento di fase:<\/strong>
\ni film sottili Ti\u2083O\u2085, grazie al loro comportamento unico di cambiamento di fase, sono spesso utilizzati nello studio dei meccanismi di cambiamento di fase e delle propriet\u00e0 elettriche dipendenti dalla temperatura.
\nFilm sottili funzionali elettronici ed elettrici:<\/strong>
\nquesto target \u00e8 adatto per la deposizione di film sottili di ossido di titanio con speciali propriet\u00e0 di trasporto elettrico per la ricerca relativa all’elettronica e ai dispositivi.
\nRicerca sui film sottili di ossidi di metalli di transizione:<\/strong>
\nampiamente utilizzato per esplorare la struttura e le propriet\u00e0 dei film sottili nei sistemi di ossidi di metalli di transizione.
\nRicerca e preparazione di film sottili in laboratorio:<\/strong>
\nadatto per universit\u00e0 e istituti di ricerca per condurre esperimenti di deposizione di film sottili PVD e sviluppare nuovi materiali.<\/p>\n

Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Per quali tipi di film sottili viene utilizzato principalmente il target di sputtering Ti\u2083O\u2085?
\nA1: Utilizzato principalmente per la preparazione di film sottili di ossido di titanio con stati di valenza mista, comunemente presenti nella ricerca sui film sottili funzionali e sulla transizione di fase.<\/p>\n

D2: \u00c8 necessario controllare l’atmosfera di ossigeno quando si utilizza questo target per la polverizzazione?
\nA2: In generale, \u00e8 necessario controllare l’atmosfera di polverizzazione per ottenere una composizione del film e una distribuzione dello stato di valenza stabili.<\/p>\n

D3: A quale metodo di sputtering \u00e8 adatto il target di sputtering Ti3O5?
\nA3: Questo target \u00e8 generalmente adatto ai sistemi di sputtering con magnetrone RF e pu\u00f2 essere utilizzato anche per altri processi PVD a seconda delle condizioni dell’apparecchiatura.<\/p>\n

Q4: Qual \u00e8 il valore della ricerca sui film sottili di ossido di titanio?
\nA4: Il loro valore di ricerca risiede principalmente nello studio del comportamento di transizione di fase, nella regolazione delle propriet\u00e0 elettriche e nel meccanismo degli ossidi a valenza mista.<\/p>\n

Rapporto<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporto di controllo delle dimensioni
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Siamo specializzati nella preparazione stabile e nel controllo di qualit\u00e0 dei target di sputtering di ossido di titanio, fornendo una base materiale affidabile per la ricerca sui film sottili funzionali Ti\u2083O\u2085.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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