{"id":44256,"date":"2026-01-23T11:37:51","date_gmt":"2026-01-23T03:37:51","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/carburo-di-titanio-e-silicio\/"},"modified":"2026-01-23T11:37:51","modified_gmt":"2026-01-23T03:37:51","slug":"carburo-di-titanio-e-silicio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/carburo-di-titanio-e-silicio\/","title":{"rendered":"Carburo di titanio e silicio"},"content":{"rendered":"

\u00a0Target di sputtering in carburo di titanio e silicio Panoramica<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin carburo di titanio e silicio<\/a><\/span>
\nsono target ceramici funzionali basati su una struttura in fase MAX, che combinano la conduttivit\u00e0 dei metalli con la resistenza alle alte temperature della ceramica. Questi target vengono utilizzati principalmente per preparare film sottili funzionali che richiedono resistenza alle alte temperature, conduttivit\u00e0 e stabilit\u00e0 strutturale.<\/p>\n

Offriamo target per sputtering Ti3SiC2 con composizione uniforme e struttura stabile, adatti per processi di sputtering con magnetron DC o RF. Sono disponibili diverse dimensioni e forme strutturali per soddisfare i requisiti delle apparecchiature. Contattateci<\/a><\/span>
\nper i parametri tecnici e i suggerimenti di applicazione.<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Struttura cristallina a strati
\nin fase MAX<\/a><\/span><\/p>\n

Buona conduttivit\u00e0 elettrica, adatta per lo sputtering con magnetron
\nEccellente stabilit\u00e0 termica e resistenza agli shock termici
\nComposizione stabile e buona ripetibilit\u00e0 durante la sputtering
\nAdatto per ambienti di deposizione ad alta temperatura e sottovuoto
\nPu\u00f2 essere utilizzato per preparare film sottili funzionali e strutturali<\/p>\n

Applicazioni dei target di sputtering in carburo di titanio e silicio<\/span><\/h2>\n

Deposizione di film sottili funzionali:<\/strong>
\nutilizzati per preparare film sottili funzionali con conduttivit\u00e0 e resistenza alle alte temperature, adatti per applicazioni in dispositivi funzionali di fascia alta.
\nResistenza alle alte temperature e rivestimenti protettivi:<\/strong>
\ni film sottili Ti\u2083SiC\u2082 mostrano una buona stabilit\u00e0 strutturale in condizioni di alta temperatura e possono essere utilizzati per la protezione dalle alte temperature e per rivestimenti strutturali.
\nRicerca sui semiconduttori<\/a> <\/span>e la microelettronica:<\/strong>
\nadatto per la deposizione di strati funzionali in dispositivi a semiconduttori, MEMS e ricerca sui materiali correlati.
\nRicerca scientifica e sviluppo dei materiali:<\/strong>
\nampiamente utilizzato nella ricerca sui film sottili in fase MAX, sui meccanismi di crescita e sui nuovi materiali stratificati.<\/p>\n

Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

D1: A quale metodo di sputtering \u00e8 adatto il target di sputtering Ti3SiC2?
\nA1: Questo target ha una buona conduttivit\u00e0 e pu\u00f2 essere utilizzato per lo sputtering con magnetron a corrente continua, nonch\u00e9 per i sistemi di sputtering con magnetron a radiofrequenza.<\/p>\n

D2: La composizione del target Ti3SiC2 \u00e8 stabile durante lo sputtering?
\nA2: Con parametri di processo ragionevoli, questo target di sputtering pu\u00f2 mantenere una buona consistenza compositiva, rendendolo adatto alla deposizione di film sottili con elevati requisiti di ripetibilit\u00e0.<\/p>\n

D3: Il target di sputtering Ti3SiC2 \u00e8 adatto ai processi di deposizione ad alta temperatura?
\nA3: S\u00ec, questo materiale target possiede un’eccellente stabilit\u00e0 termica e resistenza agli shock termici, rendendolo adatto a condizioni di sputtering ad alta temperatura o a lungo termine.<\/p>\n

D4: In quali aree di ricerca viene tipicamente utilizzato il film sottile Ti3SiC2?
\nA4: Utilizzato principalmente nei film sottili MAX Phase, nella ricerca sui materiali biocompatibili, nei rivestimenti resistenti all’usura e alle alte temperature e nei film sottili ceramici conduttivi.<\/p>\n

Rapporto<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporto di ispezione delle dimensioni
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Siamo specializzati nella ricerca e nella fornitura di ceramiche funzionali e materiali target avanzati, fornendo soluzioni stabili e affidabili per il controllo della struttura dei materiali, la densificazione dei target e l’adattamento delle applicazioni, supportando la ricerca e le esigenze di deposizione di film sottili di livello industriale.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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