{"id":44198,"date":"2026-01-23T11:37:53","date_gmt":"2026-01-23T03:37:53","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/ossido-di-titanio-2\/"},"modified":"2026-01-23T11:37:53","modified_gmt":"2026-01-23T03:37:53","slug":"ossido-di-titanio-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ossido-di-titanio-2\/","title":{"rendered":"Ossido di titanio"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Panoramica sui target di sputtering in subossido di titanio<\/span><\/h2>\n<p>I target di sputtering<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=name&#038;keyword=Titanium+oxide\">in ossido di titanio<\/a><\/span><br \/>\nappartengono alla fase Magn\u00e9li e combinano la conduttivit\u00e0 dei metalli con la resistenza alle alte temperature della ceramica. Questi target vengono utilizzati principalmente per preparare film sottili funzionali con elevata conduttivit\u00e0, resistenza alle alte temperature e stabilit\u00e0 strutturale e sono ampiamente utilizzati nei dispositivi elettronici, nella ceramica conduttiva e nello sviluppo di materiali scientifici per film sottili.<\/p>\n<p>Siamo in grado di fornire target di sputtering Ti4O7 densi e uniformi nella composizione, adatti per sistemi di sputtering magnetron DC o RF. \u00c8 possibile fornire diverse dimensioni e metodi di lavorazione in base alle esigenze delle apparecchiature del cliente per soddisfare le esigenze di preparazione di film sottili scientifici o industriali. <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/contatto\/\">Contattateci<\/a><\/span><br \/>\nsubito!<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n<p>Struttura di sottossido di titanio in fase Magn\u00e9li<br \/>\nElevata conduttivit\u00e0, adatto per lo sputtering magnetron<br \/>\nEccellente stabilit\u00e0 termica e resistenza agli shock termici<br \/>\nComposizione stabile durante la polverizzazione, buona ripetibilit\u00e0 del film<br \/>\nAdatto per deposizione ad alta temperatura, sotto vuoto e in atmosfera inerte<br \/>\nPu\u00f2 essere utilizzato per la preparazione di film sottili funzionali e strutturali<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazioni del bersaglio di polverizzazione al subossido di titanio<\/span><\/h2>\n<p><strong>Deposizione di film sottili funzionali:<\/strong><br \/>\npu\u00f2 essere utilizzato per preparare film sottili funzionali altamente conduttivi e resistenti alle alte temperature, adatti per dispositivi elettronici e applicazioni di rivestimento speciali.<br \/>\n<strong>Ceramiche conduttive e film sottili compositi:<\/strong><br \/>\ngrazie alla sua elevata conduttivit\u00e0 e stabilit\u00e0, \u00e8 possibile preparare materiali ceramici conduttivi e film sottili compositi.<br \/>\n<strong>Ricerca scientifica e sviluppo di materiali:<\/strong><br \/>\nampiamente utilizzato nella ricerca e nello sviluppo di materiali in fase Magn\u00e9li, film sottili di ossido conduttivo e nuovi film sottili funzionali.<br \/>\n<strong>Rivestimenti resistenti alla corrosione ad alta temperatura:<\/strong><br \/>\ni film sottili Ti4O7 mostrano prestazioni stabili in ambienti ad alta temperatura o corrosivi e possono essere utilizzati per la ricerca su rivestimenti resistenti al calore o protettivi.<\/p>\n<h2><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/azienda\/domande-frequenti\/\"><span style=\"font-size: 14pt;\">Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n<p>D1: A quale metodo di sputtering \u00e8 adatto il bersaglio di sputtering di sottossido di titanio?<br \/>\nR1: Adatto sia ai sistemi di sputtering magnetron DC che RF, mostra un&#8217;eccellente conduttivit\u00e0 e adattabilit\u00e0 a vari processi PVD.<\/p>\n<p>D2: La composizione del target Ti\u2084O\u2087 \u00e8 stabile durante la polverizzazione?<br \/>\nR2: Con parametri di processo adeguati, il target mantiene una composizione stabile, garantendo una buona ripetibilit\u00e0 e uniformit\u00e0 del film.<\/p>\n<p>D3: Il target \u00e8 in grado di resistere a condizioni di polverizzazione ad alta temperatura?<br \/>\nR3: S\u00ec, il target possiede un&#8217;eccellente stabilit\u00e0 termica e resistenza agli shock termici, che lo rendono adatto alla deposizione ad alta temperatura a lungo termine.<\/p>\n<p>D4: In quali aree di ricerca vengono tipicamente applicati i film sottili Ti\u2084O\u2087?<br \/>\nR4: Utilizzati principalmente per film sottili di ossido conduttivo, film sottili ceramici funzionali, rivestimenti ad alta temperatura e ricerca sui materiali in fase Magn\u00e9li.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Rapporto<\/span><\/h2>\n<p>Ogni lotto viene fornito con:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/certificato-di-analisi\/\"><u>Certificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/scheda-tecnica\/\"><u>Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/scheda-di-sicurezza\/\"><u>Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nRapporto di ispezione delle dimensioni<br \/>\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n<p>Ci concentriamo sulla ricerca, lo sviluppo e la fornitura di ceramiche funzionali e target di sputtering ad alte prestazioni, garantendo che i target di sputtering Ti\u2084O\u2087 soddisfino gli standard scientifici e industriali in termini di struttura del materiale, densificazione e compatibilit\u00e0 di sputtering, fornendo una garanzia affidabile per la preparazione di film sottili.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Panoramica sui target di sputtering in subossido di titanio I target di sputtering in ossido di titanio appartengono alla fase Magn\u00e9li e combinano la conduttivit\u00e0 dei metalli con la resistenza alle alte temperature della ceramica. 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