{"id":43992,"date":"2026-01-23T13:24:20","date_gmt":"2026-01-23T05:24:20","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/lega-di-titanio-alluminio-silicio\/"},"modified":"2026-01-23T13:24:20","modified_gmt":"2026-01-23T05:24:20","slug":"lega-di-titanio-alluminio-silicio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/lega-di-titanio-alluminio-silicio\/","title":{"rendered":"Lega di titanio alluminio silicio"},"content":{"rendered":"

Target di sputtering in titanio-alluminio-silicio Aolly Panoramica<\/span><\/h2>\n

Il target di sputtering in lega
\ndi titanio-alluminio-silicio<\/a><\/span>
\n\u00e8 un materiale in lega di titanio-alluminio-silicio stabile alle alte temperature, che possiede sia un’eccellente conduttivit\u00e0 che una resistenza alle alte temperature. \u00c8 ampiamente utilizzato nello sviluppo di film sottili funzionali, rivestimenti ceramici conduttivi, dispositivi elettronici ad alta temperatura e materiali scientifici per film sottili.<\/p>\n

Offriamo target di sputtering TiAlSi con composizione uniforme e struttura densa, adatti per sistemi di sputtering magnetron DC o RF. Contattateci<\/a><\/span>
\nper specifiche dettagliate e informazioni tecniche.<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Stabile alle alte temperature
\nEccellente conduttivit\u00e0 e stabilit\u00e0 termica
\nStabilit\u00e0 compositiva e buona ripetibilit\u00e0 del film durante lo sputtering
\nAdatto per depositi ad alta temperatura, sotto vuoto e in atmosfera inerte
\nElevata uniformit\u00e0 dei lotti
\nDimensioni e fattori di forma personalizzabili
\nAdatto per la preparazione di film sottili scientifici e industriali<\/p>\n

Applicazioni del bersaglio di sputtering in titanio-alluminio-silicio<\/span><\/h2>\n

Deposizione di film sottili funzionali:<\/strong>
\npu\u00f2 essere utilizzato per preparare film sottili funzionali altamente conduttivi, resistenti alle alte temperature e alla corrosione per dispositivi elettronici e rivestimenti conduttivi.
\nCeramiche conduttive e film sottili compositi:<\/strong>
\ngrazie alla sua conduttivit\u00e0 e stabilit\u00e0 alle alte temperature, pu\u00f2 essere utilizzato per preparare film sottili compositi in metallo-ceramica e film ceramici conduttivi ad alte prestazioni.
\nRicerca e sviluppo di materiali:<\/strong>
\nampiamente utilizzato nella ricerca sui film sottili in lega di titanio-alluminio-silicio, nello sviluppo di nuovi materiali resistenti alle alte temperature e nei test sulle prestazioni dei film.
\nRivestimenti resistenti alla corrosione e alle alte temperature:<\/strong>
\ni film sottili TiAlSi mostrano prestazioni stabili in ambienti ad alta temperatura e corrosivi, rendendoli adatti alla ricerca su rivestimenti resistenti alle alte temperature e protettivi.<\/p>\n

Domande frequenti<\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Quale metodo di sputtering \u00e8 adatto per i target TiAlSi?
\nR1: Adatto per lo sputtering con magnetrone DC e lo sputtering con magnetrone RF. Ha un’eccellente conduttivit\u00e0 ed \u00e8 adatto a vari processi PVD.<\/p>\n

D2: La composizione dei target TiAlSi \u00e8 stabile durante la polverizzazione?
\nR2: In condizioni di processo appropriate, il target mantiene una composizione chimica stabile, con conseguente buona ripetibilit\u00e0 e uniformit\u00e0 del film.<\/p>\n

D3: I target TiAlSi sono adatti alla deposizione ad alta temperatura?
\nR3: S\u00ec, il target possiede un’eccellente stabilit\u00e0 termica e resistenza agli shock termici, che lo rendono adatto alla deposizione di film sottili ad alta temperatura.<\/p>\n

D4: In quali settori vengono utilizzati principalmente i film sottili TiAlSi?
\nR4: Utilizzati principalmente per rivestimenti conduttivi, film sottili funzionali, dispositivi elettronici ad alta temperatura e lo sviluppo di materiali di ricerca per film sottili.<\/p>\n

Rapporto<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporto di ispezione delle dimensioni
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Siamo specializzati nella ricerca e nella fornitura di target di sputtering TiAlSi ad alte prestazioni, garantendo che i nostri target di sputtering TiAlSi soddisfino gli standard di ricerca e industriali in termini di struttura del materiale, densificazione e compatibilit\u00e0 di sputtering, fornendo una garanzia affidabile per la preparazione di film sottili.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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