{"id":43520,"date":"2026-01-23T13:24:29","date_gmt":"2026-01-23T05:24:29","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/nitruro-di-titanio\/"},"modified":"2026-01-23T13:24:29","modified_gmt":"2026-01-23T05:24:29","slug":"nitruro-di-titanio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/nitruro-di-titanio\/","title":{"rendered":"Nitruro di titanio"},"content":{"rendered":"

Panoramica sui target di sputtering in nitruro di titanio<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin nitruro di titanio<\/a><\/span>
\nsono importanti target ceramici a base di titanio con elevata durezza, alto punto di fusione e stabilit\u00e0 chimica. Sono ampiamente utilizzati nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD) per preparare film sottili funzionali resistenti all’usura e alla corrosione, adatti per rivestimenti duri, rivestimenti di utensili e trattamenti superficiali di dispositivi elettronici.<\/p>\n

Offriamo target per sputtering in TiN ad alta purezza, densi e uniformi, adatti per sistemi di sputtering con magnetron DC o RF. \u00c8 possibile personalizzare diverse dimensioni, forme e metodi di incollaggio<\/a><\/span>
\nper soddisfare le esigenze della ricerca e della produzione industriale.<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Elevata durezza e resistenza all’usura, prestazioni stabili del film
\nBuona inerzia chimica, adatto a vari substrati
\nTarget denso, che riduce la disomogeneit\u00e0 dello sputtering
\nSupporta lo sputtering continuo e le applicazioni industriali
\nL’elevata purezza e l’uniformit\u00e0 compositiva garantiscono la qualit\u00e0 del film<\/p>\n

Applicazioni del target di sputtering in nitruro di titanio<\/span><\/h2>\n

Rivestimenti duri funzionali:<\/strong>
\npossono essere utilizzati per il rivestimento superficiale di utensili da taglio, stampi e parti altamente resistenti all’usura.
\nDispositivi elettronici e film sottili semiconduttori<\/a><\/span>:<\/strong>
\nutilizzati per il rivestimento superficiale di dispositivi microelettronici e la preparazione di film sottili conduttivi. Ricerca scientifica e sviluppo di nuovi materiali:<\/strong>
\nampiamente utilizzati in universit\u00e0, istituti di ricerca e laboratori per la ricerca su film sottili funzionali e processi PVD.<\/p>\n

Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Come scegliere la dimensione e la forma appropriate del target di sputtering TiN?
\nA1: Selezionare le dimensioni e la forma del bersaglio in base alle specifiche dell’apparecchiatura di sputtering, alle dimensioni del substrato e ai requisiti di deposizione. Opzioni personalizzate sono disponibili su richiesta presso il reparto vendite.<\/p>\n

D2: Quali precauzioni devono essere prese durante lo stoccaggio e il trasporto dei bersagli di sputtering TiN?
\nA2: Tenerli asciutti, evitare l’umidit\u00e0 e i danni meccanici e prevenire la contaminazione della superficie e la rottura.<\/p>\n

D3: \u00c8 possibile eseguire formulazioni o trattamenti di lega dei target di sputtering?
\nR3: Le formulazioni possono essere regolate o legate con altri elementi in base alle esigenze del cliente per soddisfare specifici requisiti di prestazione del film sottile.<\/p>\n

D4: Per quali processi di sputtering sono adatti i target di sputtering TiN?
\nR4: Adatti per processi di deposizione di film sottili compositi multistrato, sputtering magnetron DC e sputtering magnetron RF.<\/p>\n

Rapporto<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporto di ispezione delle dimensioni
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Siamo specializzati in ceramiche a base di titanio e target di sputtering, fornendo target di sputtering TiN ad alta purezza, densi e uniformi, insieme a soluzioni complete di personalizzazione e stoccaggio, garantendo stabilit\u00e0 e affidabilit\u00e0 per applicazioni di ricerca e industriali.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Panoramica sui target di sputtering in nitruro di titanio I target di sputtering in nitruro di titanio sono importanti target ceramici a base di titanio con elevata durezza, alto punto di fusione e stabilit\u00e0 chimica. Sono ampiamente utilizzati nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD) per preparare film sottili funzionali resistenti all’usura e alla […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":43521,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[],"product_cat":[453],"product_tag":[5656],"class_list":{"0":"post-43520","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_cat-target-di-sputtering-in-ceramica","7":"product_tag-target-di-sputtering-al-nitruro-di-titanio","9":"first","10":"instock","11":"shipping-taxable","12":"product-type-variable"},"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/43520","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/43521"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=43520"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=43520"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=43520"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=43520"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}