{"id":43352,"date":"2026-01-23T13:24:34","date_gmt":"2026-01-23T05:24:34","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/monossido-di-titanio\/"},"modified":"2026-01-23T13:24:34","modified_gmt":"2026-01-23T05:24:34","slug":"monossido-di-titanio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/monossido-di-titanio\/","title":{"rendered":"Monossido di titanio"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Target di sputtering al monossido di titanio Panoramica<\/span><\/h2>\n<p>I target di sputtering<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=name&#038;keyword=Titanium+Monoxide\">al monossido di titanio<\/a><\/span><br \/>\nsono target ceramici al sub-ossido di titanio con propriet\u00e0 fisiche ed elettriche intermedie tra il titanio metallico e l&#8217;ossido di titanio ad alta valenza. Sono adatti per la preparazione di film sottili funzionali con requisiti specifici di conduttivit\u00e0, assorbimento ottico e controllo strutturale. Questo materiale \u00e8 comunemente utilizzato nei processi di deposizione di film sottili che richiedono un controllo preciso dello stato di ossidazione del titanio ed \u00e8 particolarmente adatto per applicazioni di sputtering magnetronico PVD.<\/p>\n<p>Siamo in grado di fornire target di sputtering al monossido di titanio con diverse specifiche e strutture in base al sistema di sputtering del cliente e ai requisiti di processo, e supportiamo servizi di lavorazione personalizzati. <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/contatto\/\">Contattateci<\/a><\/span><br \/>\nper confermare i parametri specifici dell&#8217;attrezzatura o gli scenari di applicazione.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n<p>Composizione a base di ossido di titanio, stato di ossidazione controllabile<br \/>\nAdatto per processi PVD come lo sputtering magnetronico<br \/>\nComposizione uniforme, processo di sputtering stabile<br \/>\nFacilita il controllo preciso delle prestazioni del film sottile<br \/>\nSoddisfa le esigenze della ricerca scientifica e delle applicazioni industriali<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazioni dei target di sputtering al monossido di titanio<\/span><\/h2>\n<p><strong>Preparazione di film sottili funzionali:<\/strong><br \/>\npu\u00f2 essere utilizzato per preparare film sottili di ossido di titanio con conduttivit\u00e0 e risposte ottiche specifiche, adatti per strati funzionali o strati di transizione.<br \/>\n<strong>Dispositivi elettronici e microelettronici:<\/strong><br \/>\nnei dispositivi elettronici, i film sottili di TiO\u2082 possono essere utilizzati per la ricerca relativa al controllo strutturale o all&#8217;ottimizzazione delle prestazioni.<br \/>\n<strong>Ricerca optoelettronica e <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/applicazione\/materiali-ottici\/\">ottica<\/a><\/span>:<\/strong><br \/>\ni film sottili di monossido di titanio hanno un valore di ricerca nell&#8217;assorbimento della luce e nella regolazione della struttura dei film sottili e sono adatti per applicazioni esplorative nei materiali optoelettronici.<\/p>\n<h2><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/azienda\/domande-frequenti\/\"><span style=\"font-size: 14pt;\">Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n<p>D1: Quali sono le principali differenze tra i target di sputtering di monossido di titanio e i target di TiO\u2082?<br \/>\nA1: Il TiO\u2082 appartiene al sottotitanium ossido e il suo stato di ossidazione \u00e8 inferiore a quello del TiO\u2082, con conseguenti differenze significative nelle propriet\u00e0 elettriche e ottiche. \u00c8 pi\u00f9 adatto per applicazioni che richiedono una regolazione fine delle prestazioni del film sottile.<\/p>\n<p>D2: I target di sputtering al monossido di titanio sono adatti per lo sputtering DC o lo sputtering RF?<br \/>\nA2: Possono essere utilizzati nei sistemi di sputtering a magnetrone RF. Il metodo di processo specifico deve essere determinato in modo completo in base alla configurazione dell&#8217;apparecchiatura e ai parametri di processo.<\/p>\n<p>D3: Quando si utilizzano target TiO\u2082, la composizione del film sottile \u00e8 soggetta a variazioni?<br \/>\nA3: In condizioni di potenza di sputtering e atmosfera stabili, i target ad alta densit\u00e0 possono mantenere una buona consistenza compositiva, il che aiuta a ottenere risultati di film sottili con una buona riproducibilit\u00e0.<\/p>\n<p>D4: Quali precauzioni devono essere prese durante lo stoccaggio e il trasporto dei target di sputtering al monossido di titanio?<br \/>\nA4: Si raccomanda di conservarli in un ambiente asciutto e pulito in un contenitore sigillato, evitando umidit\u00e0 o contaminazione, per garantire che il target rimanga in uno stato fisico stabile prima dell&#8217;uso.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Rapporti<\/span><\/h2>\n<p>Ogni lotto viene fornito con:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/certificato-di-analisi\/\"><u>Certificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/scheda-tecnica\/\"><u>Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/scheda-di-sicurezza\/\"><u>Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nRapporto di ispezione delle dimensioni<br \/>\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n<p>Siamo specializzati nella fornitura di target di sputtering funzionali in ceramica e metallo, possediamo una consolidata esperienza nel controllo e nella lavorazione dei materiali e siamo in grado di fornire a clienti industriali e di ricerca soluzioni stabili e tracciabili per target di sputtering in monossido di titanio.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Target di sputtering al monossido di titanio Panoramica I target di sputtering al monossido di titanio sono target ceramici al sub-ossido di titanio con propriet\u00e0 fisiche ed elettriche intermedie tra il titanio metallico e l&#8217;ossido di titanio ad alta valenza. Sono adatti per la preparazione di film sottili funzionali con requisiti specifici di conduttivit\u00e0, assorbimento [&hellip;]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":43353,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[453],"product_tag":[5614],"class_list":["post-43352","product","type-product","status-publish","has-post-thumbnail","product_brand-ulpmat","product_cat-target-di-sputtering-in-ceramica","product_tag-target-di-sputtering-al-monossido-di-titanio","first","instock","shipping-taxable","purchasable","product-type-variable"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/43352","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/43353"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=43352"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=43352"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=43352"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=43352"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}