{"id":38469,"date":"2025-11-25T09:44:23","date_gmt":"2025-11-25T01:44:23","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/lega-di-tungsteno-e-molibdeno-2\/"},"modified":"2025-11-25T09:44:23","modified_gmt":"2025-11-25T01:44:23","slug":"lega-di-tungsteno-e-molibdeno-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/lega-di-tungsteno-e-molibdeno-2\/","title":{"rendered":"Lega di tungsteno e molibdeno"},"content":{"rendered":"

Target di sputtering in lega di molibdeno-tungsteno Panoramica<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering in lega
\ndi molibdeno-tungsteno<\/a><\/span>
\nsono ottenuti dalla lega di molibdeno e tungsteno in un rapporto specifico. Possiedono un alto punto di fusione, un’eccellente stabilit\u00e0 termica e una durezza superiore, che li rendono materiali fondamentali per la preparazione di film sottili resistenti alle alte temperature, strati barriera di diffusione e rivestimenti funzionali. Sono ampiamente utilizzati nella produzione di semiconduttori, nella tecnologia dei film sottili optoelettronici, nella preparazione di rivestimenti duri e nelle applicazioni di rivestimento industriale, e sono adatti per ambienti di deposizione sotto vuoto particolarmente esigenti.<\/p>\n

Siamo in grado di produrre target di sputtering MoW in vari rapporti, purezze e dimensioni, inclusi target circolari, rettangolari, curvi, segmentati e assemblaggi completi. Supportiamo processi personalizzati, tra cui aumento della densit\u00e0, incollaggio<\/a><\/span>
\ndel backplane,<\/a><\/span>
\nlucidatura sottovuoto e trattamenti di ottimizzazione della superficie. Non esitate a contattarci.<\/a><\/span><\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Materiale ad alta densit\u00e0, eccellente uniformit\u00e0 del film
\nForte resistenza agli shock termici ad alta temperatura
\nIl rapporto di contenuto di tungsteno pu\u00f2 essere regolato in base ai requisiti di processo
\nSupporta la personalizzazione<\/a><\/span>
\ndi varie strutture e dimensioni dei target
\nVelocit\u00e0 di sputtering stabile e buona adesione
\nForte compatibilit\u00e0 con il vuoto, meno soggetto alla contaminazione del film<\/p>\n

Applicazioni dei target di sputtering in lega di molibdeno-tungsteno<\/span><\/h2>\n

Utilizzati per la deposizione di strati barriera di diffusione e film resistenti alle alte temperature nei processi dei semiconduttori.
\nApplicati all’industria dei rivestimenti duri, come i rivestimenti degli utensili e i film resistenti all’usura.
\nUtilizzato per la preparazione di film funzionali e strutturali nell’industria optoelettronica.
\nUtilizzato per la deposizione di film resistenti alla corrosione in strumenti di precisione e attrezzature di rivestimento industriale.<\/p>\n

Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Quale metodo di imballaggio viene utilizzato per i target di sputtering MoW?
\nR1: Utilizziamo una combinazione di sigillatura sottovuoto e imballaggio esterno antiurto per garantire che i target rimangano puliti e integri durante il trasporto.<\/p>\n

D2: \u00c8 possibile effettuare spedizioni internazionali? Quali sono i tempi di consegna?
\nR2: S\u00ec, spediamo tramite corrieri espressi internazionali come DHL, UPS e FedEx, con consegne in genere entro 3-7 giorni nella maggior parte dei paesi e delle regioni, con informazioni di tracciamento in tempo reale disponibili.<\/p>\n

D3: Come garantite la purezza e la composizione dei target di sputtering MoW?
\nR3: Ogni lotto di target di sputtering viene sottoposto a test ICP, GDMS o XRF per garantire che la composizione e le impurit\u00e0 siano controllate entro limiti rigorosi, e sono disponibili i relativi rapporti di prova.<\/p>\n

Q4: Potete fornire servizi di lavorazione dei target di sputtering, come dimensioni personalizzate o incollaggio?
\nA4: S\u00ec, supportiamo la lavorazione di precisione, il trattamento superficiale, l’incollaggio del backplane e le forme personalizzate per garantire la completa compatibilit\u00e0 tra il target di sputtering e l’attrezzatura del cliente.<\/p>\n

Rapporti<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/span><\/a>
\nSu richiesta sono disponibili rapporti di test di terze parti.<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Disponiamo di tecnologie avanzate di metallurgia delle polveri e pressatura isostatica a caldo (HIP), che ci consentono di produrre in modo stabile target di sputtering MoW ad alta densit\u00e0 e uniformit\u00e0. Grazie alla nostra consolidata esperienza nella produzione, ai tempi di consegna rapidi, al rigoroso controllo di qualit\u00e0 e ai servizi di personalizzazione flessibili, abbiamo instaurato rapporti di fornitura a lungo termine con numerose aziende optoelettroniche, di semiconduttori e di rivestimenti sottovuoto in tutto il mondo. Scegliere noi garantisce una qualit\u00e0 dei materiali stabile e affidabile, prezzi competitivi e un supporto tecnico professionale, rendendoci il vostro partner ideale per lo sviluppo di materiali a film sottile ad alte prestazioni.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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