{"id":36829,"date":"2025-11-28T15:05:32","date_gmt":"2025-11-28T07:05:32","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/ossido-di-zirconio-2\/"},"modified":"2025-11-28T15:05:32","modified_gmt":"2025-11-28T07:05:32","slug":"ossido-di-zirconio-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ossido-di-zirconio-2\/","title":{"rendered":"Ossido di zirconio"},"content":{"rendered":"

Target di sputtering in ossido di zirconio Panoramica<\/span><\/h2>\n

Il target di sputtering
\nin ossido di zirconio<\/a><\/span>
\n\u00e8 un target ceramico ad alta purezza progettato per la deposizione stabile e di alta qualit\u00e0 di film sottili in applicazioni elettroniche e ottiche avanzate. Ideale per la produzione di film sottili durevoli, isolanti e resistenti all’usura.<\/p>\n

Produciamo target di sputtering in ZrO2 in varie forme, dimensioni e spessori, garantendo un controllo preciso della densit\u00e0, della finitura superficiale e della composizione chimica. Il nostro team offre dimensioni personalizzate, geometrie dei target specializzate e supporto tecnico<\/a><\/span>
\nper ottimizzare il processo di deposizione di film sottili. Contattateci.<\/a><\/span><\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Elevata purezza e stabilit\u00e0 chimica
\nStruttura ceramica densa e priva di difetti
\nEccellente stabilit\u00e0 termica e meccanica
\nSuperficie liscia con bassa rugosit\u00e0
\nPrestazioni di deposizione di film sottili costanti
\nElevata adesione degli strati depositati
\nQualit\u00e0 stabile da lotto a lotto
\nCompatibile con sistemi di sputtering RF e DC
\nFilm resistenti all’usura e alla corrosione
\nForme e dimensioni personalizzate disponibili<\/p>\n

Applicazioni del bersaglio di sputtering in ossido di zirconio<\/span><\/h2>\n

Optoelettronica:<\/a><\/span>
\nutilizzato in strati isolanti trasparenti e rivestimenti protettivi.
\nSemiconduttori:<\/a><\/span>
\napplicato per strati dielettrici e barriera in dispositivi microelettronici.
\nRivestimenti protettivi: ideale per film sottili resistenti all’usura e alla corrosione.
\nRicerca e sviluppo: adatto per studi di laboratorio su ceramiche e rivestimenti di ossidi funzionali.<\/p>\n

Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Come viene imballato il target di sputtering ZrO2 per la spedizione?
\nR1: I target sono sigillati sottovuoto, avvolti in una pellicola protettiva antistatica e collocati in scatole di cartone rinforzate per evitare danni alla superficie e contaminazioni.<\/p>\n

D2: \u00c8 possibile personalizzare le dimensioni o la finitura superficiale del target?
\nR2: S\u00ec, possiamo produrre target ZrO2 in dimensioni, spessori e finiture superficiali personalizzati in base a specifici requisiti di deposizione.<\/p>\n

D3: Quali sono le condizioni di conservazione consigliate?
\nR3: Conservare in un ambiente asciutto e pulito, lontano da umidit\u00e0, polvere e sostanze chimiche corrosive per mantenere l’integrit\u00e0 e le prestazioni del bersaglio.<\/p>\n

D4: Quali garanzie di purezza e prestazioni fornite?
\nR4: I nostri bersagli in ZrO2 mantengono un’elevata purezza chimica, una struttura ceramica densa e una microstruttura uniforme per garantire una qualit\u00e0 di deposizione del film sottile costante.<\/p>\n

Rapporti<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/a><\/span>
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Forniamo target di sputtering ZrO2 di alta qualit\u00e0 con densit\u00e0 controllata, superfici lisce e prestazioni affidabili per applicazioni elettroniche, ottiche e di protezione a film sottile. Grazie alla consulenza tecnica, alle specifiche personalizzate e alla consegna rapida, aiutiamo i clienti a ottenere risultati di deposizione costanti e di alta qualit\u00e0 sia in ambito industriale che di ricerca.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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