{"id":36064,"date":"2025-12-03T11:12:06","date_gmt":"2025-12-03T03:12:06","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/ferrite-di-ittrio-ossido-di-ittrio-e-ferro-yig\/"},"modified":"2025-12-03T11:12:06","modified_gmt":"2025-12-03T03:12:06","slug":"ferrite-di-ittrio-ossido-di-ittrio-e-ferro-yig","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ferrite-di-ittrio-ossido-di-ittrio-e-ferro-yig\/","title":{"rendered":"Ferrite di ittrio (ossido di ittrio e ferro) (YIG)"},"content":{"rendered":"

Target di sputtering in ossido di ittrio e ferro Panoramica<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin ossido di ittrio e ferro<\/a><\/span>
\nsono target in granato di ittrio e ferro ad alta purezza ampiamente utilizzati nella fabbricazione di film sottili magnetici, dispositivi a microonde e materiali optoelettronici.<\/p>\n

Offriamo target di sputtering Y3Fe5O12 in varie dimensioni e gradi di purezza, con forme e specifiche personalizzabili per soddisfare le esigenze della ricerca scientifica e della deposizione industriale di film sottili. Contattateci<\/a><\/span>
\nper informazioni dettagliate.<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Elevata purezza, basse impurit\u00e0
\nStruttura uniforme e densa, sputtering stabile
\nEccellenti propriet\u00e0 magnetiche
\nElevata stabilit\u00e0 termica
\nControllo preciso della composizione chimica
\nDimensioni e forme personalizzabili
\nBackplane e metodi di incollaggio selezionabili
\nFornitura a lungo termine, qualit\u00e0 affidabile<\/p>\n

Applicazioni dei target di sputtering in ossido di ittrio e ferro<\/span><\/h2>\n

Film magnetici sottili: utilizzati per la produzione di dispositivi a film magnetico sottile ad alte prestazioni, migliorano la risposta magnetica.
\nDispositivi a microonde: utilizzati nei filtri a microonde e nei controllori di fase per migliorare la stabilit\u00e0 del segnale. Dispositivi
\noptoelettronici<\/a><\/span>
\n: utilizzati per la deposizione di materiali in isolatori ottici, laser e altri dispositivi.
\nCeramiche elettroniche: utilizzate nei componenti elettronici ad alta frequenza per migliorare le propriet\u00e0 magnetiche e la stabilit\u00e0.<\/p>\n

Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Qual \u00e8 la purezza del bersaglio di sputtering Y3Fe5O12?
\nA1: La purezza del nostro target pu\u00f2 raggiungere oltre il 99,9%, garantendo prestazioni stabili durante la deposizione per sputtering.<\/p>\n

D2: I target per sputtering Y3Fe5O12 possono essere lavorati in forme diverse?
\nA2: S\u00ec, supportiamo target rotondi, quadrati e di dimensioni personalizzate per soddisfare le esigenze di diverse apparecchiature.<\/p>\n

D3: Qual \u00e8 la prestazione di sputtering del target?
\nR3: Il target \u00e8 denso e uniforme con basse impurit\u00e0, mostrando velocit\u00e0 di sputtering stabili e un’eccellente qualit\u00e0 del film.<\/p>\n

D4: Quali sono i requisiti di conservazione per i target Y3Fe5O12?
\nR4: Dovrebbe essere conservato in un ambiente asciutto e fresco, evitando temperature elevate, umidit\u00e0 o urti per mantenere l’integrit\u00e0 e la stabilit\u00e0 delle prestazioni del target.<\/p>\n

Rapporti<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Siamo specializzati nella ricerca e sviluppo e nella produzione di target di sputtering Y3Fe5O12 ad alta purezza, con una rigorosa gestione della qualit\u00e0, servizi personalizzati e prestazioni dei target stabili e affidabili garantite per soddisfare le esigenze della ricerca scientifica e della deposizione industriale di film sottili.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Target di sputtering in ossido di ittrio e ferro Panoramica I target di sputtering in ossido di ittrio e ferro sono target in granato di ittrio e ferro ad alta purezza ampiamente utilizzati nella fabbricazione di film sottili magnetici, dispositivi a microonde e materiali optoelettronici. Offriamo target di sputtering Y3Fe5O12 in varie dimensioni e gradi […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":36066,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[453],"product_tag":[3955],"class_list":["post-36064","product","type-product","status-publish","has-post-thumbnail","product_brand-ulpmat","product_cat-target-di-sputtering-in-ceramica","product_tag-target-di-sputtering-in-ferrite-di-ittrio-ossido-di-ittrio-e-ferro-yig","first","instock","shipping-taxable","product-type-variable"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/36064","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/36066"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=36064"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=36064"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=36064"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=36064"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}