{"id":35355,"date":"2025-12-03T11:12:16","date_gmt":"2025-12-03T03:12:16","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/alluminato-di-stronzio-ossido-di-stronzio-e-alluminio\/"},"modified":"2025-12-03T11:12:16","modified_gmt":"2025-12-03T03:12:16","slug":"alluminato-di-stronzio-ossido-di-stronzio-e-alluminio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/alluminato-di-stronzio-ossido-di-stronzio-e-alluminio\/","title":{"rendered":"Alluminato di stronzio (ossido di stronzio e alluminio)"},"content":{"rendered":"

Target di sputtering in ossido di alluminio e stronzio Panoramica<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin ossido di alluminio e stronzio<\/a><\/span>
\nsono target multielemento strutturalmente stabili e depositati in modo uniforme, adatti alla fabbricazione di film sottili funzionali, rivestimenti ottici e materiali elettronici.<\/p>\n

Offriamo target di sputtering in ossido di alluminio e stronzio in varie purezze, densit\u00e0, dimensioni e tipi strutturali. Possiamo anche assistere i clienti nella conferma dei requisiti di formazione del film, nella selezione dei tipi di target appropriati e fornire consulenza su spedizione, imballaggio, pulizia e debug dell’applicazione. Contattateci<\/a><\/span>
\nin qualsiasi momento per un preventivo.<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Stampaggio a pressione ad alta densit\u00e0
\nBuona uniformit\u00e0 del film
\nDensit\u00e0 ionica stabile
\nBasso contenuto di impurit\u00e0
\nAdatto a vari sistemi di sputtering
\nPersonalizzabile in base alle dimensioni dell’apparecchiatura
\nSupporta il bonding dei target
\nElevata resistenza meccanica, meno soggetto a crepe
\nAdesione stabile del film<\/p>\n

Applicazioni dei target di sputtering in ossido di alluminio e stronzio<\/span><\/h2>\n

Utilizzato nella preparazione di rivestimenti ottici per migliorare la stabilit\u00e0 del film e la trasmissione della luce.
\nApplicato a film sottili ceramici funzionali per il rinforzo strutturale e la modifica dei materiali.
\nUtilizzato come fonte di materiale target per film sottili di ossido composito nella produzione di componenti elettronici.
\nAdatto per applicazioni di ricerca nella preparazione di film sottili di ossido multicomponente con propriet\u00e0 speciali.<\/p>\n

Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Il target di sputtering in ossido di alluminio e stronzio presenta un’ablazione irregolare dei bordi?
\nR1: Il target \u00e8 prodotto utilizzando un processo ad alta densit\u00e0, che riduce le differenze di usura dei bordi. Tuttavia, i parametri di processo devono comunque essere regolati in base alla potenza dell’apparecchiatura e alla distribuzione del campo magnetico per ottenere uno stato di sputtering pi\u00f9 uniforme.<\/p>\n

D2: Il target richiede un trattamento antiurto durante il trasporto?
\nA2: S\u00ec, utilizziamo una struttura protettiva a doppio strato con imbottitura in schiuma e imballaggio sottovuoto per garantire che il target non si rompa o si scheggi durante il trasporto su lunghe distanze.<\/p>\n

Q3: Quali fattori influenzano principalmente la durata del target?
\nA3: Le impostazioni di potenza, l’ambiente sottovuoto, l’effetto di raffreddamento e lo spessore del target influenzano tutti la durata di servizio. \u00c8 possibile selezionare una dimensione del target pi\u00f9 adatta in base alla progettazione del processo.<\/p>\n

D4: Questo bersaglio pu\u00f2 essere utilizzato per la polverizzazione pulsata in corrente continua o RF?
\nA4: S\u00ec, questo materiale \u00e8 adatto a vari metodi di polverizzazione. Siamo in grado di fornire strutture bersaglio e dimensioni di installazione corrispondenti a seconda del tipo di apparecchiatura.<\/p>\n

Rapporti<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Abbiamo capacit\u00e0 di controllo di processo stabili nella produzione di target di ossido multielemento, garantendo un alto grado di uniformit\u00e0 nella densit\u00e0, nell’uniformit\u00e0 strutturale e nelle prestazioni di deposizione di film sottili dei nostri target di ossido di alluminio e stronzio. In combinazione con un supporto di personalizzazione flessibile, rigorosi test di qualit\u00e0, metodi di imballaggio professionali e una logistica internazionale stabile, siamo in grado di fornire soluzioni di fornitura di target affidabili e coerenti per i clienti della ricerca e dell’industria, aiutandoli a ottenere risultati di film sottili di qualit\u00e0 superiore.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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