{"id":34049,"date":"2025-12-09T15:51:16","date_gmt":"2025-12-09T07:51:16","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/nitruro-di-gallio-2\/"},"modified":"2025-12-09T15:51:16","modified_gmt":"2025-12-09T07:51:16","slug":"nitruro-di-gallio-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/nitruro-di-gallio-2\/","title":{"rendered":"Nitruro di gallio"},"content":{"rendered":"

Panoramica sui target di sputtering in nitruro di gallio<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin nitruro di gallio<\/a><\/span>
\nsono target ceramici specializzati realizzati con materiale in nitruro di gallio (GaN) ad alta purezza. Combinano tutte le eccezionali propriet\u00e0 del GaN come materiale semiconduttore a banda larga di terza generazione. Essendo il materiale di base per la fabbricazione di film sottili GaN ad alte prestazioni tramite la tecnologia di deposizione fisica da vapore (PVD), fornisce soluzioni critiche per film sottili per la produzione di dispositivi optoelettronici, RF e semiconduttori di potenza avanzati.<\/p>\n

Offriamo target di sputtering in ceramica GaN di alta qualit\u00e0 in diverse purezze, dimensioni, fasi cristalline e tipi di conduttivit\u00e0, insieme a servizi di incollaggio professionali. Contattateci.<\/a><\/span><\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Elevata purezza
\nMateriale semiconduttore a banda larga (~3,4 eV)
\nElevata densit\u00e0, bassa porosit\u00e0
\nEccellente uniformit\u00e0 microstrutturale
\nDisponibile il bonding della piastra di supporto<\/p>\n

Applicazioni dei target di sputtering in GaN<\/span><\/h2>\n

Optoelettronica e display: utilizzati per la deposizione di film in GaN per la produzione di LED blu\/verdi, diodi laser e chip per display Micro-LED.
\nComunicazioni RF e microonde: produzione di chip RF ad alta potenza e alta efficienza e amplificatori di potenza per stazioni base 5G\/6G e sistemi radar.
\nElettronica di potenza e ricarica rapida: deposito di film per la produzione di dispositivi di conversione di potenza compatti e ad alta efficienza per veicoli a nuova energia e alimentatori a ricarica rapida.
\nRicerca di frontiera e interdisciplinare: funge da fonte di film sottili ad alte prestazioni per l’esplorazione pionieristica di nuovi sensori, dispositivi quantistici e spintronica.<\/p>\n

Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Quali sono i principali vantaggi dei target GaN?
\nR1: I vantaggi principali sono l’alta frequenza, l’alta efficienza e l’elevata tolleranza alla tensione. Le sue propriet\u00e0 di ampio bandgap consentono ai dispositivi di funzionare a frequenze, livelli di potenza e temperature pi\u00f9 elevati, superando in modo significativo i materiali tradizionali al silicio.<\/p>\n

D2: Qual \u00e8 il livello di purezza richiesto?
\nR2: Per la produzione di dispositivi di fascia alta, \u00e8 generalmente necessaria una purezza del 99,999% (5N) o superiore per garantire propriet\u00e0 elettriche ottimali del film sottile.<\/p>\n

D3: Quali precauzioni devono essere prese durante l’uso e lo stoccaggio?
\nR3: I target sono fragili e devono essere maneggiati con cura per evitare danni da urti. Conservare in contenitori sigillati e resistenti all’umidit\u00e0 in un ambiente pulito e asciutto.<\/p>\n

D4: Come selezionare il tipo di conduttivit\u00e0 appropriato?
\nR4: Dipende dal design del dispositivo. I target di tipo N sono utilizzati per la fabbricazione di strati di trasporto di elettroni, mentre i target semi-isolanti sono adatti per le regioni che richiedono un isolamento ad alta resistenza.<\/p>\n

Report<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Forniamo target GaN di alta qualit\u00e0 con prestazioni eccezionali e stabilit\u00e0 affidabile. Grazie alla nostra esperienza professionale, offriamo soluzioni complete dalla selezione dei materiali al supporto applicativo.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Panoramica sui target di sputtering in nitruro di gallio I target di sputtering in nitruro di gallio sono target ceramici specializzati realizzati con materiale in nitruro di gallio (GaN) ad alta purezza. Combinano tutte le eccezionali propriet\u00e0 del GaN come materiale semiconduttore a banda larga di terza generazione. Essendo il materiale di base per la […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":34050,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[453],"product_tag":[3541],"class_list":["post-34049","product","type-product","status-publish","has-post-thumbnail","product_brand-ulpmat","product_cat-target-di-sputtering-in-ceramica","product_tag-target-di-sputtering-al-nitruro-di-gallio","first","instock","shipping-taxable","product-type-variable"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/34049","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/34050"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=34049"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=34049"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=34049"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=34049"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}