{"id":33949,"date":"2025-12-09T15:51:20","date_gmt":"2025-12-09T07:51:20","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/fosfuro-di-gallio\/"},"modified":"2025-12-09T15:51:20","modified_gmt":"2025-12-09T07:51:20","slug":"fosfuro-di-gallio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/fosfuro-di-gallio\/","title":{"rendered":"Fosfuro di gallio"},"content":{"rendered":"

Panoramica sui target di sputtering in fosfuro di gallio<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin fosfuro di gallio<\/a><\/span>
\nsono target ceramici funzionali fabbricati con materiale in fosfuro di gallio ad alta purezza tramite processi avanzati di metallurgia delle polveri o fusione. Essendo un classico semiconduttore composto III-V, il fosfuro di gallio possiede un bandgap indiretto di circa 2,26 eV. Progettato specificamente per i processi di deposizione fisica da vapore (PVD), questo materiale target consente la deposizione di film GaP di alta qualit\u00e0. Funge da materiale di base per la produzione di dispositivi optoelettronici a lunghezza d’onda specifica, componenti elettronici ad alta velocit\u00e0 e rivestimenti funzionali specializzati.<\/p>\n

Offriamo target di sputtering in ceramica GaP di alta qualit\u00e0 in diverse purezze e dimensioni, con servizi di incollaggio opzionali. Contattateci.<\/a><\/span><\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Elevata purezza e stechiometria precisa
\nClassico materiale semiconduttore III-V
\nEccellente uniformit\u00e0 di deposizione del film
\nAlta densit\u00e0 e bassa porosit\u00e0
\nServizi di incollaggio professionali disponibili<\/p>\n

Applicazioni dei target di sputtering in fosfuro di gallio<\/span><\/h2>\n

Dispositivi optoelettronici specializzati: utilizzati per la deposizione di film sottili per la produzione di diodi a emissione luminosa (LED) rossi e giallo-verdi o fotorilevatori a lunghezza d’onda specifica.
\nDispositivi elettronici ad alta velocit\u00e0: fungono da materiale per film sottili per strati funzionali o tampone in alcuni componenti elettronici ad alta frequenza.
\nRivestimenti ottici e protettivi: sfruttano la loro stabilit\u00e0 fisico-chimica per depositare rivestimenti funzionali resistenti all’usura e alla corrosione o film ottici.
\nRicerca sui materiali di frontiera: funge da fonte di deposizione di film sottili di GaP per la ricerca fondamentale e applicata su eterogiunzioni innovative, materiali a bassa dimensionalit\u00e0 e fisica dei dispositivi.<\/p>\n

Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Quali sono le principali applicazioni dei materiali target GaP?
\nR1: Utilizzati principalmente per la deposizione di film sottili di GaP per la produzione di emettitori di luce visibile a lunghezze d’onda specifiche e determinati dispositivi elettronici ad alta velocit\u00e0.<\/p>\n

D2: Quali requisiti di purezza si applicano ai materiali target?
\nA2: Per garantire le prestazioni del film, la purezza richiesta \u00e8 in genere del 99,99% (4N) o superiore, a seconda delle specifiche di prestazione del dispositivo.<\/p>\n

D3: Cosa bisogna considerare nella scelta dei materiali target GaP?
\nA3: Concentrarsi sulla precisione dei rapporti stechiometrici, sulla densit\u00e0 del materiale target e sulla disponibilit\u00e0 di servizi di legame compatibili con le proprie apparecchiature.<\/p>\n

D4: Come devono essere conservati e immagazzinati i target?
\nA4: Conservare sigillati in un ambiente asciutto e pulito. Maneggiare con cura per evitare urti. Mantenere pulita la superficie del target dopo l’uso.<\/p>\n

Segnalare<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/strong><\/span><\/h2>\n

Sfruttando la nostra esperienza nei target per semiconduttori composti, forniamo target GaP stabili, affidabili e di alta qualit\u00e0 e soluzioni personalizzate.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Panoramica sui target di sputtering in fosfuro di gallio I target di sputtering in fosfuro di gallio sono target ceramici funzionali fabbricati con materiale in fosfuro di gallio ad alta purezza tramite processi avanzati di metallurgia delle polveri o fusione. Essendo un classico semiconduttore composto III-V, il fosfuro di gallio possiede un bandgap indiretto di […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":33950,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[453],"product_tag":[3517],"class_list":["post-33949","product","type-product","status-publish","has-post-thumbnail","product_brand-ulpmat","product_cat-target-di-sputtering-in-ceramica","product_tag-target-di-sputtering-al-fosfuro-di-gallio","first","instock","shipping-taxable","product-type-variable"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/33949","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/33950"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=33949"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=33949"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=33949"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=33949"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}