{"id":33867,"date":"2025-12-09T15:51:20","date_gmt":"2025-12-09T07:51:20","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/seleniuro-di-gallio\/"},"modified":"2025-12-09T15:51:20","modified_gmt":"2025-12-09T07:51:20","slug":"seleniuro-di-gallio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/seleniuro-di-gallio\/","title":{"rendered":"Seleniuro di gallio"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Panoramica sui target di sputtering in seleniuro di gallio<\/span><\/h2>\n<p>I target di sputtering<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=name&#038;keyword=Gallium+selenide\">in seleniuro di gallio<\/a><\/span><br \/>\nsono target ceramici funzionali preparati da polvere o lingotti di GaSe ad alta purezza attraverso processi avanzati di metallurgia delle polveri. Ereditando la struttura cristallina a strati unica, il bandgap diretto e le eccezionali propriet\u00e0 ottiche non lineari del materiale GaSe, fungono da materiale di base per la produzione di film di seleniuro di gallio di alta qualit\u00e0 tramite la tecnologia di deposizione fisica da vapore (PVD). Sono utilizzati principalmente nell&#8217;optoelettronica a infrarossi avanzata, nell&#8217;ottica non lineare e nei nuovi dispositivi a materiali bidimensionali.<\/p>\n<p>Offriamo target di sputtering in ceramica GaSe di alta qualit\u00e0 in diverse purezze, dimensioni e configurazioni <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/servizio\/legame-con-lobiettivo\/\">di incollaggio<\/a><\/span><br \/>\n. <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=name&#038;keyword=Gallium+selenide\">Contattateci<\/a><\/span><br \/>\nper la documentazione tecnica.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n<p>Struttura semiconduttrice a strati<br \/>\nPrestazioni ottiche non lineari superiori<br \/>\nCaratteristiche ottimizzate per applicazioni nell&#8217;infrarosso medio-lontano<br \/>\nElevata purezza con stechiometria precisa<br \/>\nDisponibile incollaggio professionale della piastra di supporto<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazioni dei target di sputtering in seleniuro di gallio<\/span><\/h2>\n<p>Dispositivi ottici a infrarossi e non lineari: utilizzati per la deposizione di film sottili nella produzione di componenti funzionali fondamentali per la generazione\/rilevamento di terahertz e il raddoppio della frequenza laser nell&#8217;infrarosso medio.<br \/>\nOptoelettronica e rilevatori: utilizzati per fabbricare fotorilevatori a infrarossi ad alte prestazioni, transistor ad effetto di campo e strati sensibili per dispositivi optoelettronici flessibili.<br \/>\nMateriali e dispositivi 2D all&#8217;avanguardia: funge da fonte di deposizione per film GaSe 2D di alta qualit\u00e0, consentendo la ricerca fondamentale e lo sviluppo di applicazioni per nuovi dispositivi e sensori quantistici.<br \/>\nRivestimenti funzionali specializzati: sfruttando le sue propriet\u00e0 ottiche e semiconduttrici uniche, viene depositato come film funzionale per finestre a infrarossi o sensori specializzati.<\/p>\n<h2><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/azienda\/domande-frequenti\/\"><span style=\"font-size: 14pt;\">Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n<p>D1: Perch\u00e9 scegliere il materiale target GaSe?<br \/>\nA1: I suoi vantaggi principali risiedono nella sua struttura a strati unica e nelle eccezionali propriet\u00e0 ottiche non lineari, che lo rendono particolarmente adatto alla produzione di dispositivi optoelettronici a infrarossi medi e nella banda terahertz.<\/p>\n<p>D2: Quali sono i requisiti di purezza applicabili al materiale target GaSe?<br \/>\nA2: Per garantire prestazioni optoelettroniche ottimali dei film sottili, la purezza deve tipicamente superare il 99,9%. L&#8217;alta purezza riduce efficacemente al minimo i difetti causati dalle impurit\u00e0.<\/p>\n<p>D3: Quali precauzioni devono essere prese durante l&#8217;uso e la manutenzione?<br \/>\nA3: Questo materiale \u00e8 fragile e richiede un&#8217;attenta manipolazione durante il posizionamento e la rimozione. Conservare in contenitori sigillati per evitare l&#8217;esposizione all&#8217;umidit\u00e0. A causa della sua struttura a strati, i parametri del processo di sputtering devono essere ottimizzati per ottenere film sottili uniformi.<\/p>\n<p>D4: \u00c8 possibile personalizzare dimensioni o incollaggi non standard?<br \/>\nA4: S\u00ec. Supportiamo la personalizzazione delle forme e delle dimensioni dei target in base alla camera dell&#8217;apparecchiatura e ai requisiti di processo, e forniamo servizi professionali di incollaggio delle piastre di supporto.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Report<\/span><\/h2>\n<p>Ogni lotto viene fornito con:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/certificato-di-analisi\/\"><u>Certificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/scheda-tecnica\/\"><u>Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/scheda-di-sicurezza\/\"><u>Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n<p>Sfruttando la nostra esperienza nei target composti speciali, forniamo target GaSe altamente stabili e coerenti e soluzioni personalizzate.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Panoramica sui target di sputtering in seleniuro di gallio I target di sputtering in seleniuro di gallio sono target ceramici funzionali preparati da polvere o lingotti di GaSe ad alta purezza attraverso processi avanzati di metallurgia delle polveri. 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