{"id":31937,"date":"2025-12-18T17:49:50","date_gmt":"2025-12-18T09:49:50","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/ossido-rameoso-i\/"},"modified":"2025-12-18T17:49:50","modified_gmt":"2025-12-18T09:49:50","slug":"ossido-rameoso-i","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ossido-rameoso-i\/","title":{"rendered":"Ossido rameoso (I)"},"content":{"rendered":"

Panoramica sui target di sputtering in ossido rameoso<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin ossido rameoso<\/a><\/span>
\nsono target in materiale funzionale ad alta purezza utilizzati principalmente nella deposizione di film sottili e nella produzione di dispositivi elettronici per garantire la stabilit\u00e0 del film e prestazioni affidabili.<\/p>\n

Siamo in grado di fornire target di sputtering in ossido rameoso ad alta purezza in varie specifiche e dimensioni per soddisfare le esigenze dei clienti. Contattateci<\/a><\/span>
\nper soluzioni personalizzate.<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Ossido di rame (I) ad alta purezza
\nEccellente uniformit\u00e0 compositiva
\nDeposizione stabile del film
\nBasso contenuto di impurit\u00e0
\nCompatibile con varie apparecchiature di sputtering
\nPropriet\u00e0 elettriche e ottiche stabili
\nSupporta forme rotonde, quadrate e irregolari<\/p>\n

Applicazioni dei target di sputtering in ossido rameoso<\/span><\/h2>\n

Preparazione di film sottili
\nper semiconduttori<\/a><\/span>
\ne dispositivi elettronici: adatto per la preparazione e la deposizione di materiali semiconduttori di tipo P, garantendo le prestazioni elettroniche dei dispositivi e l’affidabilit\u00e0 a lungo termine. Dispositivi
\noptoelettronici<\/a><\/span>
\ne di visualizzazione: utilizzato in film sottili conduttivi o funzionali per componenti optoelettronici e display, fornisce strati di film uniformi e prestazioni stabili.
\nRivestimenti funzionali e film industriali: utilizzato per la deposizione di rivestimenti resistenti alla corrosione, conduttivi o con funzioni speciali, migliora le prestazioni e il valore aggiunto dei materiali industriali.<\/p>\n

Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

D1: L’ossido rameoso \u00e8 un bersaglio di sputtering adatto per lo sputtering DC o RF?
\nA1: L’ossido rameoso \u00e8 un materiale semiconduttore e lo sputtering RF \u00e8 generalmente raccomandato per garantire una deposizione stabile e una qualit\u00e0 del film.<\/p>\n

D2: La superficie del bersaglio richiede un trattamento speciale?
\nA2: I bersagli spediti sono solitamente lucidati e disossidati in fabbrica e possono essere utilizzati direttamente. \u00c8 possibile eseguire un ulteriore pretrattamento in base alle esigenze del processo.<\/p>\n

D3: L’ossido rameoso \u00e8 un bersaglio fragile?
\nR3: Rispetto ai bersagli metallici, i bersagli in ossido rameoso sono pi\u00f9 fragili. \u00c8 necessario prestare attenzione per evitare danni da impatto durante la manipolazione e l’installazione.<\/p>\n

D4: La forma del bersaglio pu\u00f2 essere personalizzata in base alle dimensioni dell’apparecchiatura?
\nR4: S\u00ec, offriamo forme rotonde, quadrate e speciali per adattarsi alle diverse apparecchiature di sputtering e ai requisiti di processo.<\/p>\n

Rapporti<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

L’analisi qualitativa fornisce target di sputtering in ossido rameoso affidabili e tracciabili per la ricerca scientifica, la preparazione di film sottili per dispositivi industriali ed elettronici, garantendo un’elevata qualit\u00e0 e una consistenza a lungo termine della deposizione del film.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Panoramica sui target di sputtering in ossido rameoso I target di sputtering in ossido rameoso sono target in materiale funzionale ad alta purezza utilizzati principalmente nella deposizione di film sottili e nella produzione di dispositivi elettronici per garantire la stabilit\u00e0 del film e prestazioni affidabili. Siamo in grado di fornire target di sputtering in ossido […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":31938,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[453],"product_tag":[3139],"class_list":{"0":"post-31937","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_brand-ulpmat","7":"product_cat-target-di-sputtering-in-ceramica","8":"product_tag-bersaglio-di-sputtering-allossido-di-cuproso-i","10":"first","11":"instock","12":"shipping-taxable","13":"product-type-variable"},"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/31937","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/31938"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=31937"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=31937"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=31937"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=31937"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}