{"id":31387,"date":"2025-12-19T16:46:45","date_gmt":"2025-12-19T08:46:45","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/lega-di-rame-e-gallio\/"},"modified":"2025-12-19T16:46:45","modified_gmt":"2025-12-19T08:46:45","slug":"lega-di-rame-e-gallio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/lega-di-rame-e-gallio\/","title":{"rendered":"Lega di rame e gallio"},"content":{"rendered":"

Panoramica sui target di sputtering in rame-gallio<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin rame-gallio<\/a><\/span>
\nsono target in lega di rame-gallio comunemente utilizzati in applicazioni funzionali di deposizione di film sottili e semiconduttori che richiedono un controllo preciso della composizione.<\/p>\n

Offriamo target di sputtering in CuGa in vari rapporti di composizione e dimensioni e supportiamo la lavorazione personalizzata e la comunicazione tecnica. Contattateci<\/a><\/span>
\nper soluzioni personalizzate.<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Rapporto controllabile della lega di rame-gallio
\nBuona densit\u00e0 del target
\nMicrostruttura uniforme della lega
\nProcesso di sputtering stabile
\nElevata uniformit\u00e0 della composizione del film
\nAdatto per finestre di processo fini
\nRipetibilit\u00e0 affidabile dei lotti<\/p>\n

Applicazioni dei target di sputtering CuGa<\/span><\/h2>\n

Deposizione di film sottili funzionali
\nper semiconduttori<\/a><\/span>
\n: i target CuGa possono essere utilizzati per preparare sistemi di film sottili di metallo o lega con requisiti elevati in termini di rapporti di composizione. Ricerca
\nnel<\/a><\/span>
\ncampo
\ndell’optoelettronica<\/a><\/span>
\ne dei dispositivi correlati: nello sviluppo di materiali e dispositivi optoelettronici, i film sottili di rame-gallio sono spesso utilizzati per controllare le risposte elettriche e ottiche.
\nStrato precursore per film sottili composti multicomponente: i film sottili in lega CuGa possono fungere da materiale di base per reazioni successive o per la preparazione di film sottili compositi.
\nSviluppo del processo e convalida sperimentale: adatto per l’uso in laboratorio e su scala pilota per verificare l’impatto dei diversi parametri di sputtering sulle prestazioni dei film sottili.<\/p>\n

Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Esistono requisiti elevati per il controllo della composizione quando si utilizzano target di sputtering CuGa?
\nR1: S\u00ec, il rapporto rame\/gallio influisce direttamente sulla composizione del film, rendendo fondamentale il controllo della composizione del target.<\/p>\n

D2: Questo target \u00e8 adatto per lo sputtering DC o magnetron?
\nR2: \u00c8 generalmente adatto per la polverizzazione magnetronica; il metodo specifico deve essere determinato in base alle condizioni delle attrezzature e ai requisiti di processo.<\/p>\n

D3: L’uniformit\u00e0 del target influisce sulla consistenza del film?
\nR3: S\u00ec, una struttura interna uniforme aiuta a ottenere film depositati con una distribuzione compositiva stabile.<\/p>\n

D4: Quali precauzioni devono essere prese durante la conservazione dei target CuGa?
\nR4: Si consiglia di conservarli in contenitori sigillati ed evitare ambienti con elevata umidit\u00e0 per ridurre il rischio di alterazioni della superficie.<\/p>\n

Rapporti<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Abbiamo una vasta esperienza nella preparazione e nel controllo qualit\u00e0 dei target di sputtering in lega e siamo in grado di controllare in modo stabile il rapporto di composizione e la struttura interna dei target CuGa per fornire ai clienti prestazioni di sputtering affidabili e parametri trasparenti.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Panoramica sui target di sputtering in rame-gallio I target di sputtering in rame-gallio sono target in lega di rame-gallio comunemente utilizzati in applicazioni funzionali di deposizione di film sottili e semiconduttori che richiedono un controllo preciso della composizione. Offriamo target di sputtering in CuGa in vari rapporti di composizione e dimensioni e supportiamo la lavorazione […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":31388,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[564],"product_tag":[3049],"class_list":{"0":"post-31387","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_brand-ulpmat","7":"product_cat-target-di-sputtering-in-lega","8":"product_tag-target-di-sputtering-in-lega-di-rame-e-gallio","10":"first","11":"instock","12":"shipping-taxable","13":"product-type-variable"},"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/31387","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/31388"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=31387"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=31387"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=31387"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=31387"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}