{"id":31150,"date":"2025-12-19T16:46:47","date_gmt":"2025-12-19T08:46:47","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/seleniuro-di-rame-indio-e-gallio-cigs\/"},"modified":"2025-12-19T16:46:47","modified_gmt":"2025-12-19T08:46:47","slug":"seleniuro-di-rame-indio-e-gallio-cigs","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/seleniuro-di-rame-indio-e-gallio-cigs\/","title":{"rendered":"Seleniuro di rame, indio e gallio (CIGS)"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Target di sputtering in rame indio gallio seleniuro Panoramica<\/span><\/h2>\n<p>I target di sputtering<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=name&#038;keyword=Copper+Indium+Gallium+Selenide\">in rame indio gallio seleniuro<\/a><\/span><br \/>\nsono utilizzati principalmente per preparare film sottili di semiconduttori composti altamente uniformi, ampiamente applicati nei film sottili funzionali optoelettronici e nella ricerca sui materiali correlati.<\/p>\n<p>Siamo in grado di fornire target di sputtering con diversi rapporti elementari, dimensioni e strutture e supportiamo <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/servizio\/personalizzazione\/\">la personalizzazione<\/a><\/span><br \/>\nin base ai requisiti di processo. <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/contatto\/\">Contattateci<\/a><\/span><br \/>\nper trovare la soluzione pi\u00f9 adatta alle vostre esigenze.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n<p>Stechiometria multi-elemento stabile<br \/>\nElevata densit\u00e0 del bersaglio<br \/>\nVelocit\u00e0 di sputtering uniforme<br \/>\nBuona uniformit\u00e0 della composizione del film<br \/>\nAdatto per processi di deposizione continua<br \/>\nSupporta lo sviluppo di strutture complesse a film sottile<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazioni del bersaglio per sputtering in rame, indio, gallio e selenio<\/span><\/h2>\n<p>Preparazione dello strato assorbente <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/applicazione\/solare-fotovoltaico\/\">solare<\/a><\/span><br \/>\na film sottile: questo bersaglio \u00e8 comunemente utilizzato per depositare strati assorbenti funzionali e l&#8217;ottimizzazione delle prestazioni e la verifica strutturale possono essere ottenute attraverso la regolazione della composizione.<br \/>\nRicerca sui film sottili funzionali optoelettronici: i film sottili preparati mediante processi di sputtering sono adatti per testare aspetti chiave delle prestazioni come l&#8217;assorbimento della luce e la risposta elettrica. Esplorazione dei processi dei materiali<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/applicazione\/materiali-per-semiconduttori\/\">semiconduttori<\/a><\/span><br \/>\n: nei sistemi a semiconduttori composti, questo materiale aiuta a studiare l&#8217;impatto dei parametri di deposizione sulla qualit\u00e0 dei film sottili.<\/p>\n<h2><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/azienda\/domande-frequenti\/\"><span style=\"font-size: 14pt;\">Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n<p>D1: Il rapporto tra gli elementi pu\u00f2 essere regolato in base ad applicazioni specifiche?<br \/>\nR1: S\u00ec, la composizione del target pu\u00f2 essere progettata e realizzata in base ai requisiti del film sottile target.<\/p>\n<p>D2: Il target \u00e8 soggetto a deviazioni compositive durante la polverizzazione?<br \/>\nR2: Entro un intervallo di processo ragionevole, la composizione del film mantiene una buona stabilit\u00e0.<\/p>\n<p>D3: \u00c8 pi\u00f9 adatto alla polverizzazione DC o RF?<br \/>\nR3: \u00c8 compatibile con pi\u00f9 modalit\u00e0 di polverizzazione; la modalit\u00e0 specifica deve essere selezionata in base alle condizioni dell&#8217;apparecchiatura.<\/p>\n<p>Q4: Quali aspetti devono essere considerati durante lo stoccaggio e il trasporto del bersaglio?<br \/>\nA4: Si consiglia l&#8217;imballaggio sottovuoto o in gas inerte per evitare umidit\u00e0 e urti meccanici.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Report<\/span><\/h2>\n<p>Ogni lotto viene fornito con:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/certificato-di-analisi\/\"><u>Certificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/scheda-tecnica\/\"><u>Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/scheda-di-sicurezza\/\"><u>Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n<p>Abbiamo accumulato un&#8217;esperienza sistematica nella preparazione e nel controllo qualit\u00e0 dei bersagli di sputtering per semiconduttori composti. Dalla progettazione della composizione e dalla sinterizzazione al collaudo del prodotto finito, disponiamo di processi maturi per fornire ai clienti una consistenza dei materiali stabile e affidabile, capacit\u00e0 di personalizzazione flessibili e una garanzia di consegna continuamente controllabile, a supporto dell&#8217;efficiente avanzamento della ricerca scientifica e dei progetti industriali.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Target di sputtering in rame indio gallio seleniuro Panoramica I target di sputtering in rame indio gallio seleniuro sono utilizzati principalmente per preparare film sottili di semiconduttori composti altamente uniformi, ampiamente applicati nei film sottili funzionali optoelettronici e nella ricerca sui materiali correlati. 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