{"id":30948,"date":"2025-12-19T16:46:50","date_gmt":"2025-12-19T08:46:50","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/ossido-rameico-ii\/"},"modified":"2025-12-19T16:46:50","modified_gmt":"2025-12-19T08:46:50","slug":"ossido-rameico-ii","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ossido-rameico-ii\/","title":{"rendered":"Ossido rameico (II)"},"content":{"rendered":"

Target per sputtering di ossido rameico Panoramica<\/span><\/h2>\n

I target per sputtering
\ndi ossido rameico<\/a><\/span>
\nsono materiali inossidabili utilizzati per la deposizione di film sottili, principalmente nei campi dei film sottili elettronici, dei rivestimenti funzionali e della ricerca sui materiali correlati.<\/p>\n

Offriamo target per sputtering di ossido di rame ad alta densit\u00e0 e composizione stabile, disponibili in varie dimensioni e strutture. Contattateci<\/a><\/span>
\nper informazioni tecniche<\/a><\/span>
\ne soluzioni personalizzate<\/a><\/span>
\n.<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Composizione di fase stabile
\nTarget denso e uniforme
\nProcesso di sputtering regolare
\nBuona ripetibilit\u00e0 del film
\nFinitura superficiale fine
\nOpzioni di incollaggio e backplane opzionali
\nCompatibile con varie apparecchiature<\/p>\n

Applicazioni dei target per sputtering di ossido rameico<\/span><\/h2>\n

Preparazione di film sottili elettronici e funzionali: questo target pu\u00f2 essere utilizzato per depositare film sottili di ossido con propriet\u00e0 elettriche e fisiche stabili, adatti a vari progetti di strutture elettroniche.
\nMateriali per sensori e dispositivi: nei sensori e nei dispositivi correlati, pu\u00f2 essere utilizzato per costruire strati di film sottili funzionali con elevati requisiti di uniformit\u00e0 nella composizione dei materiali.
\nIngegneria delle superfici e rivestimenti funzionali: formazione di rivestimenti di ossido ben adesivi attraverso processi di sputtering per la modifica delle superfici e la messa a punto delle prestazioni.
\nLavorazione dei materiali e ricerca fondamentale: ampiamente utilizzato negli istituti di ricerca per studiare la struttura dei film sottili, le condizioni di formazione dei film e le relazioni tra le prestazioni.<\/p>\n

Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Quali metodi di sputtering sono adatti per i target di sputtering di ossido di rame (II)?
\nR1: Possono essere utilizzati per i comuni metodi di sputtering DC o RF, a seconda dei requisiti dell’apparecchiatura e dell’abbinamento del processo.<\/p>\n

D2: La densit\u00e0 del target influisce sulle prestazioni?
\nA2: Una densit\u00e0 pi\u00f9 elevata contribuisce a migliorare la stabilit\u00e0 della polverizzazione e l’uniformit\u00e0 del film.<\/p>\n

D3: Supportate target di dimensioni o strutture diverse?
\nA3: Siamo in grado di fornire prodotti di diverse dimensioni, spessori e strutture in base ai requisiti delle apparecchiature.<\/p>\n

D4: Quali precauzioni devono essere prese durante lo stoccaggio dei target?
\nA4: Si consiglia di conservarli in un contenitore sigillato per evitare umidit\u00e0 e contaminazione, al fine di mantenere le condizioni della superficie del target.<\/p>\n

Rapporti<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Ci concentriamo sulla produzione e sul controllo qualit\u00e0 dei target di sputtering di ossidi inorganici, ponendo l’accento sull’uniformit\u00e0 dei materiali, la precisione di lavorazione e la stabilit\u00e0 di consegna, per fornire ai clienti soluzioni di deposizione di film sottili pi\u00f9 affidabili e facilmente valutabili.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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