{"id":30796,"date":"2025-12-19T16:46:51","date_gmt":"2025-12-19T08:46:51","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/lega-di-rame-e-silicio\/"},"modified":"2025-12-19T16:46:51","modified_gmt":"2025-12-19T08:46:51","slug":"lega-di-rame-e-silicio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/lega-di-rame-e-silicio\/","title":{"rendered":"Lega di rame e silicio"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Target di sputtering in lega di rame e silicio Panoramica<\/span><\/h2>\n<p>I target di sputtering in lega<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=name&#038;keyword=Copper+Silicon\">di rame e silicio<\/a><\/span><br \/>\nsono target di rivestimento in lega di rame e silicio utilizzati principalmente per il deposito di film funzionali ad alte prestazioni su componenti microelettronici e resistenti all&#8217;usura.<\/p>\n<p>Produciamo target in lega con composizione precisa e microstruttura uniforme. <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/contatto\/\">Contattateci<\/a><\/span><br \/>\nper documentazione <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/servizio\/assistenza-tecnica\/\">tecnica<\/a><\/span><br \/>\ndettagliata e informazioni sui campioni.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n<p>Forma strati di siliciuro a bassa resistenza<br \/>\nRivestimenti densi e fortemente legati<br \/>\nEccellente resistenza all&#8217;usura e all&#8217;ossidazione<br \/>\nStruttura del target uniforme e stabile<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazioni dei target di sputtering in lega di rame e silicio<\/span><\/h2>\n<p>Interconnessioni microelettroniche: fungono da materiale di contatto o strato barriera di diffusione nei dispositivi a semiconduttori, garantendo connessioni circuitali stabili e affidabili.<br \/>\nRivestimenti protettivi resistenti all&#8217;usura: applicati agli utensili da taglio e ai componenti meccanici critici per migliorare significativamente la resistenza all&#8217;usura e all&#8217;ossidazione ad alta temperatura.<br \/>\nFotovoltaico e display: funge da materiale per elettrodi per celle <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/applicazione\/solare-fotovoltaico\/\">solari<\/a><\/span><br \/>\na film sottile o per il deposito di film conduttivi in alcune tecnologie di visualizzazione.<br \/>\nPellicole resistive di precisione: utilizzati per fabbricare elementi resistivi a film sottile con eccellente stabilit\u00e0 termica e alta precisione.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Domande frequenti<\/span><\/h2>\n<p>D1: Quali sono i componenti principali del film formato dai target di rame-silicio?<br \/>\nR1: Principalmente composti di rame-silicio a bassa resistenza (siliciuri) formati attraverso trattamenti termici successivi o reazioni in situ, che presentano eccellente conduttivit\u00e0 e stabilit\u00e0 termica.<\/p>\n<p>D2: In che modo il contenuto di silicio influisce sulle propriet\u00e0 del film?<br \/>\nR2: Il contenuto di silicio influenza direttamente il tipo di siliciuro formato, nonch\u00e9 la resistivit\u00e0, la durezza e la stabilit\u00e0 termica del film. \u00c8 necessaria una formulazione precisa in base agli obiettivi specifici dell&#8217;applicazione.<\/p>\n<p>D3: Qual \u00e8 la conduttivit\u00e0 di questo film?<br \/>\nR3: Il film di composto di rame-silicio risultante presenta una buona conduttivit\u00e0 con una resistivit\u00e0 compresa tra i livelli metallici e quelli dei semiconduttori, rendendolo adatto a specifiche applicazioni elettroniche.<\/p>\n<p>Q4: Quali sono i principali vantaggi rispetto ai target in rame puro?<br \/>\nA4: I vantaggi principali risiedono nella capacit\u00e0 del silicio di sopprimere efficacemente la diffusione degli atomi di rame, migliorare la stabilit\u00e0 termica e la resistenza all&#8217;ossidazione e consentire la formazione di siliciuri funzionali attraverso reazioni chimiche.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Report<\/span><\/h2>\n<p>Ogni lotto viene fornito con:<br \/>\n<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/certificato-di-analisi\/\"><u>Certificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/scheda-tecnica\/\"><u>Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/documenti\/scheda-di-sicurezza\/\"><u>Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span><br \/>\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n<p>Siamo specializzati nella ricerca e sviluppo e nella produzione di target in lega ad alte prestazioni. Grazie alla nostra profonda conoscenza della scienza dei materiali e alle nostre capacit\u00e0 di produzione di precisione, garantiamo prestazioni eccezionali dei prodotti e uniformit\u00e0 tra i lotti. Impegnati a fornire soluzioni tecniche professionali e un&#8217;affidabile garanzia di fornitura, siamo il vostro partner di fiducia.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Target di sputtering in lega di rame e silicio Panoramica I target di sputtering in lega di rame e silicio sono target di rivestimento in lega di rame e silicio utilizzati principalmente per il deposito di film funzionali ad alte prestazioni su componenti microelettronici e resistenti all&#8217;usura. 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