{"id":29446,"date":"2025-12-25T09:34:30","date_gmt":"2025-12-25T01:34:30","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/ferrite-di-nichel-ossido-di-nichel-e-ferro\/"},"modified":"2025-12-25T09:34:30","modified_gmt":"2025-12-25T01:34:30","slug":"ferrite-di-nichel-ossido-di-nichel-e-ferro","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ferrite-di-nichel-ossido-di-nichel-e-ferro\/","title":{"rendered":"Ferrite di nichel (ossido di nichel e ferro)"},"content":{"rendered":"

Panoramica sui target di sputtering in ossido di nichel-ferro<\/span><\/h2>\n

I target di sputtering
\nin ossido di nichel-ferro<\/a><\/span>
\nsono target in ossido con struttura spinellica utilizzati principalmente per la deposizione di film sottili di ossido magnetico e strati funzionali correlati.<\/p>\n

Offriamo target di sputtering in NiFe2O4 ad alta densit\u00e0 e composizione stabile, personalizzabili in termini di dimensioni e struttura. Contattateci<\/a><\/span>
\nper i parametri tecnici.<\/p>\n

Caratteristiche principali del prodotto<\/span><\/h2>\n

Struttura stabile in fase spinello
\nElevata densit\u00e0 del bersaglio
\nBuona uniformit\u00e0 della composizione del film
\nAdatto per processi di sputtering di ossidi
\nBuona stabilit\u00e0 termica
\nBonding<\/a><\/span>
\ne backplane personalizzabili
\nSupporto alla personalizzazione della lavorazione<\/p>\n

Applicazioni del bersaglio per sputtering di ossido di nichel-ferro<\/span><\/h2>\n

Film sottili di ossido magnetico: comunemente utilizzati per la deposizione di film sottili magnetici a base di ferrite, adatti per applicazioni che richiedono un’elevata stabilit\u00e0 e ripetibilit\u00e0 della risposta magnetica.
\nDispositivi elettronici e funzionali: utilizzati per formare strati funzionali di ossido con specifiche propriet\u00e0 magnetoelettriche in alcuni dispositivi elettronici e materiali funzionali.
\nMateriali di rilevamento e controllo magnetico: possono essere utilizzati nella preparazione di film sottili di materiali sensibili al magnetismo o di controllo correlati, soddisfacendo i requisiti di struttura e prestazioni controllabili del film.
\nRicerca e sviluppo di processi: adatto per l’uso sperimentale in istituti di ricerca per il controllo della struttura dei film sottili di ossido, l’ottimizzazione dei parametri di sputtering e l’esplorazione di nuovi materiali.<\/p>\n

Domande frequenti<\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

D1: Quale metodo di sputtering \u00e8 adatto per i target di sputtering NiFe2O4?
\nR1: Pu\u00f2 essere utilizzato nei processi di sputtering magnetron convenzionali. Il metodo specifico deve essere confermato in base alle condizioni dell’attrezzatura.<\/p>\n

D2: Il bersaglio richiede un pretrattamento speciale?
\nR2: Di solito non \u00e8 necessario alcun pretrattamento complesso; \u00e8 sufficiente il funzionamento convenzionale del bersaglio di ossido.<\/p>\n

D3: La composizione del film depositato \u00e8 stabile?
\nR3: Con parametri di processo ragionevoli, la composizione del film mantiene una buona consistenza con il bersaglio.<\/p>\n

D4: Supportate specifiche di piccole dimensioni per uso di ricerca?
\nR4: S\u00ec, possiamo fornire varie opzioni di dimensioni adatte alle fasi di ricerca e sviluppo e sperimentali.<\/p>\n

Rapporti<\/span><\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda tecnica (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Scheda di sicurezza (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapporto di controllo delle dimensioni
\nRapporti di test di terze parti disponibili su richiesta<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/span><\/h2>\n

Abbiamo una vasta esperienza nella preparazione e nella lavorazione di target di sputtering di ossido, ponendo l’accento sulla stabilit\u00e0 strutturale, l’adattabilit\u00e0 del processo e la coerenza della qualit\u00e0, in grado di fornire un supporto affidabile per le applicazioni di film sottili magnetici e dispositivi funzionali.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Panoramica sui target di sputtering in ossido di nichel-ferro I target di sputtering in ossido di nichel-ferro sono target in ossido con struttura spinellica utilizzati principalmente per la deposizione di film sottili di ossido magnetico e strati funzionali correlati. Offriamo target di sputtering in NiFe2O4 ad alta densit\u00e0 e composizione stabile, personalizzabili in termini di […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":29447,"template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[132],"product_cat":[453],"product_tag":[2623],"class_list":{"0":"post-29446","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_brand-ulpmat","7":"product_cat-target-di-sputtering-in-ceramica","8":"product_tag-target-di-sputtering-in-ferrite-di-nichel-ossido-di-nichel-e-ferro","10":"first","11":"instock","12":"shipping-taxable","13":"product-type-variable"},"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/29446","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/29447"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=29446"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=29446"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=29446"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=29446"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}