{"id":24444,"date":"2025-11-10T14:59:25","date_gmt":"2025-11-10T06:59:25","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/fosfuro-di-indio-2\/"},"modified":"2025-11-10T14:59:25","modified_gmt":"2025-11-10T06:59:25","slug":"fosfuro-di-indio-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/fosfuro-di-indio-2\/","title":{"rendered":"Fosfuro di indio"},"content":{"rendered":"

Panoramica dei target di sputtering al fosfuro di indio<\/strong><\/span><\/h2>\n

Il target disputtering alfosfuro di indio<\/a><\/span> (InP)<\/span>\u00e8 un materiale semiconduttore composto di elevata purezza noto per le sue eccellenti propriet\u00e0 elettroniche e optoelettroniche. \u00c8 ampiamente utilizzato nei dispositivi elettronici ad alta velocit\u00e0, nei componenti fotonici, nei diodi laser e nella deposizione di film sottili avanzati. Grazie alla mobilit\u00e0 superiore dei portatori, all’ampio bandgap diretto e all’elevata stabilit\u00e0 termica, i target di sputtering InP sono ideali per la produzione di film semiconduttori ad alte prestazioni nei sistemi di comunicazione e fotonici.<\/p>\n

I nostri target di sputtering InP sono realizzati con materiale di fosfuro di indio di elevata purezza (99,99%), caratterizzato da una microstruttura densa, da un controllo preciso della composizione e da un’eccellente uniformit\u00e0, che garantisce prestazioni di sputtering stabili sia per la ricerca e sviluppo che per la produzione su scala industriale.<\/p>\n

Caratteristiche principali dei target di sputtering al fosfuro di indio (InP)<\/strong><\/span><\/h2>\n

Elevata purezza: 99,99% di purezza per film sottili di alta qualit\u00e0 e con pochi difetti.<\/p>\n

Densit\u00e0 uniforme: Pressato a caldo sotto vuoto e trattato HIP per una struttura a grana fine e una bassa porosit\u00e0.<\/p>\n

Eccellenti propriet\u00e0 elettriche e ottiche: Semiconduttore a bandgap diretto adatto ad applicazioni optoelettroniche.<\/p>\n

Prestazioni stabili di sputtering: Spessore uniforme del film e composizione coerente.<\/p>\n

Dimensioni personalizzabili: Disponibili in diametri, spessori e configurazioni standard e personalizzati (planari o rotanti).<\/p>\n

Applicazioni del target di sputtering al fosfuro di indio (InP)<\/strong><\/span><\/h2>\n

Dispositivioptoelettronici<\/a> <\/span>: Per diodi laser, fotorivelatori e componenti di comunicazione ottica.<\/p>\n

Elettronica ad alta frequenza: Utilizzato in HEMT, circuiti integrati e transistor ad alta velocit\u00e0.<\/p>\n

Deposizione di film sottili: Adatto ai sistemi di rivestimento per sputtering magnetronico ed evaporazione.<\/p>\n

Ricerca<\/span>sui semiconduttori<\/a><\/span>: Materiale di base per la ricerca sui semiconduttori composti III-V e per lo sviluppo di nanostrutture.<\/p>\n

Perch\u00e9 scegliere noi?<\/strong><\/span><\/h2>\n

Produttore professionale: Specializzato in bersagli per sputtering di elevata purezza e materiali per semiconduttori.<\/p>\n

Garanzia di elevata purezza: Prodotti utilizzando raffinati processi di sintesi e fusione a zone.<\/p>\n

Opzioni personalizzabili: Sono disponibili varie forme (disco, rettangolo, anello) e servizi di incollaggio.<\/p>\n

Controllo di qualit\u00e0 rigoroso: Verificato mediante analisi ICP-MS e XRD per verificare la purezza e la coerenza delle fasi.<\/p>\n

Fornitura globale: Imballaggio sicuro, logistica mondiale e assistenza tecnica per i clienti internazionali.<\/p>\n

Documentazione completa: COA, TDS e MSDS forniti con ogni lotto.<\/p>\n

Domande frequenti<\/strong><\/span><\/a><\/span><\/h2>\n

F1. Qual \u00e8 la purezza standard del vostro target di sputtering InP?
A1. La purezza standard \u00e8 del 99,999% (5N). Gradi superiori e specifiche personalizzate sono disponibili su richiesta.<\/p>\n

F2. Quali sono le dimensioni e le forme disponibili?
A2. Offriamo bersagli planari (circolari o rettangolari) e rotanti, personalizzabili per dimensioni e spessore in base alla vostra attrezzatura.<\/p>\n

F3. Potete fornire servizi di incollaggio?
A3. S\u00ec, su richiesta forniamo l’incollaggio di indio o elastomero alle piastre di supporto.<\/p>\n

F4. Quali metodi di deposizione sono compatibili con i target InP?
A4. Adatto per sistemi di sputtering magnetronico DC\/RF e di evaporazione sotto vuoto.<\/p>\n

F5. Quali sono le raccomandazioni per lo stoccaggio?
A5. Conservare in un’atmosfera asciutta e inerte o in una confezione sigillata sotto vuoto per evitare l’ossidazione e l’esposizione all’umidit\u00e0.<\/p>\n

Rapporti<\/h2>\n

Ogni lotto viene fornito con:
\nCertificato di analisi (COA)<\/a><\/span>
\nScheda tecnica (TDS)<\/a><\/span>
\nScheda di sicurezza (MSDS)<\/a><\/span>
\nI rapporti di test di terze parti sono disponibili su richiesta.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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