{"id":20335,"date":"2025-09-30T16:33:23","date_gmt":"2025-09-30T08:33:23","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/ossido-di-bismuto-ferro-e-titanio\/"},"modified":"2025-09-30T16:33:23","modified_gmt":"2025-09-30T08:33:23","slug":"ossido-di-bismuto-ferro-e-titanio","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/ossido-di-bismuto-ferro-e-titanio\/","title":{"rendered":"Ossido di bismuto, ferro e titanio"},"content":{"rendered":"

Panoramica dei target di sputtering all’ossido di bismuto, ferro e titanio<\/span><\/h2>\n

L’ossido di bismuto, ferro e titanio<\/a><\/span> il target sputtering \u00e8 un materiale ossido funzionale multifunzionale che combina le eccellenti propriet\u00e0 di titanio, ferro e bismuto ed \u00e8 adatto a varie applicazioni avanzate di film sottile. La sua struttura cristallina favorisce la visualizzazione di caratteristiche multiferroiche, di risposta elettro-ottica e di altre caratteristiche ed \u00e8 ampiamente utilizzata nella ricerca e nella produzione di dispositivi ferroelettrici, componenti optoelettronici e nuove memorie. Controlliamo rigorosamente il rapporto di composizione e la microstruttura per garantire la stabilit\u00e0 della composizione delle fasi e l’uniformit\u00e0 del film durante il processo di deposizione.<\/p>\n

Forniamo bersagli BiFeTiO3 rotondi, rettangolari e di altre forme speciali, che possono essere personalizzati in base alle dimensioni richieste dal cliente. Allo stesso tempo, forniamo anche un’assistenza tecnica affidabile e un servizio di assistenza post-vendita<\/a><\/span> servizio post-vendita, vi invitiamo a chiedere informazioni.<\/p>\n

Caratteristiche del prodotto<\/span><\/h2>\n

Purezza: 99,9%
\nAlta densit\u00e0, eccellente uniformit\u00e0 del film
\nDimensioni, forma e metodo di connessione personalizzabili
\n\u00c8 possibile fornire un servizio di rilegatura degli obiettivi
\nApplicabile a memorie ferroelettriche, sensori ottici, modulatori elettro-ottici e altri campi<\/p>\n

Applicazione del target di sputtering in ossido di titanio e ferro di bismuto <\/span><\/h2>\n

Dispositivi multiferroici: Il film sottile BiFeTiO3 ha la doppia propriet\u00e0 ferroelettrica e ferromagnetica ed \u00e8 un materiale importante per la ricerca di nuove memorie non volatili.
\nDispositivi ferroelettrici a film sottile: Le sue eccellenti propriet\u00e0 ferroelettriche lo rendono adatto per le memorie ferroelettriche ad accesso casuale (FeRAM) e per le strutture dei condensatori.
\nStrato funzionale optoelettronico: Grazie all’ampio bandgap, alla polarizzazione regolabile e alle propriet\u00e0 ottiche non lineari, \u00e8 adatto per dispositivi di modulazione ottica e di fotorivelazione.
\nMicroelettronica e spintronica: Strato funzionale utilizzato in nuovi dispositivi logici o sistemi di memorizzazione delle informazioni.<\/p>\n

Rapporti<\/span><\/h2>\n

Forniamo certificati di analisi (COA) dettagliati, schede di sicurezza dei materiali (MSDS) e relativi rapporti di prova per ogni lotto di target BiFeTiO3. Se richiesto, possono essere forniti anche rapporti di test di terze parti per garantire che la composizione, la struttura e le prestazioni del materiale soddisfino gli standard del cliente.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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