{"id":17649,"date":"2025-10-20T17:39:54","date_gmt":"2025-10-20T09:39:54","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/tantalio-metallico\/"},"modified":"2025-10-20T17:39:54","modified_gmt":"2025-10-20T09:39:54","slug":"tantalio-metallico","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/it\/prodotto\/tantalio-metallico\/","title":{"rendered":"Tantalio metallico"},"content":{"rendered":"<h2 data-start=\"174\" data-end=\"216\"><span style=\"font-size: 14pt;\"><strong data-start=\"177\" data-end=\"216\">Panoramica dell&#8217;anello metallico di tantalio<\/strong><\/span><\/h2>\n<p data-start=\"218\" data-end=\"776\">I<strong data-start=\"218\" data-end=\"254\">target<span style=\"color: #0000ff;\">anulari<a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/ricerca\/?type=name&#038;keyword=Tantalum+metal\">in tantalio metallico<\/a> <\/span>(Ta) <\/strong> sono materiali per sputtering ad alte prestazioni noti per l&#8217;<strong data-start=\"313\" data-end=\"409\">eccellente resistenza alla corrosione, l&#8217;elevato punto di fusione (3017\u00b0C) e l&#8217;eccezionale uniformit\u00e0 del film<\/strong>. Questi target sono ampiamente utilizzati nella <strong data-start=\"444\" data-end=\"517\">fabbricazione di semiconduttori, rivestimenti ottici e deposizione di film sottili<\/strong> per dispositivi elettronici e fotonici di fascia alta.<\/p>\n<p data-start=\"218\" data-end=\"776\">Forniamo <strong data-start=\"586\" data-end=\"646\">obiettivi ad anello di tantalio di elevata purezza 99,99% <\/strong>con dimensioni personalizzate e controllo preciso della microstruttura per garantire prestazioni di sputtering costanti e una lunga durata dell&#8217;obiettivo.<\/p>\n<h2 data-start=\"218\" data-end=\"776\"><span style=\"font-size: 14pt;\">Caratteristiche del prodotto<\/span><\/h2>\n<p data-start=\"1296\" data-end=\"1396\"><strong data-start=\"1296\" data-end=\"1328\">Eccezionale uniformit\u00e0 del film:<\/strong> La microstruttura a grana fine garantisce tassi di sputtering omogenei.<\/p>\n<p data-start=\"1399\" data-end=\"1501\"><strong data-start=\"1399\" data-end=\"1439\">Elevata stabilit\u00e0 termica e chimica:<\/strong> Stabile in ambienti ad alta temperatura e sotto vuoto.<\/p>\n<p data-start=\"1504\" data-end=\"1586\"><strong data-start=\"1504\" data-end=\"1540\">Basso contenuto di ossigeno e impurit\u00e0:<\/strong> Migliora l&#8217;adesione e riduce i difetti del film.<\/p>\n<p data-start=\"1589\" data-end=\"1680\"><strong data-start=\"1589\" data-end=\"1620\">Supporto tecnico personalizzato:<\/strong> Progetti di target su misura per i sistemi di sputtering magnetronico.<\/p>\n<p data-start=\"1683\" data-end=\"1780\"><strong data-start=\"1683\" data-end=\"1705\">Lunga durata:<\/strong> La densit\u00e0 e la resistenza meccanica ottimizzate riducono al minimo l&#8217;erosione e la fessurazione.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\"><strong data-start=\"1790\" data-end=\"1806\">Applicazioni di <\/strong><\/span><strong data-start=\"177\" data-end=\"216\"><span style=\"font-size: 14pt;\">Obiettivo ad anello in metallo tantalio<\/span> <\/strong><\/h2>\n<p data-start=\"1810\" data-end=\"1906\"><strong data-start=\"1810\" data-end=\"1837\">Industria<span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/applicazione\/materiali-per-semiconduttori\/\">dei semiconduttori<\/a><\/span>:<\/strong> Barriere di diffusione, elettrodi di condensatori e strati di interconnessione.<\/p>\n<p data-start=\"1909\" data-end=\"1996\"><strong data-start=\"1909\" data-end=\"1929\">Optoelettronica:<\/strong> Rivestimenti ottici per film ad alta riflettivit\u00e0 e anticorrosione.<\/p>\n<p data-start=\"1999\" data-end=\"2090\"><strong data-start=\"1999\" data-end=\"2024\">Aerospaziale ed energetico:<\/strong> Rivestimenti funzionali per componenti strutturali ad alte prestazioni.<\/p>\n<p data-start=\"2093\" data-end=\"2184\"><strong data-start=\"2093\" data-end=\"2122\">Ricerca e sviluppo:<\/strong> Ricerca sui materiali avanzati, sintesi di film nanostrutturati.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\"><strong data-start=\"2194\" data-end=\"2223\">Rapporti <\/strong><\/span><\/h2>\n<p>Ogni lotto di bersagli anulari al tantalio di ULPMAT viene fornito con:<\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/it\/servizio\/analisi-chimica\/\">Certificato di analisi (COA)<\/a><\/span><\/p>\n<p>Dati di ispezione della granulometria e della densit\u00e0<\/p>\n<p>Risultati dei test di finitura superficiale e planarit\u00e0<\/p>\n<p>Opzionale: Analisi delle impurit\u00e0 in traccia GDMS e test di uniformit\u00e0 del film<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Panoramica dell&#8217;anello metallico di tantalio Itargetanulariin tantalio metallico (Ta) sono materiali per sputtering ad alte prestazioni noti per l&#8217;eccellente resistenza alla corrosione, l&#8217;elevato punto di fusione (3017\u00b0C) e l&#8217;eccezionale uniformit\u00e0 del film. 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